JP2001318464A5

JP2001318464A5 -

Info

Publication number: JP2001318464A5
Application number: JP2000137461A
Authority: JP
Filing date: 2000-05-10
Publication date: 2007-06-21
Anticipated expiration: 2020-05-10

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】（ａ）酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により分子量１００以下のカルボン酸を発生する化合物、
（ｃ）界面活性剤、及び
（ｄ）溶剤
を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
【請求項２】（ｂ'）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型感放射線性組成物。
【請求項３】（ｂ）活性光線又は放射線の照射により分子量１００以下のカルボン酸を発生する化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感放射線性組成物。
【化１】

一般式（Ｉ）中：Ｒ₁₁〜Ｒ₁₅は、各々独立に、水素原子、直鎖、分岐あるいは環状アルキル基、直鎖、分岐あるいは環状アルコキシ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は−Ｓ−Ｒ₀基を表す。Ｒ₀は、直鎖、分岐あるいは環状アルキル基、又はアリール基を表す。
Ａ⁺は、Ｓ⁺又はＩ⁺を表す。
Ｂ^-は、ＣＨ₃ＣＯＯ^-、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ^-、又はＣ₃Ｈ₇ＣＯＯ^-を表す。
ｍは、２又は３を表す。
【請求項４】（ａ）の樹脂が、下記一般式（II）で表される酸分解性基を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感放射線性組成物。
【化２】

一般式（II）中：
Ｒ₁は、炭素数１〜４個のアルキル基を表す。
Ｗは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子と少なくとも１つの炭素原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、置換あるいは無置換のアリール基、又は置換あるいは無置換の環状アルキル基を表す。
ｎは、１〜４の自然数を表す。
【請求項５】（ａ）の樹脂が、フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂の該フェノール性水酸基の少なくとも一部が上記一般式（II）で表される酸分解性基で保護されている樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のボジ型感放射線性組成物。
【請求項６】有機塩基性化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のボジ型感放射線性組成物。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。