JP2003140331A5 - - Google Patents
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- (A)外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)又は(II)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。
R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。
R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。
X-は、非求核性アニオンを表す。 - (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)又は(II)で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。
R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。
X-は、非求核性アニオンを表す。 - (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)又は(II)で表される化合物及び
(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。
R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。
X-は、非求核性アニオンを表す。 - (B)成分の樹脂が、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有することを特徴とする請求項3に記載のポジ型感光性組成物。
- (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)又は(II)で表される化合物
(C)酸架橋剤及び
(D)アルカリ可溶性樹脂
を含有することを特徴とするネガ型感光性組成物。
R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。
R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。
X-は、非求核性アニオンを表す。 - 更に、塩基性化合物及びフッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の感光性組成物。
- 塩基性化合物が、イミダゾール構造、ジアザビシクロ構造、オニウムヒドロキシド構造、オニウムカルボキシレート構造、トリアルキルアミン構造及びアニリン構造から選ばれる構造を有する化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする請求項6に記載の感光性組成物。
- 更に、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する、分子量3000以下の溶解阻止低分子化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4及び6〜7のいずれかに記載の感光性組成物。
- 下記式(I)又は(II)で表されることを特徴とする化合物。
R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。
R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。
X-は、非求核性アニオンを表す。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の感光性組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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