JP2010165669A5 - 発光装置の作製方法 - Google Patents

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  1. 第１の吸収層と第１の反射層を有する第１のマスク層と、第２の吸収層と第２の反射層を有する第２のマスク層を有し、前記第１のマスク層と前記第２のマスク層上に有機物層が形成された第１の基板を、
    陽極あるいは陰極の一方である第１の電極を形成した第２の基板の被成膜面が対向するように配置し、
    前記第１の基板の、前記有機物層を形成した面と反対側から光を照射することにより、前記第１の吸収層及び第２の吸収層の上の前記有機物層を昇華させ、
    前記第１の吸収層及び第２の吸収層の上の有機物層を昇華させることにより、前記第２の基板上に、前記第１のマスク層に対応する第１の画素に第１の転写層、及び、前記第２のマスク層に対応する第２の画素に第２の転写層を成膜する発光装置の作製方法であって、
    前記第１の転写層は、前記第２の転写層と接する領域を有し、
    前記第１の転写層の膜厚は、前記第２の転写層の膜厚より厚く、
    前記第１の吸収層の面積は、前記第２の吸収層の面積より大きいことを特徴とする発光装置の作製方法。
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