JP2003140344A5 - - Google Patents
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Claims (6)
- (A)カチオン部に水酸基を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩化合物及び
(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - (A)成分のスルホニウム塩化合物が、下記一般式(I)で表されることを特徴とする請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 更に(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のポジ型感光性組成物。
- (C)塩基性化合物が、イミダゾール構造、ジアザビシクロ構造、オニウムヒドロキシド構造、オニウムカルボキシレート構造、トリアルキルアミン構造及びアニリン構造から選ばれる構造を有する化合物であることを特徴とする請求項3に記載のポジ型感光性組成物。
- 更に(F)酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有し、分子量3000以下の溶解阻止低分子化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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