JP6112813B2 - トリアリールスルホニウム塩の製造方法 - Google Patents
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Description
項1.
式(1):
さらに無機酸のアルカリ金属塩、無機酸のアンモニウム塩、有機酸のアルカリ金属塩、又は有機酸のアンモニウム塩と反応させ、式(2)
式(2):
芳香族化合物(b)がアリールアルキルエーテル、ポリアリールエーテル、アリールアルキルスルフィド、ポリアリールスルフィド、および置換基を有してもよいチオフェンからなる群より選ばれた少なくとも1種である、項1に記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
項3.
ルイス酸(c)が塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄、臭化鉄、塩化亜鉛、および臭化亜鉛からなる群より選ばれた少なくとも1種である、項1または2に記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
項4.
スルホン酸および/またはカルボン酸(d)が、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、酢酸、プロピオン酸からなる群より選ばれた少なくとも1種である、項1〜3のいずれかに記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
項5.
前記ルイス酸(c)の使用割合が、ジアリールスルホキシド(a)1モルに対して0.0001〜0.1モルである、項1〜4のいずれかに記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
ジフェニルスルホキシド、ビス(4−メチルフェニル)スルホキシド、ビス(4−エチルフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−プロピルフェニル)スルホキシド、ビス(4−イソプロピルフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−ブチルフェニル)スルホキシド、ビス(4−tert−ブチルフェニル)スルホキシド、ビス(4−ビフェニル)スルホキシド、
ビス(4−メトキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−エトキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−プロポキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−イソプロポキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−ブトキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−イソブトキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−sec−ブトキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−tert−ブトキシフェニル)スルホキシド、
ビス(4−メチルチオフェニル)スルホキシド、ビス(4−エチルチオフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−プロピルチオフェニル)スルホキシド、ビス(4−イソプロピルチオフェニル)スルホキシド、ビス(4−n−ブチルチオフェニル)スルホキシド、ビス(4−tert−ブチルチオフェニル)スルホキシド、4−メチルフェニル−(2,4−ジメチルフェニル)スルホキシド
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−アセトキシフェニル)スルホキシド、
ビス(4−フルオロフェニル)スルホキシド、ビス(4−クロロフェニル)スルホキシド、ビス(4−ブロモフェニル)スルホキシド、ビス(4−ヨードフェニル)スルホキシド、
ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホキシド、ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホキシド、ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)スルホキシド、
ジ−(2−チエニル)スルホキシド、ジ−(2−ナフチル)スルホキシド等が挙げられる。
トルエン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、アニソール、エトキシベンゼン、n−プロポキシベンゼン、イソプロポキシベンゼン、n−ブトキシベンゼン、イソブトキシベンゼン、sec−ブトキシベンゼン、tert−ブトキシベンゼン、チオアニソール、エチルチオベンゼン、n−プロピルチオベンゼン、i−プロピルチオベンゼン、n−ブチルチオベンゼン、t−ブチルチオベンゼン、フェノール、アセトキシベンゼン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ビフェニル、ジフェニルエーテル、3−メチルジフェニルエーテル、3−フェノキシフェノール、p−フェノキシフェノール、3−フェノキシベンゾイルアルコール、ジフェニルスルフィド、フェニル−p−トリルスルフィド、4−エチルフェニルチオベンゼン、4−n−プロピルフェニルチオベンゼン、4−i−プロピルフェニルチオベンゼン、4−n−ブチルフェニルチオベンゼン、4−t−ブチルフェニルチオベンゼン、
ナフタレン、メチルナフタレン、メトキシナフタレン、
チオフェン、メチルチオフェン、エチルチオフェン、n−プロピルチオフェン、イソプロピルチオフェン、n−ブチルチオフェン、tert−ブチルチオフェン、メトキシチオフェン、エトキシチオフェン、n−プロポキシチオフェン、イソプロポキシチオフェン、n−ブトキシチオフェン、イソブトキシチオフェン、sec−ブトキシチオフェン、tert−ブトキシチオフェン、メチルチオチオフェン、エチルチオチオフェン、ヒドロキシチオフェン、アセトキシチオフェン、フェニルチオフェン、フェニルチオチオフェン、ビチオフェン、ジチエニルエーテル(2つのチオフェンが−O−で結合された構造を有する化合物;特に両チオフェンの2位が−O−で結合されたものが好ましい)、ジチエニルスルフィド(2つのチオフェンが−S−で結合された構造を有する化合物;特に両チオフェンの2位が−S−で結合されたものが好ましい)、等が挙げられる。
ビチオフェン、フェニルチオフェン、フェニルチオチオフェン、ジチエニルスルフィド、が好適に用いられる。
ジメチルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、
トリフェニルホウ素、トリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素等の有機ホウ素化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸亜鉛、トリフルオロメタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸ランタン、トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム等の金属トリフラート、等が挙げられる。
ルイス酸(c)の使用割合が(a)1モルに対して0.0001モル以上であれば、より高収率となり得る。また、ルイス酸(c)の使用割合が(a)1モルに対して0.1モル以下である場合、より経済的である。
ヘキサフルオロアンチモン酸、ヘキサフルオロヒ酸、ヘキサフルオロリン酸、ペンタフルオロヒドロキソアンチモン酸、テトラフルオロホウ酸、トリフルオロトリストリフルオロメチルリン酸、トリフルオロトリスペンタフルオロエチルリン酸、トリフルオロトリスヘプタフルオロプロピルリン酸、
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸、テトラキス(トリフルオロメチルフェニル)ホウ酸、トリフルオロ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸、テトラキス(ジフルオロフェニル)ホウ酸、ジフルオロビス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸等が挙げられる。
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロヘキサンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、アントラキノン−1−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−1,5−ジスルホン酸、カンファースルホン酸、
ビス(フルオロスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、シクロ−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ビス(スルホニル)イミド、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド等を挙げることができる。
このような有機溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコール−1−メチルエーテル−2−アセテート、乳酸エチル、カルビトール、カルビトールアセテートなどが挙げられる。
式(2):
前記式(2)中においてR3は、前記芳香族化合物(b)から水素原子1個を除いた1価のアリール基である。言い換えれば、前記芳香族化合物(b)の構造式は“R3−H”と記載することができる。
より具体的には、メチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、n−プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、n−ブトキシフェニル基、イソブトキシフェニル基、sec−ブトキシフェニル基、tert−ブトキシフェニル基、メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、ヒドロキシフェニル基、アセトキシフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ビフェニル基、フェノキシフェニル基、フェニルチオフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、メトキシナフチル基、チエニル基、メチルチエニル基、エチルチエニル基、n−プロピルチエニル基、イソプロピルチエニル基、n−ブチルチエニル基、tert−ブチルチエニル基、メトキシチエニル基、エトキシチエニル基、n−プロポキシチエニル基、イソプロポキシチエニル基、n−ブトキシチエニル基、イソブトキシチエニル基、sec−ブトキシチエニル基、tert−ブトキシチエニル基、メチルチオチエニル基、エチルチオチエニル基、ヒドロキシチエニル基、アセトキシチエニル基、ビチエニル基、フェニルチエニル基、フェニルチオチエニル基、
R3−Hがジチエニルエーテル(両チオフェンの2位が−O−で結合されたものが好ましい))又はジチエニルスルフィド(両チオフェンの2位が−S−で結合されたものが好ましい))である基、が好ましく例示でき、
さらに具体的には、
2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基(すなわち、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基)、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−n−プロピルフェニル基、3−n−プロピルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−n−ブチルフェニル基、3−n−ブチルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、2−tert−ブチルフェニル基、3−tert−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、2−n−プロポキシフェニル基、3−n−プロポキシフェニル基、4−n−プロポキシフェニル基、2−イソプロポキシフェニル基、3−イソプロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、2−n−ブトキシフェニル基、3−n−ブトキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、2−イソブトキシフェニル基、3−イソブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、2−sec−ブトキシフェニル基、3−sec−ブトキシフェニル基、4−sec−ブトキシフェニル基、2−tert−ブトキシフェニル基、3−tert−ブトキシフェニル基、4−tert−ブトキシフェニル基、2−メチルチオフェニル基、3−メチルチオフェニル基、4−メチルチオフェニル基、2−エチルチオフェニル基、3−エチルチオフェニル基、4−エチルチオフェニル基、2−ヒドロキシフェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、2−アセトキシフェニル基、3−アセトキシフェニル基、4−アセトキシフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ビフェニル基、3−ビフェニル基、4−ビフェニル基、2−フェノキシフェニル基、3−フェノキシフェニル基、4−フェノキシフェニル基、2−フェニルチオフェニル基、3−フェニルチオフェニル基、4−フェニルチオフェニル基、
1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチル−1−ナフチル基、3−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、5−メチル−1−ナフチル基、6−メチル−1−ナフチル基、7−メチル−1−ナフチル基、8−メチル−1−ナフチル基、1−メチル−2−ナフチル基、3−メチル−2−ナフチル基、4−メチル−2−ナフチル基、5−メチル−2−ナフチル基、6−メチル−2−ナフチル基、7−メチル−2−ナフチル基、8−メチル−2−ナフチル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、3−メトキシ−1−ナフチル基、4−メトキシ−1−ナフチル基、5−メトキシ−1−ナフチル基、6−メトキシ−1−ナフチル基、7−メトキシ−1−ナフチル基、8−メトキシ−1−ナフチル基、1−メトキシ−2−ナフチル基、3−メトキシ−2−ナフチル基、4−メトキシ−2−ナフチル基、5−メトキシ−2−ナフチル基、6−メトキシ−2−ナフチル基、7−メトキシ−2−ナフチル基、8−メトキシ−2−ナフチル基、
2−チエニル基、3−チエニル基、
3−メチルチエニル基、4−メチルチエニル基、5−メチルチエニル基(特に3−メチルチオフェン−2−イル基、4−メチルチオフェン−2−イル基、5−メチルチオフェン−2−イル基)、
3−エチルチエニル基、4−エチルチエニル基、5−エチルチエニル基(特に3−エチルチオフェン−2−イル基、4−エチルチオフェン−2−イル基、5−エチルチオフェン−2−イル基)、
3−n−プロピルチエニル基、4−n−プロピルチエニル基、5−n−プロピルチエニル基(特に3−n−プロピルチオフェン−2−イル基、4−n−プロピルチオフェン−2−イル基、5−n−プロピルチオフェン−2−イル基)、
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3−n−ブチルチエニル基、4−n−ブチルチエニル基、5−n−ブチルチエニル基(特に3−n−ブチルチオフェン−2−イル基、4−n−ブチルチオフェン−2−イル基、5−n−ブチルチオフェン−2−イル基)、
3−tert−ブチルチエニル基、4−tert−ブチルチエニル基、5−tert−ブチルチエニル基(特に3−tert−ブチルチオフェン−2−イル基、4−tert−ブチルチオフェン−2−イル基、5−tert−ブチルチオフェン−2−イル基)、
3−メトキシチエニル基、4−メトキシチエニル基、5−メトキシチエニル基(特に3−メトキシチオフェン−2−イル基、4−メトキシチオフェン−2−イル基、5−メトキシチオフェン−2−イル基)、
3−エトキシチエニル基、4−エトキシチエニル基、5−エトキシチエニル基(特に3−エトキシチオフェン−2−イル基、4−エトキシチオフェン−2−イル基、5−エトキシチオフェン−2−イル基)、
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3−n−ブトキシチエニル基、4−n−ブトキシチエニル基、5−n−ブトキシチエニル基(特に3−n−ブトキシチオフェン−2−イル基、4−n−ブトキシチオフェン−2−イル基、5−n−ブトキシチオフェン−2−イル基)、
3−イソブトキシチエニル基、4−イソブトキシチエニル基、5−イソブトキシチエニル基(特に3−イソブトキシチオフェン−2−イル基、4−イソブトキシチオフェン−2−イル基、5−イソブトキシチオフェン−2−イル基)、
3−sec−ブトキシチエニル基、4−sec−ブトキシチエニル基、5−sec−ブトキシチエニル基(特に3−sec−ブトキシチオフェン−2−イル基、4−sec−ブトキシチオフェン−2−イル基、5−sec−ブトキシチオフェン−2−イル基)、
3−tert−ブトキシチエニル基、4−tert−ブトキシチエニル基、5−tert−ブトキシチエニル基(特に3−tert−ブトキシチオフェン−2−イル基、4−tert−ブトキシチオフェン−2−イル基、5−tert−ブトキシチオフェン−2−イル基)、
3−メチルチオチエニル基、4−メチルチオチエニル基、5−メチルチオチエニル基(特に3−(メチルチオ)チオフェン−2−イル基、4−(メチルチオ)チオフェン−2−イル基、5−(メチルチオ)チオフェン−2−イル基)、
3−エチルチオチエニル基、4−エチルチオチエニル基、5−エチルチオチエニル基(特に3−(エチルチオ)チオフェン−2−イル基、4−(エチルチオ)チオフェン−2−イル基、5−(エチルチオ)チオフェン−2−イル基)、
3−ヒドロキシチエニル基、4−ヒドロキシチエニル基、5−ヒドロキシチエニル基(特に3−ヒドロキシチオフェン−2−イル基、4−ヒドロキシチオフェン−2−イル基、5−ヒドロキシチオフェン−2−イル基)、
3−アセトキシチエニル基、4−アセトキシチエニル基、5−アセトキシチエニル基(特に3−アセトキシチオフェン−2−イル基、4−アセトキシチオフェン−2−イル基、5−アセトキシチオフェン−2−イル基)、
3−フェニルチエニル基、4−フェニルチエニル基、5−フェニルチエニル基(特に3−フェニルチオフェン−2−イル基、4−フェニルチオフェン−2−イル基、5−フェニルチオフェン−2−イル基)、
3−フェニルチオチエニル基、4−フェニルチオチエニル基、5−フェニルチオチエニル基(特に3−(フェニルチオ)チオフェン−2−イル基、4−(フェニルチオ)チオフェン−2−イル基、5−(フェニルチオ)チオフェン−2−イル基)、あるいは、
以下の構造式で表される基;
ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(4−メトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(4−エトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]スルホニウムフルオロホスファート、ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メチルフェニル)(4−フェノキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファート、ビス(4−メチルフェニル)(4−フェノキシフェニル)スルホニウムパーフルオロブタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−フェノキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(4−メチルフェニル)(4−フェノキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4−メチルフェニル)(4−フェノキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、
ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
等が好ましく挙げられる。
<ジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ジフェニルスルホキシド20.2g(0.10モル)、エトキシベンゼン13.4g(0.11モル)、メタンスルホン酸28.8g(0.30モル)および塩化アルミニウム0.13g(0.001モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸50.6g(0.50モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後も同温度に維持しながら3時間撹拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ジフェニルスルホキシドの反応率は99%であった。
<ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ジフェニルスルホキシド20.2g(0.10モル)、アニソール11.9g(0.11モル)、メタンスルホン酸28.8g(0.30モル)および塩化アルミニウム0.08g(0.0006モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸30.3g(0.30モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら4時間撹拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ジフェニルスルホキシドの反応率は99.7%であった。
<ビス(4−メトキシフェニル)(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ビス(4−メトキシフェニル)スルホキシド5.2g(0.02モル)、ジフェニルスルフィド3.9g(0.02モル)、メタンスルホン酸5.8g(0.06モル)および塩化アルミニウム0.03g(0.0002モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸6.1g(0.06モル)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら2時間撹拌し更に20〜25℃で1時間攪拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ビス(4−メトキシフェニル)スルホキシドの反応率は99.5%であった。
<ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた200mL容の四つ口フラスコに、ジフェニルスルホキシド20.2g(0.10モル)、アニソール11.9g(0.11モル)、酢酸30.0g(0.50モル)および塩化アルミニウム0.13g(0.001モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸60.7g(0.60モル)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら2時間撹拌し、更に20〜25℃で3時間攪拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ジフェニルスルホキシドの反応率は99.3%であった。
<ビス(4−メチルフェニル)(4−ブトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ビス(4−メチルフェニル)スルホキシド23.0g(0.10モル)、ブトキシベンゼン16.5g(0.11モル)、メタンスルホン酸28.8g(0.30モル)および塩化アルミニウム0.08g(0.0006モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸30.3g(0.30モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら4時間撹拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ビス(4−メチルフェニル)スルホキシドの反応率は98.5%であった。
<ビス(4−メチルフェニル)(4−エトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ビス(4−メチルフェニル)スルホキシド23.0g(0.10モル)、エトキシベンゼン13.4g(0.11モル)、メタンスルホン酸28.8g(0.30モル)および塩化アルミニウム0.08g(0.0006モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸30.3g(0.30モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら4時間撹拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ビス(4−メチルフェニル)スルホキシドの反応率は99.2%であった。
<ビス(4−メトキシフェニル)[5−(チオフェン−2−イルチオ)−チオフェン−2−イル]テトラキスペンタフルオロフェニルボレートの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ビス(4−メトキシフェニル)スルホキシド5.2g(0.02モル)、2,2’−ジチエニルスルフィド4.0g(0.02モル)、酢酸9.6g(0.16モル)および塩化アルミニウム0.03g(0.0002モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸13.7g(0.14モル)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら4時間撹拌し、更に20〜25℃で2時間攪拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ビス(4−メトキシフェニル)スルホキシドの反応率は96.5%であった。
<ジフェニル(4−メトキシフェニル)スルホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドの作製>
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた100mL容の四つ口フラスコに、ジフェニルスルホキシド20.2g(0.10モル)、アニソール11.9g(0.11モル)、メタンスルホン酸28.8g(0.30モル)および塩化鉄(III)(無水)0.10g(0.0006モル)を仕込み、内温を5〜15℃に保ちながら、濃硫酸30.3g(0.30モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度に維持しながら4時間撹拌することにより、縮合反応物の反応溶液を得た。ジフェニルスルホキシドの反応率は99.6%であった。
実施例1において塩化アルミニウムを使用しなかった以外は同様に反応を行ったが、ジフェニルスルホキシドの反応率はわずか10%であった。その後、更に20〜25℃で3時間攪拌を継続したが、ジフェニルスルホキシドの反応率は20%であり、目的のスルホニウム塩であるジフェニル(4−エトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスファートの生成収率は10%であった。
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた200mL容の四つ口フラスコに、アニソール11.9g(0.11モル)、モノクロロベンゼン100gおよび塩化アルミニウム26.7g(0.20モル)を仕込み、内温を20〜30℃に保ちながら、ジフェニルスルホキシド20.2g(0.10モル)を1時間かけて分割添加した。添加終了後、同温度に維持しながら5時間撹拌したが、反応は全く進行しなかった。
Claims (4)
- 式(1):
無機酸のアルカリ金属塩、無機酸のアンモニウム塩、有機酸のアルカリ金属塩、又は有機酸のアンモニウム塩と反応させ、式(2)
式(2):
前記ルイス酸(c)の使用割合が、前記ジアリールスルホキシド(a)1モルに対して0.0001〜0.1モルである、トリアリールスルホニウム塩を製造する方法。 - 芳香族化合物(b)がアリールアルキルエーテル、ポリアリールエーテル、アリールアルキルスルフィド、ポリアリールスルフィド、および置換基を有してもよいチオフェンからなる群より選ばれた少なくとも1種である、請求項1に記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
- ルイス酸(c)が塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄、臭化鉄、塩化亜鉛、および臭化亜鉛からなる群より選ばれた少なくとも1種である、請求項1または2に記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
- スルホン酸および/またはカルボン酸(d)が、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、酢酸、プロピオン酸からなる群より選ばれた少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれかに記載のトリアリールスルホニウム塩を製造する方法。
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