JP2009258723A5

JP2009258723A5 -

Info

Publication number: JP2009258723A5
Application number: JP2009082006A
Authority: JP
Filing date: 2009-03-30
Publication date: 2010-12-24
Anticipated expiration: 2029-03-30

Description

（１）（Ａ）下記一般式（１）で表される構成単位とオキセタン基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、前記Ａを除く）及び（Ｃ）波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

（２）（Ａ）下記一般式（１）で表される構成単位とエポキシ基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、前記Ａを除く）及び（Ｃ）波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（１）に於いて、
Ｒ ^１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ ^２及びＲ ^３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。但し、Ｒ ^２及びＲ ^３が同時に水素原子の場合を除く。
Ｒ ^４は、置換されてもよい直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、又はアラルキル基を表す。
Ｒ ^２とＲ ^４が連結して環状エーテルを形成しても良い。
（３）（Ａ）成分におけるエポキシ基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表される単量体由来の単位であることを特徴とする上記（２）に記載のポジ型感光性樹脂組成物。

式中、Ｘは２価の連結基を表す。
Ｒ ^７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ ^１１及びＲ ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。
ｎは、１〜１０の整数を表す。
（４）（Ａ）成分におけるエポキシ基を有する構成単位が、下記一般式（３）又は（５）で表される単量体由来の単位であることを特徴とする上記（２）に記載のポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（３）及び（５）中、Ｘは２価の連結基を表す。
Ｒ ^７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ ^８〜Ｒ ^１０及びＲ ^１３〜Ｒ ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。
ｎは、１〜１０の整数を表す。
（５）（Ｃ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物を含有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

（６）（Ｃ）成分が、下記一般式（３）で表される化合物を含有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（２Ａ）に於いて、
Ｒ^５は、置換されてもよい直鎖状、分岐状、環状アルキル基、あるいは置換されてもよいアリール基を表す
Ｘは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。

（７） (Ｄ) 密着助剤を更に含有することを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥し、塗膜を形成する工程、マスクを介して波長３００ｎｍ以上の活性光線を用いて露光する工程、アルカリ現像液を用いて現像し、パターンを形成する工程及び得られたパターンを加熱処理する工程を含むことを特徴とする硬化膜形成方法。
（９）更に、アルカリ現像液を用いて現像し、パターンを形成する工程後、得られたパターンを加熱処理する工程前に、全面露光する工程を含むことを特徴とする上記（８）に記載の硬化膜形成方法。
（１０）上記（８）又は（９）に記載の方法により得られた硬化膜。

以下、更に、本発明の好ましい実施の態様を挙げる。
（１１）（Ａ）成分の総量１００質量部に対して、（Ｂ）成分を、１〜５０質量部含有することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

（１２）（Ａ）成分の総量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を、０．１〜１０質量部含有することを特徴とする上記（１）〜（７）及び（１１）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

（１３）（Ａ）成分の総量１００質量部に対して、（Ｄ）成分を、０．１〜２０質量部含有することを特徴とする上記（７）、（１１）及び（１２）のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

Ｒ^５のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基あるいはナフチル基が更に好ましい。Ｒ^５のアリール基は、炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基あるいはハロゲン原子で置換されてもよい。
一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含有する上記化合物は、下記一般式（２Ａ）で表される化合物であることが更に好ましい。

一般式（２Ａ）に於いて、
Ｒ^５は、式（２）におけるＲ^５と同じである。
Ｘは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
Ｘとしてのアルキル基は、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状アルキル基が好ましい。

Ｘとしてのアルコキシ基は、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状アルコキシ基が好ましい。
Ｘとしてのハロゲン原子は、塩素原子若しくはフッ素原子が好ましい。
ｍは、０又は１が好ましい。
特に、一般式（２Ａ）において、ｍが１、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。

Claims

（Ａ）下記一般式（１）で表される構成単位とオキセタン基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、前記Ａを除く）及び（Ｃ）波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（１）に於いて、
Ｒ^１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。但し、Ｒ^２及びＲ^３が同時に水素原子の場合を除く。
Ｒ^４は、置換されてもよい直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、又はアラルキル基を表す。
Ｒ^２とＲ^４が連結して環状エーテルを形成しても良い。
（Ａ）下記一般式（１）で表される構成単位とエポキシ基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、前記Ａを除く）及び（Ｃ）波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（１）に於いて、
Ｒ ^１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ ^２及びＲ ^３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。但し、Ｒ ^２及びＲ ^３が同時に水素原子の場合を除く。
Ｒ ^４は、置換されてもよい直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、又はアラルキル基を表す。
Ｒ ^２とＲ ^４が連結して環状エーテルを形成しても良い。
（Ａ）成分におけるエポキシ基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表される単量体由来の単位であることを特徴とする請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。

式中、Ｘは２価の連結基を表す。
Ｒ ^７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ ^１１及びＲ ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。
ｎは、１〜１０の整数を表す。
（Ａ）成分におけるエポキシ基を有する構成単位が、下記一般式（３）又は（５）で表される単量体由来の単位であることを特徴とする請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（３）及び（５）中、Ｘは２価の連結基を表す。
Ｒ ^７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ ^８〜Ｒ ^１０及びＲ ^１３〜Ｒ ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。
ｎは、１〜１０の整数を表す。
（Ｃ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（２）に於いて、
Ｒ^５は、置換されてもよい直鎖状、分岐状、環状アルキル基、あるいは置換されてもよいアリール基を表す。
（Ｃ）成分が、下記一般式（２Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。

一般式（２Ａ）に於いて、
Ｒ^５は、置換されてもよい直鎖状、分岐状、環状アルキル基、あるいは置換されてもよいアリール基を表す。
Ｘは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
(Ｄ)密着助剤を更に含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥し、塗膜を形成する工程、マスクを介して波長３００ｎｍ以上の活性光線を用いて露光する工程、アルカリ現像液を用いて現像し、パターンを形成する工程及び得られたパターンを加熱処理する工程を含むことを特徴とする硬化膜形成方法。
更に、アルカリ現像液を用いて現像し、パターンを形成する工程後、得られたパターンを加熱処理する工程前に、全面露光する工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の硬化膜形成方法。
請求項８又は９に記載の方法により得られた硬化膜。