JP2004078105A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. （Ａ）下記一般式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物、
   （Ｂ）下記一般式（Ｘ）で表される構造単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、
   （Ｃ）一般式（２）で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含有するフルオロ脂肪族含有高分子化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
   

   

   一般式（１）中、Ｒ₁及びＲ₂は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基又はシアノ基を表す。Ｒ₁とＲ₂は結合して環を形成してもよい。Ｒ₃はアルキル基又はアリール基を表す。
   また、Ｒ₁とＲ₂は、単結合又は連結基を介して、別の一般式（１）で表される化合物のＲ₁またはＲ₂と結合されていても良い。
   

   

   一般式（Ｘ）中、Ｒ₄及びＲ₅は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Ｚはアルキル基を表す。
   ｍは１〜２０の整数を表す。
   

   

   一般式（２）においてＲ₆は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ₇）−を表し、ｐは１以上６以下の整数、ｑは２〜４の整数を表す。Ｒ₇は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
2. 更に下記一般式（３）で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
   

   

   一般式（３）中、Ｒ₈及びＲ₉は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
3. 請求項１又は２に記載のフォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。