JP7117081B2 - 防塵レンズ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)ガラスレンズの表面に、少なくとも、導電性膜が形成されている。
(2)導電性膜は、TiO2及びTi3O5の少なくとも一方からなる酸化チタンの単層、或いは、前記酸化チタンを50%以上含む混合層で形成されている。
(3)導電性膜の膜厚は、1nm以上である。
(4)導電性膜の面内方向の結晶粒径は、200nm以上である。
図2に示す第1実施形態では、ガラスレンズ2の表面に、導電性膜3の単層膜が形成されている。このように、図2では、導電性膜3が、ガラスレンズ2の表面に直接形成され、ガラスレンズ2と導電性膜3のみで構成されている。ただし、導電性膜3とガラスレンズ2と間に、密着性や導電性膜3の結晶性を向上させるための下地層(図示せず)が介在する形態も、第1実施形態に含まれる。
図3に示す第2実施形態では、ガラスレンズ2の表面に、導電性膜3を含む反射防止膜4が形成されている。反射防止膜4を構成する各膜は、いずれも透明性に優れた材料である。
図2に示す第1実施形態の防塵レンズの製造方法について説明する。図2に示す防塵レンズ1では、ガラスレンズ2の表面に、導電性膜3を成膜する。このとき、導電性膜3を、TiO2及びTi3O5の少なくとも一方からなる酸化チタンの単層、或いは、前記酸化チタンを50%以上含む混合層にて、1nm以上の膜厚で成膜する。また、この際、導電性膜3の面内方向の結晶粒径が200nm以上となるように形成する。
なお、上記した防塵レンズの製造方法では、導電性膜3を、蒸着法にて成膜したが、スパッタ法で成膜することもできる。
実施例1では、以下の表1に示す材料を用い、表1に示す基板加熱温度にて、反射防止膜を成膜し、表1に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。なお、ガラスレンズの屈折率nd(d線(588nm)での屈折率)は、1.85135であった。ガラスレンズの屈折率ndは、実施例2から実施例6及び比較例1においても同様である。ここで、各層の屈折率は、膜の反射率から換算して求めた(大気中の膜の屈折率に該当)。具体的には、大気中に取り出した基板を、オリンパス(株)製の顕微鏡型分光測定機(USPM―RU3)にて反射率を測定し、屈折率に換算して求めた。なお、屈折率は、波長550nmにおけるものである。また、膜厚は、例えば、断面TEM写真を用いて測定することができる。上記の屈折率、及び膜厚の測定は、実施例2から実施例6及び比較例1においても同様である。
実施例2では、以下の表2に示す材料を用い、表2に示す基板加熱温度にて、反射防止膜を成膜し、表2に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
実施例3では、以下の表3に示す材料を用い、表3に示す基板加熱温度にて、導電性膜を成膜し、表3に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
実施例4では、以下の表4に示す材料を用い、表4に示す基板加熱温度にて、反射防止膜を成膜し、表4に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
実施例5では、以下の表5に示す材料を用い、表5に示す基板加熱温度にて、反射防止膜を成膜し、表5に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
実施例6では、以下の表6に示す材料を用いて、反射防止膜を成膜し、表6に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
比較例1では、以下の表7に示す材料を用い、表7に示す基板加熱温度にて、反射防止膜を成膜し、表7に示す膜厚及び屈折率を有する防塵レンズを得た。
各実施例及び比較例の各膜の表面抵抗を、三菱化学製ハイレスタ-UXを用いて測定した。
実施例1の表面抵抗は、3.84×1010(Ω/□)、実施例2の表面抵抗は、2.00×1010(Ω/□)、実施例3の表面抵抗は、1.80×1010(Ω/□)、実施例4の表面抵抗は、4.00×1010(Ω/□)、実施例5の表面抵抗は、5.00×1011(Ω/□)、実施例6の表面抵抗は、3.50×1012(Ω/□)、比較例1の表面抵抗は、5.00×1014(Ω/□)であった。
図4は、実施例1の膜表面のSEM写真であり、図5は、図4の一部分を模式的に示した模式図である。図6は、比較例1の膜表面のSEM写真であり、図7は、図6の一部分を模式的に示した模式図である。
2 ガラスレンズ
3 導電性膜
4 反射防止膜
5 低屈折率膜
Claims (3)
- ガラスレンズの表面に、直接、或いは下地層を介した単層膜が形成されており、前記単層膜は、導電性膜であり、
前記導電性膜は、酸化チタンからなり、前記導電性膜は、酸素欠損がないTiO2の単相、或いは、酸素欠損がないTiO2とTi3O5との混相で形成されており、
前記導電性膜の膜厚は、1nm以上であり、
前記導電性膜の面内方向の結晶粒径は、200nm以上であり、
前記ガラスレンズの表面に形成された膜の表面抵抗は、1.80×10 10 (Ω/□)以上10 13 (Ω/□)以下である、ことを特徴とする防塵レンズ。 - ガラスレンズの表面に、少なくとも、導電性膜を形成する工程、を含み、
前記導電性膜を形成する工程では、酸素欠損がないTiO2及びTi3O5の少なくとも一方からなる酸化チタンの単層を、1nm以上の膜厚で、面内方向の結晶粒径が200nm以上となるように形成し、このとき、出発原料としてTi 3 O 5 を用いて蒸着し、前記導電性膜を蒸着法で成膜する際の基板加熱温度を、250℃以上とし、
前記ガラスレンズの表面に形成された膜の表面抵抗は、1.80×10 10 (Ω/□)以上10 13 (Ω/□)以下である、
ことを特徴とする防塵レンズの製造方法。 - 前記導電性膜を成膜する際の酸素ガスを、5.0×10-3Pa以上のガス圧にて導入することを特徴とする請求項2に記載の防塵レンズの製造方法。
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