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【特許請求の範囲】
【請求項１】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｘ）で表されるスルホン酸を発生する化合物、及び
（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】
Figure 2002214774
式（Ｘ）中、Ｒ1a〜Ｒ13aはそれぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ハロゲン原子または水酸基を表す。
Ａ1及びＡ2は同一または異なっており、それぞれヘテロ原子を有する２価の連結基または単結合を表す。但し、Ａ1及びＡ2が同時に単結合の場合、Ｒ1a〜Ｒ13aの全てが同時にフッ素原子を表すことはなく、またＲ1a〜Ｒ13aの全てが同時に水素原子を表すことはない。
ｍ1〜ｍ5は同一または異なっており、それぞれ０〜１２の整数を表す。ｐは０〜４の整数を表す。
【請求項２】 一般式（Ｘ）で表されるスルホン酸を発生する化合物が、下記一般式（Ｘ′）で表されることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性組成物。
【化２】
Figure 2002214774
式（Ｘ′）中、Ｒ1a〜Ｒ13aはそれぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ハロゲン原子または水酸基を表す。
Ａは、ヘテロ原子を有する２価の連結基または単結合を表す。但し、Ａが単結合の場合、Ｒ1a〜Ｒ13aの全てが同時にフッ素原子を表すことはなく、またＲ1a〜Ｒ13aの全てが同時に水素原子を表すことはない。
ｍは０〜１２の整数を表す。ｎは０〜１２の整数を表す。ｑは１〜３の整数を表す。
【請求項３】 （Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項４】 樹脂（Ｂ）がラクトン構造を有する樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項５】 （Ａ）請求項１記載の活性光線又は放射線の照射により一般式（Ｘ）で表されるスルホン酸を発生する化合物、
（Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び
（Ｄ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、水に不溶でアルカリ現像液に可溶な樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項６】 活性光線又は放射線照射により一般式（Ｘ）で表されるスルホン酸を発生する化合物（Ａ）が、一般式（Ｘ）で表されるスルホン酸のヨードニウム塩又はスルホニウム塩である請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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