JP2004117688A5 - - Google Patents

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  1. （Ａ）活性光線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
    Figure 2004117688
     一般式（Ｉ）中、
    Ｒ1は、アルキル基を表す。
    Ｒ2は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
    Ｙは、アルキル基を表す。
    Ｙ1及びＹ2は、同じでも異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
    Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
    Ｒ2とＹとが結合して環を形成してもよい。
    Ｙ1とＹ2とが結合して環を形成してもよい。
    また、Ｒ1、Ｒ2若しくはＹのいずれか又はＹ1若しくはＹ2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）の構造を２つ以上有していてもよい。
    Ｘ-は、非求核性アニオンを表す。
  2. 下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする酸発生剤。
    Figure 2004117688
     一般式（Ｉ）中、
    Ｒ1は、アルキル基を表す。
    Ｒ2は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
    Ｙは、アルキル基を表す。
    Ｙ1及びＹ2は、同じでも異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
    Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
    Ｒ2とＹとが結合して環を形成してもよい。
    Ｙ1とＹ2とが結合して環を形成してもよい。
    また、Ｒ1、Ｒ2若しくはＹのいずれか又はＹ1若しくはＹ2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）の構造を２つ以上有していてもよい。
    Ｘ-は、非求核性アニオンを表す。
  3. 請求項１に記載の感光性組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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