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  1. m×n個のメモリセルでなるメモリセルアレイと、読み出し回路を有する第1の駆動回路と、第2の駆動回路と、を有し、
    前記メモリセルの一は、
    第1のゲート電極、第1のソース電極、第1のドレイン電極、及び第1のチャネル形成領域を含む第1のトランジスタと、
    第2のゲート電極、第2のソース電極、第2のドレイン電極、及び第2のチャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、を有し、
    前記第1のチャネル形成領域は、前記第2のチャネル形成領域とは異なる半導体材料を含
    前記読み出し回路は、負荷と、クロックドインバータと、第3のゲート電極、第3のソース電極、第3のドレイン電極、及び第3のチャネル形成領域を含む第3のトランジスタと、を有し、
    前記クロックドインバータの出力端子は、前記第3のトランジスタの前記第3のソース電極または前記第3のドレイン電極と接続される、半導体装置。
  2. 前記第1のソース電極は、ソース線と接続され、
    前記クロックドインバータの入力端子は、ビット線を介して、前記第1のドレイン電極と、前記第2のドレイン電極と接続され、
    前記第2のゲート電極は、ゲート線を介して、前記第1のゲート電極と、前記第2のソース電極と接続される、請求項1に記載の半導体装置。
  3. m×n個のメモリセルでなるメモリセルアレイと、読み出し回路を有する第1の駆動回路と、第2の駆動回路と、を有し、
    前記メモリセルの一は、
    第1のゲート電極、第1のソース電極、第1のドレイン電極、及び第1のチャネル形成領域を含む第1のトランジスタと、
    第2のゲート電極、第2のソース電極、第2のドレイン電極、及び第2のチャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、
    容量素子と、を有し、
    前記第1のチャネル形成領域は、前記第2のチャネル形成領域とは異なる半導体材料を含
    前記読み出し回路は、負荷と、クロックドインバータと、第3のゲート電極、第3のソース電極、第3のドレイン電極、及び第3のチャネル形成領域を含む第3のトランジスタと、を有し、
    前記クロックドインバータの出力端子は、前記第3のトランジスタの前記第3のソース電極または前記第3のドレイン電極と接続される、半導体装置。
  4. 前記第1のソース電極は、ソース線と接続され、
    前記クロックドインバータの入力端子は、ビット線を介して、前記第1のドレイン電極と、前記第2のドレイン電極と接続され、
    前記第2のゲート電極は、ゲート線と接続され、
    前記容量素子の電極の一方は、容量線と接続され、
    前記容量素子の電極の他方は、前記第1のゲート電極と、前記第2のソース電極と接続される、請求項3に記載の半導体装置。
  5. 前記第1のトランジスタは、pチャネル型トランジスタであり、前記第2のトランジスタは、nチャネル型トランジスタである、請求項1乃至4のいずれか一に記載の半導体装置。
  6. 前記第2のトランジスタの前記第2のチャネル形成領域は、酸化物半導体を含、請求項1乃至5のいずれか一に記載の半導体装置。
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