JP7283273B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気記録再生装置 - Google Patents
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Description
(2)前記第2のシード層は、平均結晶粒径が3nm~12nmの範囲内であることを特徴とする(1)に記載の磁気記録媒体。
(3)前記第2のシード層は、厚さが0.5nm~20nmの範囲内であることを特徴とする(1)または(2)に記載の磁気記録媒体。
(4)前記軟磁性層は、アモルファス構造を有することを特徴とする(1)~(3)の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
(5)(1)~(4)の何れか1項に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、パルス電圧を用いる反応性スパッタリング法により、前記第2のシード層を成膜する工程を含み、前記第2のシード層を成膜する際に、パルス電圧を-300V以下とし、パルス電流を10A以上とし、デューティー比を10%以下とし、ターゲットとして、Alを用い、スパッタガスとして、窒素を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(6)(1)~(4)の何れか1項に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、ホローカソードプラズマを用いる反応性スパッタリング法により、前記第2のシード層を成膜する工程を含み、前記第2のシード層を成膜する際に、ターゲットとして、Alを用い、スパッタガスとして、窒素を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(7)(1)~(4)の何れか1項に記載の磁気記録媒体を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
図1に、本実施形態の磁気記録媒体の構造の一例を示す。
図2に、本実施形態の磁気記録再生装置の一例を示す。
洗浄済みの外径2.5インチのガラス製の非磁性基板(HOYA製)を、DCマグネトロンスパッタリング装置C-3040(アネルバ製)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度が1×10-5Paとなるまで成膜チャンバ内を排気した。
第1のシード層を形成する際に、ターゲットとして、h-BN(実施例2)、WS2(実施例3)、WSe2(実施例4)、グラファイト(実施例5)を用いた以外は、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を得た。
第2のシード層を形成する際に、DCマグネトロンスパッタ法を用いた以外は、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を得た。このとき、投入電力を600Wとし、スパッタリングガス圧を0.6Paとした。
第2のシード層を形成する際に、ホローカソードプラズマを用いる反応性スパッタリング法を用いた以外は、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を得た。このとき、長方形のターゲットを対向して設け、ターゲットに印加する電圧をパルスDCとし、投入電力を1000Wとし、スパッタリングガス圧を0.4Paとした。
第1のシード層を形成しなかった以外は、実施例1、6、7と同様にして、磁気記録媒体を得た。
第2のシード層、下地層、垂直磁気記録層を形成した後の各層のc軸配向性を、X線回折のロッキングカーブの半値幅(Δθ50)[°]を用いて評価した。具体的には、X線回折装置を用いて、各層を形成した後の非磁性基板の表面に対して平行な結晶面を分析し、(002)面に対応するピークを観測した。このとき、Δθ50の値が小さい程、各層のc軸配向性が高い。
2 軟磁性層
3 第1のシード層
4 第2のシード層
5 下地層
6 垂直磁気記録層
7 保護層
10 磁気記録媒体
11 媒体駆動部
12 磁気ヘッド
13 ヘッド駆動部
14 記録再生信号系
100 磁気記録再生装置
Claims (7)
- 非磁性基板上に、軟磁性層、第1のシード層、第2のシード層、下地層、垂直磁気記録層をこの順で有し、
前記第1のシード層は、MoS2、h-BN、WS2、WSe2またはグラファイトを含み、
前記第2のシード層は、六方晶ウルツァイト型の結晶構造を有するAlNを含み、
前記下地層は、Ruを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記第2のシード層は、平均結晶粒径が3nm~12nmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記第2のシード層は、厚さが0.5nm~20nmの範囲内であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性層は、アモルファス構造を有することを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 請求項1~4の何れか1項に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、
パルス電圧を用いる反応性スパッタリング法により、前記第2のシード層を成膜する工程を含み、
前記第2のシード層を成膜する際に、パルス電圧を-300V以下とし、パルス電流を10A以上とし、デューティー比を10%以下とし、ターゲットとして、Alを用い、スパッタガスとして、窒素を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1~4の何れか1項に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、
ホローカソードプラズマを用いる反応性スパッタリング法により、前記第2のシード層を成膜する工程を含み、
前記第2のシード層を成膜する際に、ターゲットとして、Alを用い、スパッタガスとして、窒素を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1~4の何れか1項に記載の磁気記録媒体を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
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