JP2003295439A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003295439A5
JP2003295439A5 JP2002096411A JP2002096411A JP2003295439A5 JP 2003295439 A5 JP2003295439 A5 JP 2003295439A5 JP 2002096411 A JP2002096411 A JP 2002096411A JP 2002096411 A JP2002096411 A JP 2002096411A JP 2003295439 A5 JP2003295439 A5 JP 2003295439A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
halogen atom
alkyl group
aralkyl
alkenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002096411A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3856306B2 (ja
JP2003295439A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002096411A priority Critical patent/JP3856306B2/ja
Priority claimed from JP2002096411A external-priority patent/JP3856306B2/ja
Publication of JP2003295439A publication Critical patent/JP2003295439A/ja
Publication of JP2003295439A5 publication Critical patent/JP2003295439A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3856306B2 publication Critical patent/JP3856306B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Claims (2)

  1. （Ａ）下記一般式（１）で表される繰返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、
    （Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、
    （Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び
    （Ｄ）下記一般式（２）で表される４級アンモニウム塩、
    を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
    Figure 2003295439
    （式中、Ａは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
    Figure 2003295439
    （式中、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、Ｂ-はＯＨ-基、ハロゲン原子、Ｒ7-ＣＯ2 -基、又はＲ7-ＳＯ3 -基を表し、Ｒ7はアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）
  2. 請求項１に記載のネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
JP2002096411A 2002-03-29 2002-03-29 ネガ型レジスト組成物 Expired - Lifetime JP3856306B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002096411A JP3856306B2 (ja) 2002-03-29 2002-03-29 ネガ型レジスト組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002096411A JP3856306B2 (ja) 2002-03-29 2002-03-29 ネガ型レジスト組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003295439A JP2003295439A (ja) 2003-10-15
JP2003295439A5 true JP2003295439A5 (ja) 2005-04-07
JP3856306B2 JP3856306B2 (ja) 2006-12-13

Family

ID=29239481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002096411A Expired - Lifetime JP3856306B2 (ja) 2002-03-29 2002-03-29 ネガ型レジスト組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3856306B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007071902A (ja) * 2005-09-02 2007-03-22 Fujifilm Corp 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
US20080241745A1 (en) 2007-03-29 2008-10-02 Fujifilm Corporation Negative resist composition and pattern forming method using the same
JP4958821B2 (ja) * 2007-03-29 2012-06-20 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5422210B2 (ja) * 2009-01-09 2014-02-19 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
US10527934B2 (en) * 2012-10-31 2020-01-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Photoresists comprising ionic compound
JP5920229B2 (ja) * 2013-01-23 2016-05-18 信越化学工業株式会社 光硬化性樹脂組成物、光硬化性ドライフィルム、パターン形成方法、及び電気・電子部品保護用皮膜

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3546927B2 (ja) * 1997-06-26 2004-07-28 信越化学工業株式会社 レジスト材料
US6187505B1 (en) * 1999-02-02 2001-02-13 International Business Machines Corporation Radiation sensitive silicon-containing resists
JP2002049150A (ja) * 2000-08-03 2002-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd 電子線又はｘ線用ネガ型レジスト組成物
JP2002090986A (ja) * 2000-09-14 2002-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型レジスト組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004117688A5 (ja)
JP2003241379A5 (ja)
JP2004302198A5 (ja)
JP2006276760A5 (ja)
JP2000214588A5 (ja)
JP2004101706A5 (ja)
JP2001183837A5 (ja)
JP2004029136A5 (ja)
JP2003035948A5 (ja)
JP2004277303A5 (ja)
JP2004271629A5 (ja)
JP2004126013A5 (ja)
JP2003262952A5 (ja)
JP2002303978A5 (ja)
JP2002323768A5 (ja)
JP2000231194A5 (ja)
JP2003295438A5 (ja)
JP2003295439A5 (ja)
JP2004053822A5 (ja)
JP2000352822A5 (ja)
JP2003177537A5 (ja)
JP2000187329A5 (ja)
JP2003316007A5 (ja)
JP2004077810A5 (ja)
JP2003140331A5 (ja)