JP2004077810A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004077810A5
JP2004077810A5 JP2002238157A JP2002238157A JP2004077810A5 JP 2004077810 A5 JP2004077810 A5 JP 2004077810A5 JP 2002238157 A JP2002238157 A JP 2002238157A JP 2002238157 A JP2002238157 A JP 2002238157A JP 2004077810 A5 JP2004077810 A5 JP 2004077810A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkali
hydrogen atom
soluble resin
resist composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002238157A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004077810A (ja
JP4213925B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002238157A priority Critical patent/JP4213925B2/ja
Priority claimed from JP2002238157A external-priority patent/JP4213925B2/ja
Priority to US10/642,291 priority patent/US7432034B2/en
Publication of JP2004077810A publication Critical patent/JP2004077810A/ja
Publication of JP2004077810A5 publication Critical patent/JP2004077810A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4213925B2 publication Critical patent/JP4213925B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (4)

  1. (Ａ) アルカリ可溶性樹脂、
    （Ｂ−１）分子内に少なくともひとつのベンゼン環を含むフェノール誘導体であり、いずれかのベンゼン環に結合した２個以上の架橋基を有し、該架橋基がヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基及びアシルオキシメチル基からなる群から選択される基である、酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂(Ａ)と架橋する架橋剤、
    （Ｂ−２）下記一般式（１）又は下記一般式（２）で表される基から選ばれる基を少なくとも２個以上有する、酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂(Ａ)と架橋する架橋剤、及び、
    （Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
    を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
    Figure 2004077810
    （式中、Ｒ3は、水素原子、アルキル基又はアルキルカルボニル基を表す。）
    Figure 2004077810
    （式中、Ｒ4は及びＲ5は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキルカルボニル基を表す。）
  2. (Ａ)成分のアルカリ可溶性樹脂が、下記一般式（３）で表される繰返し単位を有することを特徴とする請求項１に記載のネガ型レジスト組成物。
    Figure 2004077810
    （式中、Ａは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
  3. 更に、(Ｄ)含窒素塩基性化合物を含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のネガ型レジスト組成物。
  4. 請求項１〜３のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
JP2002238157A 2002-08-19 2002-08-19 ネガ型レジスト組成物 Expired - Fee Related JP4213925B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002238157A JP4213925B2 (ja) 2002-08-19 2002-08-19 ネガ型レジスト組成物
US10/642,291 US7432034B2 (en) 2002-08-19 2003-08-18 Negative resist composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002238157A JP4213925B2 (ja) 2002-08-19 2002-08-19 ネガ型レジスト組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004077810A JP2004077810A (ja) 2004-03-11
JP2004077810A5 true JP2004077810A5 (ja) 2005-09-22
JP4213925B2 JP4213925B2 (ja) 2009-01-28

Family

ID=31712188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002238157A Expired - Fee Related JP4213925B2 (ja) 2002-08-19 2002-08-19 ネガ型レジスト組成物

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7432034B2 (ja)
JP (1) JP4213925B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030054287A1 (en) * 2001-04-13 2003-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Resist composition
JP4770225B2 (ja) * 2004-03-25 2011-09-14 三菱瓦斯化学株式会社 レジスト組成物
WO2008026401A1 (fr) * 2006-08-29 2008-03-06 Jsr Corporation Composition de résine isolante photosensible et produit durci à base de cette résine
JP4990344B2 (ja) * 2009-12-04 2012-08-01 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5597616B2 (ja) * 2011-10-03 2014-10-01 富士フイルム株式会社 ネガ型化学増幅レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
JP6267982B2 (ja) * 2014-02-05 2018-01-24 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、新規化合物、及び、新規化合物の製造方法
US10649339B2 (en) * 2016-12-13 2020-05-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Resist material and method for forming semiconductor structure using resist layer

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4873176A (en) * 1987-08-28 1989-10-10 Shipley Company Inc. Reticulation resistant photoresist coating
JPH0215270A (ja) 1988-07-04 1990-01-18 Tosoh Corp フォトレジスト組成物
CA2019693A1 (en) 1989-07-07 1991-01-07 Karen Ann Graziano Acid-hardening photoresists of improved sensitivity
JP2861309B2 (ja) 1990-07-12 1999-02-24 三菱化学株式会社 ネガ型感光性組成物
KR960015081A (ko) * 1993-07-15 1996-05-22 마쯔모또 에이이찌 화학증폭형 레지스트 조성물
JP3645362B2 (ja) * 1996-07-22 2005-05-11 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
US6114082A (en) * 1996-09-16 2000-09-05 International Business Machines Corporation Frequency doubling hybrid photoresist having negative and positive tone components and method of preparing the same
US6190833B1 (en) * 1997-03-30 2001-02-20 Jsr Corporation Radiation-sensitive resin composition
JP3929653B2 (ja) * 1999-08-11 2007-06-13 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
JP3956078B2 (ja) 1999-10-20 2007-08-08 信越化学工業株式会社 レジスト組成物用ベースポリマー並びにレジスト材料及びパターン形成方法
EP1096313A1 (en) * 1999-11-01 2001-05-02 Kansai Research Institute, Inc. Active particle, photosensitive resin composition, and process for forming pattern
JP3790649B2 (ja) 1999-12-10 2006-06-28 信越化学工業株式会社 レジスト材料
SG98433A1 (en) * 1999-12-21 2003-09-19 Ciba Sc Holding Ag Iodonium salts as latent acid donors
JP4070393B2 (ja) * 2000-01-17 2008-04-02 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
US6576394B1 (en) 2000-06-16 2003-06-10 Clariant Finance (Bvi) Limited Negative-acting chemically amplified photoresist composition
JP2002049155A (ja) 2000-08-01 2002-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd レジスト組成物
JP2002131908A (ja) 2000-10-20 2002-05-09 Fuji Photo Film Co Ltd 電子線又はｘ線用ネガ型レジスト組成物
JP4645789B2 (ja) * 2001-06-18 2011-03-09 Ｊｓｒ株式会社 ネガ型感放射線性樹脂組成物
JP3790960B2 (ja) * 2001-10-19 2006-06-28 富士写真フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
US6977131B2 (en) * 2002-05-30 2005-12-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Selected polymeric sulfonate acid generators and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004117688A5 (ja)
JP2009258723A5 (ja)
JP2008268931A5 (ja)
JP2003241379A5 (ja)
JP2004302198A5 (ja)
JP2006276760A5 (ja)
JP2004101706A5 (ja)
JP2001183837A5 (ja)
JP2003122006A5 (ja)
JP2011035173A5 (ja)
JP2004029136A5 (ja)
JP2004271629A5 (ja)
JP2004310004A5 (ja)
JP2003292547A5 (ja)
JP2004077810A5 (ja)
JP2000231194A5 (ja)
JP2003316004A5 (ja)
JP2004101642A5 (ja)
JP2003121999A5 (ja)
JP2003295438A5 (ja)
JP2003316007A5 (ja)
JP2000187329A5 (ja)
JP2004279471A5 (ja)
JP2003295439A5 (ja)
JP2002006495A5 (ja)