JP2004302080A5 - - Google Patents
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Claims (3)
- (a)下記一般式(X)で示される基を含有する構造単位を有し、重量平均分子量が5000以下で、酸分解基が、樹脂中の酸分解性基と酸分解性基で保護されていないアルカリ可溶性基の数の合計の40%以下である、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
- さらに、含窒素塩基性化合物を含有することを特徴とする、請求項1に記載のポジ型レジスト組成物。
- 請求項1または2に記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003094331A JP4115322B2 (ja) | 2003-03-31 | 2003-03-31 | ポジ型レジスト組成物 |
AT04007652T ATE480799T1 (de) | 2003-03-31 | 2004-03-30 | Positiv arbeitende resistzusammensetzung |
US10/812,074 US7361446B2 (en) | 2003-03-31 | 2004-03-30 | Positive resist composition |
DE602004028982T DE602004028982D1 (de) | 2003-03-31 | 2004-03-30 | Positiv arbeitende Resistzusammensetzung |
EP04007652A EP1467251B1 (en) | 2003-03-31 | 2004-03-30 | Positive resist composition |
US11/926,479 US8080362B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-10-29 | Positive resist composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003094331A JP4115322B2 (ja) | 2003-03-31 | 2003-03-31 | ポジ型レジスト組成物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004302080A JP2004302080A (ja) | 2004-10-28 |
JP2004302080A5 true JP2004302080A5 (ja) | 2005-09-29 |
JP4115322B2 JP4115322B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=32866688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003094331A Expired - Lifetime JP4115322B2 (ja) | 2003-03-31 | 2003-03-31 | ポジ型レジスト組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7361446B2 (ja) |
EP (1) | EP1467251B1 (ja) |
JP (1) | JP4115322B2 (ja) |
AT (1) | ATE480799T1 (ja) |
DE (1) | DE602004028982D1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT412971B (de) * | 2003-07-23 | 2005-09-26 | Surface Specialties Austria | Hydroxyfunktionelle bindemittelkomponenten, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
JP4611813B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-01-12 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
JP4670624B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2011-04-13 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
US7601480B2 (en) * | 2006-12-20 | 2009-10-13 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoactive compounds |
JP5601286B2 (ja) * | 2011-07-25 | 2014-10-08 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3817012A1 (de) | 1988-05-19 | 1989-11-30 | Basf Ag | Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche gemische sowie verfahren zur herstellung von reliefmustern |
DE4007924A1 (de) | 1990-03-13 | 1991-09-19 | Basf Ag | Strahlungsempfindliches gemisch |
JP3627226B2 (ja) | 1996-05-30 | 2005-03-09 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP3802179B2 (ja) | 1997-02-07 | 2006-07-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
JP3832786B2 (ja) | 1998-04-24 | 2006-10-11 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
JP2001075284A (ja) * | 1998-12-03 | 2001-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
TWI277830B (en) * | 1999-01-28 | 2007-04-01 | Sumitomo Chemical Co | Resist composition |
JP3963625B2 (ja) | 1999-02-24 | 2007-08-22 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
JP3936491B2 (ja) | 1999-05-28 | 2007-06-27 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
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JP4562240B2 (ja) | 2000-05-10 | 2010-10-13 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感放射線性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4177952B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2008-11-05 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
US6692897B2 (en) * | 2000-07-12 | 2004-02-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive resist composition |
JP4190138B2 (ja) * | 2000-08-02 | 2008-12-03 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
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JP3992993B2 (ja) | 2001-02-21 | 2007-10-17 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型電子線、x線又はeuv用レジスト組成物 |
JP4025074B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2007-12-19 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
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-
2003
- 2003-03-31 JP JP2003094331A patent/JP4115322B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-03-30 US US10/812,074 patent/US7361446B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-30 EP EP04007652A patent/EP1467251B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-30 AT AT04007652T patent/ATE480799T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-03-30 DE DE602004028982T patent/DE602004028982D1/de not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-10-29 US US11/926,479 patent/US8080362B2/en active Active