JP2003035948A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. （Ａ）活性光線の照射により酸を発生する下記式（Ｉ）に示す化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
   

   

   式（Ｉ）中、Ｒ₁〜Ｒ₅は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基又はアリール基を表し、Ｒ₁〜Ｒ₅のうち少なくとも２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。Ｒ₆及びＲ₇は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はアリール基を表す。Ｙ₁及びＹ₂は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表し、Ｙ₁とＹ₂とが結合して環を形成してもよい。Ｙ₃は、単結合または２価の連結基を表す。Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。但し、Ｒ₁からＲ₅の少なくとも１つとＹ₁又はＹ₂の少なくとも一つが結合して環を形成するか、若しくは、Ｒ₁からＲ₅の少なくとも１つとＲ₆又はＲ₇の少なくとも１つが結合して環を形成する。尚、Ｒ₁からＲ₇のいずれか、若しくは、Ｙ₁又はＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式（Ｉ）の構造を２つ以上有していてもよい。
2. （Ａ）の化合物が下記一般式（ＩＡ）または（ＩＢ）で表される化合物であることを特徴とする、請求項１に記載のポジ型感放射線性組成物。
   

   

   式（ＩＡ）中、Ｒ₁〜Ｒ₄、Ｒ₇、Ｙ₁、Ｙ₂及びＸ^-は、上記式（Ｉ）中のものと同様であり、Ｙは、単結合又は２価の連結基を表す。式（ＩＢ）中、Ｒ₁〜Ｒ₄、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｙ₁及びＸ^-は、上記式（Ｉ）中のものと同様であり、Ｙは、単結合又は２価の連結基を表す。
3. （Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物を更に含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のポジ型感放射線性組成物。
4. （Ａ）活性光線の照射により酸を発生する下記式（Ｉ）に示す化合物少なくとも１種、（Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｄ）水に不溶でアルカリ現像液に可溶な樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
   

   

   式（Ｉ）中、Ｒ₁〜Ｒ₅は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基又はアリール基を表し、Ｒ₁〜Ｒ₅のうち少なくとも２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。Ｒ₆及びＲ₇は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はアリール基を表す。Ｙ₁及びＹ₂は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表し、Ｙ₁とＹ₂とが結合して環を形成してもよい。Ｙ₃は、単結合または２価の連結基を表す。Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。但し、Ｒ₁からＲ₅の少なくとも１つとＹ₁又はＹ₂の少なくとも一つが結合して環を形成するか、若しくは、Ｒ₁からＲ₅の少なくとも１つとＲ₆又はＲ₇の少なくとも１つが結合して環を形成する。尚、Ｒ₁からＲ₇のいずれか、若しくは、Ｙ₁又はＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式（Ｉ）の構造を２つ以上有していてもよい。
5. 請求項１〜４のいずれに記載の組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。