JP2000159758A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。
   

   

   （式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基又はＣＨ₂ＣＯ₂Ｒ⁵を示す。Ｒ²は水素原子、メチル基又はＣＯ₂Ｒ⁵を示す。Ｒ³は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ⁴は水素原子又はＣＯ₂Ｒ⁵を示す。Ｒ⁵は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ₂ＣＨ₂、Ｏ又はＳを示す。）
2. 下記一般式（１ａ）で示される単位を構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁴ は水素原子又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。）
3. 下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。）
4. 下記一般式（１ａ）で示される単位を構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。）
5. 更に下記式（２ａ）〜（１０ａ）で示される単位の１種又は２種以上を構成単位として含有する請求項２に記載の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²は上記と同様である。Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ⁷〜Ｒ¹⁰の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ¹¹は炭素数３〜１５の−ＣＯ₂−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ₂−部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ¹²〜Ｒ¹⁵の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ₂−部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ¹⁶は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ¹⁷は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
6. 更に下記式（２ａ）〜（１０ａ）で示される単位の１種又は２種以上を構成単位として含有する請求項４に記載の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² は上記と同様である。Ｒ ⁶ は水素原子、炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ ¹¹ は炭素数３〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ ¹⁶ は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ ¹⁷ は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
7. 下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（２ａ）で示される単位と下記式（５ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基 又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁴ は水素原子又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。Ｒ ⁶ はカルボキシ基を含有する直鎖状又は分岐状のアルキル基、カルボキシシクロペンチル基、カルボキシシクロヘキシル基、及び水酸基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基から選ばれる基、Ｒ ¹⁷ は酸不安定基を示す。）
8. 下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（２ａ）で示される単位と下記式（４ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁴ は水素原子又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。Ｒ ⁶ は水素原子、カルボキシ基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、水酸基を含有する直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基から選ばれる基、Ｒ ¹⁶ は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。）
9. 更に、下記一般式（５ａ）で示される単位を含有する請求項８記載の高分子化合物。
   

   

   （式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² は上記の通り。Ｒ ¹⁷ は酸不安定基を示す。）
10. 下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（６ａ）〜（９ａ）で示されるいずれかの単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
    

    

    （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁴ は水素原子又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。Ｒ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ ⁷ 〜Ｒ ¹⁰ の少なくとも１個は炭素数１〜１５のカルボキシ基又は水酸基を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ ¹¹ は炭素数３〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する１価の炭化水素基を示す。Ｒ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ の少なくとも１個は炭素数２〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する１価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ は互いに環を形成していてもよく、その場合にはＲ ¹² 〜Ｒ ¹⁵ の少なくとも１個は炭素数１〜１５の−ＣＯ ₂ −部分構造を含有する２価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。Ｒ ¹⁶ は炭素数７〜１５の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示す。Ｒ ¹⁷ は酸不安定基を示す。ｋは０又は１である。）
11. 下記一般式（１ａ）で示される単位と下記式（１０ａ）で示される単位とを構成単位として含有することを特徴とする重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物。
    

    

    （式中、Ｒ ¹ は水素原子、メチル基又はＣＨ ₂ ＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ² は水素原子、メチル基又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ³ は水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。Ｒ ⁴ は水素原子又はＣＯ ₂ Ｒ ⁵ を示す。Ｒ ⁵ は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ＸはＣＨ ₂ 、ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ 、Ｏ又はＳを示す。）
12. 請求項１又は３に記載のラクトン含有化合物及び炭素−炭素二重結合を含有する別の化合物をラジカル重合又はアニオン重合させることを特徴とする高分子化合物の製造方法。
13. 請求項２及び４〜１１のいずれか１項に記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
14. 請求項２及び４〜１１のいずれか１項に記載の高分子化合物と高エネルギー線もしくは電子線に感応して酸を発生する化合物と有機溶剤とを含むことを特徴とするレジスト材料。
15. 請求項１３又は１４に記載のレジスト材料を基盤上に塗布する工程と、加熱処理後フォトマスクを介して高エネルギー線もしくは電子線で露光する工程と、必要に応じて加熱処理した後現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。