JP2006522428A - 不揮発性メモリのためのセルフブースト技術 - Google Patents
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Abstract
Description
フラッシュメモリシステムの一例は、NAND構造を用いる。NAND構造は、二つの選択ゲートに挟まれているとともに直列に配列されている複数のトランジスタを含む。この2つの選択ゲートと直列に配列されたトランジスタ群は、NANDストリングと呼ばれる。図1は、1つのNANDストリングの平面図である。図2は、図1の等価回路である。図1と図2が示すNANDストリングは、第1選択ゲート120と第2選択ゲート122に挟まれているとともに直列に配列されている4つのトランジスタ100,102,104,106を含む。選択ゲート120は、NANDストリングをビット線126に接続する。選択ゲート122は、NANDストリングをソース線128に接続する。選択ゲート120は、選択ゲート120のための制御ゲート120CGに適当な電圧を印加することによって制御される。選択ゲート122は、選択ゲート122のための制御ゲート122CGに適当な電圧を印加することによって制御される。トランジスタ100,102,104,106のそれぞれは、制御ゲートとフローティングゲートを有する。例えば、トランジスタ100は、制御ゲート100CGとフローティングゲート100FGを有する。トランジスタ102は、制御ゲート102CGとフローティングゲート102FGを有する。トランジスタ104は、制御ゲート104CGとフローティングゲート104FGを有する。トランジスタ106は、制御ゲート106CGとフローティングゲート106FGを有する。制御ゲート100CGはワード線WL3に接続されている。制御ゲート102CGはワード線WL2に接続されている。制御ゲート104CGはワード線WL1に接続されている。制御ゲート106CGはワード線WL0に接続されている。
図1〜3はNANDストリングのメモリセルを4個示すが、4個のトランジスタを利用することはあくまで例である。NANDストリングは、4個未満又は4個を超えるメモリセルを有することができる。例えば、NANDストリングは、8個、16個、32個等のメモリセルを含むことがある。ここでの説明は、NANDストリングのメモリセル数をいずれの数にも制限しない。
各メモリセルは、データ(アナログ又はデジタル)を記憶することができる。1ビットのデジタルデータを記憶する時、メモリセルの可能な閾電圧の範囲は、論理データ「1」と「0」に指定される2つの範囲に分けられる。NANDタイプのフラッシュメモリの一例では、メモリセルが消去された後の閾電圧は、負であるとともに論理「1」と定義される。プログラミング操作の後の閾電圧は、正であるとともに論理「0」と定義される。閾電圧が負の時に読み取りが行われると、論理「1」が記憶されていると示すようにメモリセルが作動する。閾電圧が正の時に読み取りが行われると、メモリセルは作動せず、それは論理「0」が記憶されていることを示す。さらに、メモリセルは、例えばデジタルデータの複数ビット等の複数レベルの情報を記憶することができる。複数レベルのデータを記憶する場合、可能な閾電圧の範囲は、データのレベル数に分けられる。例えば、4つのレベルの情報が記憶される場合、データ値「11」、「10」、「01」、及び「00」に対応する4つの閾電圧の範囲が存在する。NANDタイプのメモリの一例では、消去操作の後の閾電圧は負であるとともに「11」と定義される。正の閾電圧は、「10」、「01」、「00」の状態のために使われる。
フラッシュメモリセルをプログラミングする場合、制御ゲートにプログラム電圧が印加され、ビット線は接地される。Pウェルからの電子はフローティングゲートに注入される。電子がフローティングゲートに貯まると、フローティングゲートは負に帯電し、セルの閾電圧が上がる。プログラミングされているセルの制御ゲートにプログラム電圧を印加するために、そのプログラム電圧は適当なワード線に印加される。上述したように、そのワード線は、同じワード線を利用する各NANDストリングの1つのセルに接続されている。例えば、図4のセル224をプログラミングする場合、両方のセル224,244が同じワード線を共有しているために、セル244の制御ゲートにもプログラム電圧が印加される。同じワード線に接続されている他のセルをプログラミングしないでそのワード線上の1つのセルをプログラミングしたい場合、例えばセル244をプログラミングしないでセル224をプログラミングしたい場合に問題が生じる。1つのワード線に接続されている全てのセルにプログラム電圧が印加されるために、ワード線上の非選択セル(プログラミングされるべきでないセル)、特にプログラミングされるために選択されたセルに隣接しているセルが、誤ってプログラミングされてしまう可能性がある。例えば、セル244はセル224に隣接している。セル224をプログラミングする場合、セル244が誤ってプログラミングされてしまう可能性がある。選択されたワード線上の非選択セルが誤ってプログラミングされてしまう事象を「プログラミング妨害」と呼ぶ。
プログラミング妨害を阻止するために、いくつかの技術を採用することができる。「セルフブースト」として知られる一つの方法では、非選択ビット線は電気的に絶縁され、プログラミングの間にパス電圧(例えば10V)が非選択ワード線に印加される。非選択ワード線が非選択ビット線と結びつき、非選択ビット線のチャネルに電圧(例えば8V)が存在する結果をもたらす。それによって、プログラミング妨害が減る傾向がある。セルフブーストは、チャネルに電圧ブーストが存在させることを引き起こし、それはトンネル酸化膜に加わる電圧を低くする傾向があり、その結果プログラミング妨害を減らす。
NANDストリングは、通常(必ずではない)、ソース側からドレイン側に、例えばメモリセル228からメモリセル220の側にプログラミングされる。プログラミング処理が、NANDストリングの最後の(又は最後に近い)メモリセルをプログラミングする際に、禁止されているストリング(例えばストリング204)のセル群の全て又はほぼ全てがプログラミングされている場合、それらのプログラミングされたセル群のフローティングゲートに負電荷がある。フローティングゲートの負電荷によって、ブースト電位が十分に高くならず、最後のいくつかのワード線ではプログラミング妨害が起こる可能性がある。例えば、セル222をプログラミングする際にセル248,246,244がプログラミングされていた場合、それぞれのトランジスタ(244,246,248)はフローティングゲートに負電荷を有する。このことはセルフブースト処理のブーストレベルを制限し、セル242にプログラミング妨害をもたらす原因となり得る。
EASBは、ソース側隣接ワード線のみが0Vであることを除けば、LSBと同様である。例えば、WL1は0Vであり、WL3がVpassである。1つの実施形態では、Vpassは7〜10Vである。Vpassが低すぎると、チャネルでブーストしてもプログラミング妨害を阻止するのに不十分である。Vpassが高すぎれば、非選択ワード線がプログラミングされてしまう。
ソース側隣接メモリセルが消去されている場合、フローティングゲートには正の電荷があり、トランジスタの閾電圧はおそらく負である。ワード線に0Vが印加されても、トランジスタが停止しないことがある。メモリセルが作動する場合、NANDストリングはEASBモードで作動しない。むしろ、そのストリングはセルフブーストモードで作動しており、セルフブーストモードには上述した問題がある。このシナリオは、他のソース側セルがプログラミングされている場合に適用される可能性があり、ソース側ブーストを制限する。このことは、短いチャネル長さの場合に問題となる。
プログラミング妨害を阻止するための優れた構造が必要とされる。
本発明の1つの実施例では、記憶素子群のセットのソース側チャネル領域の電位をブーストすることを含んでおり、その記憶素子群のセットは禁止される記憶素子を含んでいる。プログラム電圧は、プログラミングのために選択される記憶素子と禁止される記憶素子に印加される。上記したブーストに加えて、記憶素子群のセットの少なくともサブセットにパス電圧が印加される。1つの実施形態では、プログラミングのために選択される記憶素子は、NANDセル群の第1ストリングの一部であるフラッシュメモリセルである。また、一つの実施形態では、禁止される記憶素子は、NANDセルの第2ストリングの一部であるフラッシュメモリセルである。プログラミングのために選択される記憶素子と禁止される記憶素子の両方が第1ワード線に接続されている。付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のフラッシュメモリセル群に接続している。付加的なワード線群は、ソース側隣接ワード線と、他のソース側ワード線群を含んでいる。ブースト工程は、ソース側隣接ワード線と1つ以上の他のソース側ワード線にプリチャージ電圧を印加することを含んでいる。プリチャージ電圧を印加する工程は、パス電圧を印加する工程の前に開始される。他の実施形態では、ブーストする工程は、第2NANDストリングに対応するソース線に第1プリチャージ電圧を印加することと、ソース線を第2NANDストリングに電気的に接続することを含む。
本発明の装置の1つの実施形態は、プログラミングされる記憶素子を含む「記憶素子群の第1セット」と、禁止される記憶素子を含む「記憶素子群の第2セット」を有する。1つの例では、記憶素子群の第1セットは、フラッシュメモリセル群の第1NANDストリングである。記憶素子群の第2セットは、フラッシュメモリセル群の第2NANDストリングである。記憶素子群の第2セットは、ワード線群にパス電圧をドライブしてセルフブーストすることができることに加え、電位がブーストされたソース側チャネル領域を有することができる。装置は複数のワード線を有する。プログラミング操作の間にプログラム電圧を印加するために、第1ワード線は、プログラミングされる記憶素子と禁止される記憶素子に接続される。他のワード線群には、上記のブーストされた電位に加えて、プログラミング操作の間にソース側チャネル領域の電位を上げるためのパス電圧が印加される。
本発明の上記した目的と他の目的と効果は、以下に示す図と併せて説明される発明の好ましい実施形態においてより明確になる。
メモリセル群に保存されたデータは、縦列制御回路304によって読み取られ、データI/Oバッファ312を介して、外部I/O線に出力される。メモリセル群に保存されるプログラミングデータは、外部I/O線を介して、データI/Oバッファ312に入力され、縦列制御回路304に送られる。外部I/O線はコントローラ318に接続されている。
フラッシュメモリデバイスを制御するためのコマンドデータは、コントローラ318に入力される。コマンドデータは、フラッシュメモリに関するいずれの操作が要求されているのかを知らせる。入力コマンドは、状態装置316に送られる。状態装置316は、縦列制御回路304と横列制御回路306とc−ソース制御回路310とp−ウェル制御回路308とデータI/Oバッファ312を制御する。状態装置316は、さらに、READY/BUSYあるいはPASS/FAIL等のフラッシュメモリのステータスデータを出力することができる。
コントローラ318は、パーソナルコンピュータ、デジタルカメラ、パーソナル・デジタル・アシスタント等のホストシステムに接続されるか、あるいは接続可能である。コントローラ318は、メモリ配列302へ(又はメモリ配列302から)データを保存する(又は読み込む)等のコマンドを起動し、それらのデータを供給したり受け入れたりする。コントローラ318は、これらのコマンドを、コマンド回路314が処理又は実行することが可能なコマンド信号に変換する。コマンド回路314は、状態装置316と通信可能である。通常、コントローラ318は、メモリセルへ書き込まれる(又はメモリセルから読み込まれる)ユーザデータのためのバッファメモリを含んでいる。
読み取りとプログラミングの操作の間に、4246個のメモリセルが同時に選択される。選択されたメモリセルは、同じワード線(WL2−i等)と、同じ種類のビット線(例えば偶数ビット線)を含む。532バイトのデータが同時に読み取り又はプログラミングされる。同時に読み取られる(又はプログラミングされる)532バイトのデータが1つの論理ページを形成する。従って、1つのブロックは少なくとも8ページを保存することができる。各メモリセルが2ビットのデータ(マルチレベルセル等)を保存する場合、1つのブロックは16ページを保存する。
メモリセルは、p−ウェルを消去電圧(例えば20V)まで上げるとともに選択されたブロックのワード線を接地することによって消去される。ソースとビット線はフローティングしている。消去は、メモリアレイの全体、別々のブロック、又はセル群の他の単位で実行することができる。電子はフローティングゲートからp−ウェル領域に移動され、閾電圧は負になる。
読み取りと確認操作では、トランジスタをパスゲートとして作動させるために、選択ゲート(SGDとSGS)と非選択ゲート(例えばWL0,WL1,WL3)が読み取りパス電圧まで上げられる。選択されたワード線(例えばWL2)は、電圧に接続される。その電圧のレベルは、対応するメモリセルの閾電圧がそのレベルに達しているか否かを確認するために、読み取りと確認操作のそれぞれに対して特定される。例えば、読み取り操作では、閾電圧が0Vより高いか否かを検知するために、選択されたワード線WL2が接地される。確認操作では、例えば、閾電圧が2.4V又は他の閾レベルに達しているのか否かを確認するために、選択されたワード線WL2は2.4Vに接続される。ソースとp−ウェルは0Vである。選択されたビット線(BLe)は、例えば0.7Vのレベルにプリチャージされる。閾電圧が読み取りレベル又は確認レベルより高い場合、非誘導性のメモリセルであるために、対応するビット線(BLe)の電位レベルは高いレベルを維持する。一方において、閾電圧が読み取りレベル又は確認レベルより低い場合、誘導性のメモリセル(M)であるために、対応するビット線(BLe)は例えば0.5V以下の低いレベルに下がる。メモリセルの状態は、ビット線に接続されているセンス増幅器によって検知される。メモリセルが消去されるのか又はプログラミングされるのかの違いは、フローティングゲートに負電荷が蓄えられているか否かに依存する。例えば、フローティングゲートに負電荷が蓄えられている場合、閾電圧は上昇し、トランジスタは増進モードになることができる。
上述した消去、読み取り、及び確認の操作は、従来技術によって実行される。説明される詳細の多くは、当業者によって変更可能である。
パルス間の周期の中で確認操作が行われる。即ち、パラレルにプログラミングされている各セルのプログラミングレベルは、プログラミングされている確認レベル以上か否かを判別するために、各プログラミングパルスの間に読み取られる。例えば、閾電圧が2.5Vまで上げられると、確認処理は、閾電圧が少なくとも2.5Vであるか否かを判別する。あるメモリセルの閾電圧が確認レベルを超えたと判別された場合、そのセルのNANDストリングのビット線の電圧を0VからVddに上げることによって、そのセルのVpgmが取り除かれる。パラレルにプログラミングされている他のセルのプログラミングは、その確認レベルに到達するまで続く。
ステップ362では、選択されたメモリセルの状態が確認される。選択されたセルのターゲット閾電圧が適当なレベル(例えば、論理「0」のためのプログラムレベル、又は複数状態のセルの特定の状態)に到達していると検知された場合、DS1に記憶されているデータは論理「1」に変えられる。閾電圧が適当なレベルに到達していないと検知された場合、DS1に記憶されているデータは変化しない。このように、対応するデータ記憶レジスタDS1に論理「1」が記憶されているビット線は、プログラミングされる必要がない。全てのデータ記憶レジスターDS1が論理「1」を記憶していると、状態装置は、(フラッグ342を介して)全ての選択されたセルがプログラミングされたと分かる。ステップ364では、全てのデータ記憶レジスタが論理「1」を記憶しているか否かが確認される。もしそうであれば、選択された全てのメモリセルがプログラミングされたと確認されたために、プログラミング処理が完了して成功したといえる。ステップ366で「PASS」というステータスが報告される。
全てのデータ記憶レジスタDS1が論理「1」を保存していないとステップ364で判別された場合、プログラミング処理は続く。ステップ368では、プログラムカウンタPCが、プログラム制限値と比較される。プログラム制限値の一例は20である。プログラムカウンタPCが20未満でない場合、プログラム処理は失敗し、ステップ370で「FAIL」というステータスが報告される。プログラムカウンタPCが20未満である場合、Vpgmレベルがステップサイズだけ大きくなり、プログラムカウンタPCが増加する(ステップ372)。ステップ372を終えると、次のVpgmパルスを供給するために、ステップ360に戻る。
図11は、2ビットのデータ(例えば4つのデータ状態)を記憶するメモリセルのための閾電圧の区分を示す。区分384は、消去された状態(「11」を記憶する)のセルの閾電圧の区分を表す。この区分は、負の閾電圧レベルを有する。区分386は、「10」を記憶しているセルの閾電圧の区分を表す。区分388は、「00」を記憶しているセルの閾電圧の区分を表す。区分390は、「01」を記憶しているセルの閾電圧の区分を表す。この例では、1つのメモリセルに記憶されている各2ビットは、異なる論理ページからなる。即ち、各メモリセルに記憶されている2ビットのそれぞれのビットは、異なる論理ページアドレスを持つ。正方形で示されているビットは下側ページに対応する。丸で示されているビットは上側ページに対応する。狭い区分は幅広い読み取りマージン(それらの間の距離)をもたらすために、信頼性を高めるには個々の区分を狭くする(狭い距離にする)方がよい。
"Fast and Accurate Programming Method for Multi-level NAND EEPROMs, pp129-130, Digest of 1995 Symposium on VLSI Technology"という論文によると、区分を0.2Vの幅に抑えるためには、原理上、通常の繰り返しプログラミングパルスをステップ間で0.2V上げる必要がある。上記の論文の内容は、本明細書に取り込まれる。区分を0.05Vの幅に狭めるためには、0.05Vのステップが要求される。プログラム電圧におけるこのような小さな増加ステップによってセルをプログラミングすると、プログラミングに時間がかかる。
第2プログラミングパスでは、セルの閾電圧レベルは、上側論理ページにプログラミングされているビットに応じて設定される。上側論理ページのビットが論理「1」を記憶する場合、下方ページのビットのプログラミングに対応するプログラミングが行なわれない。上側ページのビットに「1」を有する区分384又は386に対応する状態にセルが維持されているからである。しかしながら、上側ページのビットが論理「0」にされる場合、2回目のプログラミングがセルに行われる。第1パスの結果、区分384に対応する消去された状態にセルがある場合、第2段階では、矢印396に示されるように、閾電圧が区分390まで上げられるようにセルがプログラミングされる。第1プログラミングパスの結果、区分386に対応する状態にセルがプログラミングされた場合、矢印396に示すように、閾電圧区分388まで閾電圧が上げられるように、メモリセルが第2パスでさらにプログラミングされる。第2パスの結果は、第1パスプログラミングの結果を変えないで、論理「0」が上側ページに記憶される指定された状態にセルをプログラミングする。
4つより多い状態でメモリが操作される場合、その状態の数に等しい数の閾電圧区分が、メモリセルの定義された閾電圧ウィンドウの中に存在する。それぞれの区分に特定のビットパターンが指定されているが、異なるビットパターンが指定されてもよい。この場合、各状態の間で行なわれるプログラミングが、図10〜12に示されるものと異なってもよい。
上述したように、ステップ360の繰り返しは、Vpgmのパルスを印加することを含む。ステップ360の詳細について説明する。図13は、本発明の1つの実施形態に従ってプログラミングされるNANDストリングの断面図を示す。一例として、図13のNANDストリングは、5つのメモリセルが直列に接続されている様子を示す。本発明では、5つより多い又は5つ未満のメモリセルが使用されてもよい。5つのうちの第1メモリセルは、フローティングゲート402と制御ゲート404を持つ。第2メモリセルは、フローティングゲート406と制御ゲート408を持つ。第3メモリセルは、フローティングゲート410と制御ゲート412を持つ。第4メモリセルは、フローティングゲート414と制御ゲート416を持つ。第5メモリセルは、フローティングゲート418と制御ゲート420を持つ。メモリセルは、p−ウェル400上にある。NANDストリングは、制御ゲート430を持つ選択ゲートを介して、共通ソース線440に接続されている。NANDストリングは、制御ゲート432を持つ選択ゲートを介して、ビット線442に接続されている。各制御ゲートはワード線に接続されている。WL−0は制御ゲート404に接続され、WL−1は制御ゲート408に接続され、WL−2は制御ゲート412に接続され、WL−3は制御ゲート416に接続され、WL−4は制御ゲート420に接続される。
プログラミングステップ360は、2つの段階を有する。第1段階では、プリチャージが実行される。第2段階では、フローティングゲートへの電子のトンネリングが実行される。第2段階では、ワード線WL−0,WL−1,WL−2,WL−3,WL−4の電圧は、EASBに近似している。例えば、プログラミングされるメモリセルと禁止されるメモリセルにワード線WL−3が接続されていると仮定する。ワード線WL−0,WL−1,WL−2,WL−4は、非選択ワード線である。WL−4はドレイン側隣接ワード線であり、WL−2はソース側隣接ワード線である。第2段階では、ワード線WL−3にプログラム電圧Vpgmが印加され、WL−2には0Vが印加され、WL−0,WL−1,WL−4にはVpassパルスが印加される。これらのブースト電圧によって、ソースドレインと、隣接しているトランジスタ群のチャネルが、1つの連続するN+領域を形成する。例えば、ソース側チャネル領域450と、ドレイン側チャネル領域452が形成される。GIDLを防止してソース側隣接セル(例えばWL−2に接続されたセル)をOFFに維持するために、本発明は、非選択ワード線にVpassをドライブしてブーストすることに加え、ソース側チャネル領域450の電位をブーストすることを含む。この追加のブーストは、第1段階のプログラミング処理の間に行われる。
時間t1では、プログラム電圧Vpgm(例えば20V)が選択ワード線(例えばWL−3)にドライブされる。ドレイン側の非選択ワード線(t1の前はVss)は、Vpass(例えば7〜10Vまで上がるVpassパルス)にドライブされる。さらに、ソース側隣接ワード線以外のソース側非選択ワード線も、Vpassパルスにドライブされる。ドレインとドレイン側選択トランジスタは、両方ともVddに維持される。ソース側隣接ワード線(例えばワード線WL−2)は、Vss(例えば0V)まで下げられる。ソース側選択線の制御ゲートはVssに維持され、ソース線はVddに維持される。非選択ワード線にVpassを使用すると、ドレイン側チャネルがVdd−Vtd+Vboost(Vtdはドレイン側選択ゲートの閾電圧)までブーストし、ソース側チャネルがVdd−Vtd+Vboostまでブーストする。Vboostは、非選択ワード線でVpassをドライブするためのものである。ソース側チャネルがt0とt1の間にプリチャージ又はプリブーストされていない場合、t1の前にソース側チャネルは0Vとなり、t1の後にしかVboostにブーストされない。他の実施形態では、ソース側チャネルのVboostは、ドレイン側チャネルのVboostと異なってもよい。
時間t1では、非選択ワード線(ソース側隣接ワード線以外)はVpassにドライブされる。例えば、WL−0,WL−1,WL−4は、Vpassにドライブされる。Vpgmは、プログラミングされるセルと禁止されるセルに対応する選択ワード線WL−3にドライブされる。ソース側隣接ワード線(例えばWL−2)は、Vss(例えば0V)に維持される。さらに、時間t1では、ソース側選択ゲートは、制御ゲート430の電圧をVddからVssに下げることによってOFFされる。パス電圧(Vpass)は、ソース側チャネル450をVdd−Vts+Vboostにブーストするとともに、ドレイン側チャネル452をVdd−Vtd+Vboostにブーストする。ソース側チャネルがより高い電位にブーストされるために、上述した性能低下の多くが除去される。
本発明のプログラミングスキームのさらなる利点は、本発明を用いてソフトプログラミングを除去できることである。フラッシュメモリセルが消去される場合、消去される全てのセルが、負の閾電圧の所定範囲において負の閾電圧を持つことが目的とされる。しかしながら、実際の消去処理では、いくつかのセルが所定範囲以下の負の閾電圧を持つ結果となることがある。低すぎる閾電圧を持ったメモリセルは、その後に正常にプログラミングされないかも知れない。従って、いくつかのデバイスは、ソフトプログラミングという処理を実行する。即ち、極めて低い閾電圧を持つメモリセルは、閾電圧が所定範囲内まで上がるように、少しだけプログラミングされる。ソフトプログラミング処理の1つの理由は、(プログラミングされるために選択されたセルに対応する)NANDストリングのソース側にあるセルの閾電圧が極めて低い場合、そのソース側は決してOFFすることなく、上述したプログラミング妨害をもたらす。しかしながら、ソース側チャネルが本発明に従ってブーストされた場合、極めて低い閾電圧を持つセルでもOFFすることが可能になる。従って、本発明の1つの実施形態は、ソフトプログラミングをすることがなく、あるいは、正常に消去されるメモリセルの予め設定された範囲より低い負の閾電圧の悪影響をこうむることがなく、本発明を用いることによってメモリセルを消去すること及びプログラミングすることを実現する。ソフトプログラミングを実行しないと、メモリ性能が向上し、プログラミングエラーの根源(即ちオーバーソフトにプログラミングされたセル)を除去することができる。
上記の例は、NANDタイプのフラッシュメモリに対して提供されている。しかしながら、本発明の原理は、現存の存在しているものと現在開発中の新しい技術を利用したものを含めて、他の不揮発性メモリにも応用することができる。
本発明の上記の詳細な説明は、あくまで説明を目的として示したものである。開示された詳細な形式に本発明を限定する意図はない。上記した教示に従って多くの変更をすることが可能である。記載された実施形態は、本発明の原理とその実用的な応用を最適に説明するために、選択されたものである。記載された実施形態は、様々な使用に適応する様々な実施例と様々な変形例を当業者が最適に実施することができるように、選択されたものである。本発明の技術的範囲は、添付された請求項によって定義される。
Claims (40)
- メモリシステムをプログラミングする方法であり、
ブースト工程とプログラム電圧印加工程とパス電圧印加工程を有しており、
ブースト工程は、記憶素子群のセットにおけるソース側チャネル領域の電位をブーストし、
記憶素子群のセットは、禁止される記憶素子を含んでおり、
プログラム電圧印加工程は、プログラミングのために選択される記憶素子と禁止される記憶素子にプログラム電圧を印加し、
パス電圧印加工程は、記憶素子群のセットの少なくともサブセットにパス電圧を印加し、
パス電圧印加工程がブースト工程に加えて実行されることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有しており、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
前記プログラム電圧印加工程は、第1ワード線にプログラム電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有しており、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のNANDセル群に接続しており、
前記パス電圧印加工程は、付加的なワード線群の少なくともサブセットに前記パス電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有しており、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のNANDセル群に接続しており、
付加的なワード線群は、ソース側隣接ワード線と、他のソース側ワード線群を含んでおり、
前記パス電圧印加工程は、他のソース側ワード線群に前記パス電圧を印加することと、ソース側隣接ワード線に0Vを印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「禁止される記憶素子」に対応するワード線のソース側にある1つ以上のワード線にプリチャージ電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有しており、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のNANDセル群に接続しており、
付加的なワード線群は、ソース側ワード線群を含んでおり、
前記ブースト工程は、ソース側ワード線群の1つ以上にプリチャージ電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項6の方法であり、
前記「プリチャージ電圧を印加する工程」は、前記パス電圧印加工程の前に開始されることを特徴とする方法。 - 請求項6の方法であり、
前記プリチャージ電圧は、前記プログラム電圧より低いことを特徴とする方法。 - 請求項6の方法であり、
前記プリチャージ電圧は、前記パス電圧より低いことを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有しており、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のNANDセル群に接続しており、
付加的なワード線群は、ソース側ワード線群を含んでおり、
前記ブースト工程は、ソース側ワード線群の全てにプリチャージ電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のフラッシュメモリセルであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有するフラッシュメモリセル群であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、どちらも第1ワード線に接続されており、
付加的なワード線群は、NANDセル群の第1ストリング及びNANDセル群の第2ストリングにおける他のフラッシュメモリセル群に接続しており、
付加的なワード線群は、ソース側隣接ワード線と、他のソース側ワード線群を含んでおり、
前記ブースト工程は、ソース側隣接ワード線にプリチャージ電圧を印加することと、他のソース側ワード線群の1つ以上にプリチャージ電圧を印加することを含んでおり、
そのプリチャージ電圧印加工程は、前記パス電圧印加工程の前に開始され、
前記パス電圧印加工程は、他のソース側ワード線群に前記パス電圧を印加することを含んでおり、
前記プログラム電圧印加工程は、前記プログラム電圧を第1ワード線に印加することを含んでおり、
この方法は、NANDセル群の第1ストリングに対応する第1ビット線に第1電圧を印加する工程と、NANDセル群の第2ストリングに対応する第2ビット線に第2電圧を印加する工程をさらに含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「禁止される記憶素子」に対応するソース線に第1プリチャージ電圧を印加する工程と、前記「記憶素子群のセット」にソース線を電気的に接続する工程を含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項12の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「禁止される記憶素子」に対応するワード線のソース側にある1つ以上のワード線に第2プリチャージ電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項12の方法であり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDストリングを有しており、
前記「電気的に接続する工程」は、NANDストリングに前記ソース線を電気的に接続するために選択デバイスを操作することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項12の方法であり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDストリングを有しており、
NANDストリングは、前記ソース線に接続されている選択トランジスタを含んでおり、
前記「電気的に接続する工程」は、選択トランジスタを作動させるために電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項15の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「禁止される記憶素子」に対応するワード線のソース側にある1つ以上のワード線に第2プリチャージ電圧を印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、不揮発性の記憶素子であることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、フラッシュメモリセルであることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」は、NANDセル群の第1ストリングの一部のNANDフラッシュメモリであり、
前記「記憶素子群のセット」は、NANDセル群の第2ストリングを有することを特徴とする方法。 - 請求項19の方法であり、
前記「NANDセル群の第1ストリング」に対応する第1ビット線に第1電圧を印加する工程と、
前記「NANDセル群の第2ストリング」に対応する第2ビット線に第2電圧を印加する工程をさらに有することを特徴とする方法。 - 請求項20の方法であり、
前記第1電圧が接地電圧であるとともに、前記第2電圧が正電圧であることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記「プログラミングのために選択される記憶素子」と前記「禁止される記憶素子」は、マルチレベルのフラッシュメモリセルであることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「記憶素子群のセット」のソース側記憶素子群の制御ゲート群にブースト電圧を印加することと、それに続いてソース側記憶素子群の制御ゲート群に0Vを印加することを含んでおり、
前記パス電圧印加工程の間に、ソース側記憶素子群の制御ゲート群に前記パス電圧が印加され、
前記パス電圧印加工程は、前記ブースト工程の後に実行されることを特徴とする方法。 - 請求項1の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「記憶素子群のセット」に対応するドレイン側選択ゲートにVdd+Vtdを印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - 請求項24の方法であり、
前記ブースト工程は、前記「記憶素子群のセット」に対応するソース側選択ゲートにVdd+Vtsを印加することを含んでいることを特徴とする方法。 - メモリシステムであり、
記憶素子群の第1セットと、記憶素子の第2セットと、複数のワード線を有しており、
記憶素子群の第1セットは、プログラミングされる記憶素子を含んでおり、
記憶素子群の第2セットは、禁止される記憶素子を含んでおり、
記憶素子群の第2セットは、プログラミング操作の間に、ブースト電位を少なくとも持つソース側チャネル領域を有することが可能であり、
複数のワード線は、プログラミング操作の間にプログラミングされる記憶素子と禁止される記憶素子にプログラム電圧を印加するために、プログラミングされる記憶素子と禁止される記憶素子に接続されている第1ワード線を含んでおり、
複数のワード線は、プログラミング操作の間にブースト電位に加えてソース側チャネル領域の電位が上がるように、記憶素子群の第2セットに含まれる他の記憶素子群の少なくともサブセットにパス電圧を印加するために、記憶素子群の第2セットに含まれる他の記憶素子群に接続されているソース側ワード線を含んでいることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項26のメモリシステムであり、
前記「記憶素子群の第1セット」は、フラッシュメモリセル群の第1NANDストリングであり、
前記「記憶素子群の第2セット」は、フラッシュメモリセル群の第2NANDストリングであり、
前記「プログラミングされる記憶素子」は、第1NANDストリングのフラッシュメモリセルであり、
前記「禁止される記憶素子」は、第2NANDストリングのフラッシュメモリセルであることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項27のメモリシステムであり、
複数のビット線をさらに有し、
複数のビット線の第1ビット線は、前記第1NANDストリングに接続されており、
複数のビット線の第2ビット線は、前記第2NANDストリングに接続されていることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項27のメモリシステムであり、
前記ソース側チャネル領域で前記ブースト電位を得るために、第1プリチャージ電圧が前記ソース側ワード線群の1つ以上に印加されることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項29のメモリシステムであり、
前記第1プリチャージ電圧が、前記パス電圧を印加する前に、前記した1つ以上のソース側ワード線に印加されることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項29のメモリシステムであり、
前記した1つ以上のソース側ワード線は、前記第1プリチャージ電圧が印加された後に0Vが印加され、その後にパス電圧が印加されることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項27のメモリシステムであり、
前記第2NANDストリングに接続されているソース線をさらに有しており、
ソース線は、前記ソース側チャネル領域の電位を前記ブースト電位まで上げるソースプリチャージ電位を有することを特徴とするメモリシステム。 - 請求項32のメモリシステムであり、
前記ソース側チャネル領域が前記ブースト電位を得るために、ワード線プリチャージ電圧が、前記した1つ以上のソース側ワード線に印加されることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項32のメモリシステムであり、
前記ソースプリチャージ電位はVdd+Vtsであり、
前記NANDストリングは、Vdd+Vtdの選択電圧が印加されるドレイン選択ゲートを含んでいることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項27のメモリシステムであり、
前記NANDストリングは、Vdd+Vtdの選択電圧が印加されるドレイン選択ゲートを含んでいることを特徴とするメモリシステム。 - メモリシステムであり、
情報を記憶するための第1手段と、情報を記憶するための第2手段と、プログラミング手段を有し、
第1手段は、第1記憶素子を含んでおり、
第2手段は、第2記憶素子を含んでおり、
第2手段は、プログラミング操作の間にソース側チャネル領域を有することが可能であり、
プログラミング手段は、第2手段のソース側チャネル領域の電位をブーストすること及びブーストに加えて第2手段にパス電圧を印加することによって、第2記憶素子がプログラミングを禁止しながら第1記憶素子をプログラミングすることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項36のメモリシステムであり、
前記第2手段は、制御ゲート群のセットを含んでおり、
制御ゲート群は、ソース側制御ゲート群を含んでおり、
前記プログラミング手段は、ソース側制御ゲート群の1つ以上にプリチャージ電圧を印加することによって、前記ソース側チャネル領域の電位をブーストすることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項37のメモリシステムであり、
前記プリチャージ電圧を印加することは、前記パス電圧を印加する前に開始されることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項36のメモリシステムであり、
前記第2手段は、ソースに接続する手段を含んでおり、
前記プログラミング手段は、第1プリチャージ電圧をソースに印加することによって、前記ソース側チャネル領域の電位をブーストすることを特徴とするメモリシステム。 - 請求項39のメモリシステムであり、
前記第2手段は、制御ゲート群のセットを含んでおり、
制御ゲート群は、ソース側制御ゲート群を含んでおり、
前記プログラミング手段は、ソース側制御ゲート群の1つ以上にプリチャージ電圧をさらに印加することによって、前記ソース側チャネル領域の電位をブーストすることを特徴とするメモリシステム。
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