JP2006251296A - カラーフィルター - Google Patents

カラーフィルター Download PDF

Info

Publication number
JP2006251296A
JP2006251296A JP2005066932A JP2005066932A JP2006251296A JP 2006251296 A JP2006251296 A JP 2006251296A JP 2005066932 A JP2005066932 A JP 2005066932A JP 2005066932 A JP2005066932 A JP 2005066932A JP 2006251296 A JP2006251296 A JP 2006251296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituted
chemically amplified
resist composition
amplified positive
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005066932A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunichi Murayama
俊一 村山
Harufumi Hagino
治文 萩野
Masatsugu Komai
正嗣 駒井
Yoshiyuki Kato
義之 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyowa Hakko Chemical Co Ltd filed Critical Kyowa Hakko Chemical Co Ltd
Priority to JP2005066932A priority Critical patent/JP2006251296A/ja
Publication of JP2006251296A publication Critical patent/JP2006251296A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

【課題】残渣が少なくパターン欠陥の少ないカラーフィルター、該カラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
Figure 2006251296

[式中、R、RおよびRは、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリール等を表し、Xは、OまたはNR(式中、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す)を表す]で表される基を有する重合体、放射線の照射により酸を発生する化合物、有機溶剤および着色剤を含有する。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶表示装置、固体撮像装置等に用いられるカラーフィルターに関する。
液晶表示装置において、表示画面のコントラストを高めて高品位の表示を可能とするために、カラーフィルターが用いられている。カラーフィルターとは、液晶カラーディスプレイにおいてカラー表示するために用いられる液晶セル内に構成される部材の一つで顔料等が入った樹脂膜で、該樹脂膜は、透明ガラス基板上に赤、緑、青の三原色パターンが規則正しく配列するように形成されている。
このカラーフィルターに使用されているレジストとしては、ネガレジストが一般的に用いられているが、レジストパターン形成後に本来レジストが残ってはいけない領域に残渣が生じやすい、また、感度が悪く感光させるのに多大な露光量を必要とし生産性が悪いという課題がある。残渣が工程内にて生じた場合、例えば赤色画素領域に青色画素の残渣が点または線状に残存する結果となり、実用上、満足されるものではない。
残渣が残存するという課題を解消する方法として、レジストパターンが形成された基板表面をブラシまたはスポンジにより擦り、不要なレジスト残渣を機械的に除去する方法、同じく基板表面に高圧の現像液を吹きかけ、不要なレジスト残渣を機械的および化学的に除去する方法がそれぞれ開示されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、これらの方法を実施した場合、残渣を除去すべくブラシ、スポンジ、または高圧の現像液を吹きかけられる装備を配した装置を必要とし、残渣を除去すべく余分な工程が付加され生産性も悪くなり、また基板の表面に形成されたレジストパターンにも除去力が加わるため、剥落、欠け等のパターン欠陥が発生し信頼性にも課題が生じる。
化学増幅ポジ型レジストは一般的に高感度、高解像度、高残膜率で、半導体用レジストとして使用できることが、知られている。半導体用レジストにおいては、適用される露光装置の露光波長は198〜254nmである。また、後述する一般式(I)で表される基を有する重合体は、半導体用レジスト等の原料としてこれまで開発されており、技術が公開されている(例えば、特許文献2および3参照)。一方、カラーフィルター用レジストにおいては、適用される露光装置の露光波長は254〜450nmであり、適用される露光装置すなわち露光波長が半導体用レジスト等の場合とは大きく異なる。
特開平10−198049号公報 国際公開第03/06407号パンフレット 特開2004−45448号公報
本発明の目的は、残渣が少なく、パターン欠陥の少ないカラーフィルター、該カラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物等を提供することにある(ここで、残渣とは、カラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物の未硬化物等を意味する)。
本発明は、以下の(1)〜(10)を提供する。
(1)(A)一般式(I)
Figure 2006251296
[式中、R、RおよびRは、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表すか、RとRが、隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルキルを形成するか、またはRとRが、隣接するC−C−Oと一緒になって含酸素複素環を形成してもよく、Xは、OまたはNR(式中、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す)を表す]で表される基を有する重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)有機溶剤および(D)着色剤を含有することを特徴とするカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(2)一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(II)
Figure 2006251296
(式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、Rは水素原子または低級アルキルを表す)で表される構造単位を含む重合体である(1)記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(3)一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(III)
Figure 2006251296
(式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される構造単位を含む重合体である(1)記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(4)一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(IV)
Figure 2006251296
(式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、RおよびRは、同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、nは1〜3の整数を表す)で表される構造単位を含む重合体である(1)記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(5)一般式(I)で表される基を有する重合体の重量平均分子量が、500〜200,000である(1)〜(4)のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(6)放射線の照射により酸を発生する化合物が、波長300nm以上の放射線の照射により酸を発生する化合物である(1)〜(5)のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(7)塩基性化合物を含有する(1)〜(6)のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(8)硬化剤を含有する(1)〜(7)のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
(9)(a)(1)〜(8)のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物を基板に塗布し、
(b)該カラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物が塗布された該基板をマスクパターンを使用して露光し、
(c)露光後の該カラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物が塗布された基板を現像液による現像に付してレジストパターンを得る
上記の(a)〜(c)を含む工程を1回から複数回繰り返すことによって得られるカラーフィルター。
(10)(9)記載のカラーフィルターを用いた液晶表示装置または固体撮像装置。
本発明により、残渣が少なく、パターン欠陥の少ないカラーフィルター、該カラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物等が提供される。
以下、一般式(I)で表される基を有する重合体を重合体(I)と表現することもある。また、一般式(i)で表される構造単位を含む重合体を重合体(i)と表現することもある。
一般式中の各基の定義において、アルキルとしては、例えば、直鎖または分枝状の炭素数1〜18のアルキルがあげられ、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル等があげられるが、中でも、炭素数1〜6のアルキルが好ましく、さらには炭素数1〜3のアルキルがより好ましい。
低級アルキルとしては、例えば、直鎖または分枝状の炭素数1〜8のアルキルがあげられ、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル等があげられる。
とRが隣接する炭素原子と一緒になって形成するシクロアルキルとしては、例えば、炭素数3〜8のシクロアルキルがあげられ、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等があげられる。
アリールとしては、例えば、炭素数6〜14のアリールがあげられ、具体的には、フェニル、ナフチル等があげられる。
アラルキルとしては、例えば、炭素数7〜15のアラルキルがあげられ、具体的には、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、ナフチルエチル等があげられる。
とRが隣接するC−C−Oと一緒になって形成する含酸素複素環としては、例えば、5〜8員のものがあげられ、具体的には、オキソラン環、オキサン環、オキセパン環等があげられる。
アルキルの置換基としては、例えば、アルコキシ、アルカノイル、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル等があげられる。
アルコキシおよびアルコキシカルボニルのアルキル部分は、前記のアルキルと同義である。
アルカノイルとしては、例えば、直鎖または分枝状の炭素数1〜7のアルカノイルがあげられ、具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル等があげられる。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子があげられる。
アリールおよびアラルキルの置換基としては、例えば、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル等があげられる。ここで、アルキル、アルカノイル、アルコキシおよびアルコキシカルボニルのアルキル部分ならびにハロゲン原子は、それぞれ前記と同義である。
重合体(II)、(III)および(IV)において、R、RおよびRがともにアルキルであるのものがそれぞれ好ましい。
また、重合体(II)において、Rが水素原子またはメチルであるものが好ましい。
重合体(I)は、WO03/6407または特開2004−45448号公報に記載の方法またはそれらの方法に準じて製造することができる。
重合体(I)は、例えば、以下のように製造することができる。
重合体(I)は、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、スルホ基、スルホンアミド基およびホスホノ基のうちの少なくとも一種を分子中に有する樹脂[(メタ)アクリル酸系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコールの重合体等](以下、樹脂Aということもある)と、対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物とを反応させることにより得ることができる。
樹脂A中のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、スルホ基、スルホンアミド基またはホスホノ基と、対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物の当量比(モル比)は、1:0.9〜1:2であるのが好ましく、さらには1:0.9〜1:1.5であるのが好ましく、さらには1:1〜1:1.2であるのがより好ましい。
反応温度は、0〜150℃であるのが好ましく、さらには0〜100℃であるのが好ましく、さらには0〜50℃であるのがより好ましい。
反応の際、酸触媒を使用してもよく、該酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸等があげられ、中でも、p−トルエンスルホン酸が好ましい。該酸触媒は、2種以上組み合わせて用いてもよい。該酸触媒の使用量は、特に限定されないが、樹脂Aのヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、スルホ基、スルホンアミド基またはホスホノ基に対して、0.0001〜0.5当量(モル比)であるのが好ましく、0.001〜0.1当量(モル比)であるのがより好ましい。
また、反応の際に、必要に応じて有機溶媒を使用してもよい。該有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等があげられ、これらは、1種でまたは2種以上混合して用いてもよい。
アルケニルエーテルの具体例としては、例えば、1−メトキシ−2−メチルプロペン、1−エトキシ−2−メチルプロペン、1−プロポキシ−2−メチルプロペン、1−イソプロポキシ−2−メチルプロペン、1−ブトキシ−2−メチルプロペン、1−イソブトキシ−2−メチルプロペン、1−(tert−ブトキシ)−2−メチルプロペン、1−ペンチルオキシ−2−メチルプロペン、1−イソペンチルオキシ−2−メチルプロペン、1−ネオペンチルオキシ−2−メチルプロペン、1−(tert−ペンチルオキシ)−2−メチルプロペン、1−ヘキシルオキシ−2−メチルプロペン、1−イソヘキシルオキシ−2−メチルプロペン、1−(2−エチルヘキシル)−2−メチルプロペン、1−ヘプチルオキシ−2−メチルプロペン、1−オクチルオキシ−2−メチルプロペン、1−ノニルオキシ−2−メチルプロペン、1−デカニルオキシ−2−メチルプロペン、1−ドデカニルオキシ−2−メチルプロペン、1−オクタデカニルオキシ−2−メチルプロペン、1−メトキシ−2−メチル−1−ブテン、1−エトキシ−2−メチル−1−ブテン、1−プロポキシ−2−メチル−1−ブテン、1−イソプロポキシ−2−メチル−1−ブテン、1−ブトキシ−2−メチル−1−ブテン、1−イソブトキシ−2−メチル−1−ブテン、1−(tert−ブトキシ)−2−メチル−1−ブテン、1−ペンチルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−イソペンチルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−ネオペンチルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−(tert−ペンチルオキシ)−2−メチル−1−ブテン、1−ヘキシルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−イソヘキシルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−(2−エチルヘキシル)−2−メチル−1−ブテン、1−ヘプチルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−オクチルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−ノニルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−デカニルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−ドデカニルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−オクタデカニルオキシ−2−メチル−1−ブテン、1−メトキシ−2−エチル−1−ブテン、1−エトキシ−2−エチル−1−ブテン、1−プロポキシ−2−エチル−1−ブテン、1−イソプロポキシ−2−エチル−1−ブテン、1−ブトキシ−2−エチル−1−ブテン、1−イソブトキシ−2−エチル−1−ブテン、1−(tert−ブトキシ)−2−エチル−1−ブテン、1−ペンチルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−イソペンチルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−ネオペンチルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−(tert−ペンチルオキシ)−2−エチル−1−ブテン、1−ヘキシルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−イソヘキシルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−(2−エチルヘキシル)−2−エチル−1−ブテン、1−ヘプチルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−オクチルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−ノニルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−デカニルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−ドデカニルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−オクタデカニルオキシ−2−エチル−1−ブテン、1−(2−メトキシエトキシ)−2−メチルプロペン、1−(2−エトキシエトキシ)−2−メチルプロペン、1−(2−ブトキシエトキシ)−2−メチルプロペン、1−(2−メトキシエトキシ)−2−メチル−1−ブテン、1−(2−エトキシエトキシ)−2−メチル−1−ブテン、1−(2−ブトキシエトキシ)−2−メチル−1−ブテン、1−(2−メトキシエトキシ)−2−エチル−1−ブテン、1−(2−エトキシエトキシ)−2−エチル−1−ブテン、1−(2−ブトキシエトキシ)−2−エチル−1−ブテン等があげられる。対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物は、1種でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
また、重合体(I)は、一般式(I)で表される基を有するモノマーを重合することによっても得ることができる。例えば、一般式(I)で表される基を有するモノマーがビニル系モノマーの場合、重合体(I)は、一般式(I)で表される基を有するビニル系モノマーを公知の方法で(例えば、特開平9−59324号公報、特開平7−62190号公報、WO01/23447公報、特開昭54−110248号公報、特開昭58−20991号公報等)またはそれらの方法に準じて、重合することにより得ることができる。
重合体(I)の重量平均分子量は500〜200,000であるのが好ましい。
重合体(I)は、本発明のカラーフィルターの機械強度を上げるためにTg(ガラス転移温度)が30℃以上であるのが好ましい。
例えば、重合体(II)は、一般式(A)
Figure 2006251296
(式中、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表されるビニル系モノマーを、公知の方法で(例えば、特開平9−59324号公報、特開平7−62190号公報、WO01/23447公報、特開昭54−110248号公報、特開昭58−20991号公報等)またはそれらの方法に準じて、重合することにより得ることができる。
一般式(A)で表されるビニル系モノマーは、一般式(B)
Figure 2006251296
(式中、Rは前記と同義である)で表されるビニル系モノマーと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物とを反応させることにより、得ることができる。一般式(B)で表されるビニル系モノマーと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件は、前記樹脂Aと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件と同様の条件に設定することができる。
重合体(II)の原料においては、一般式(I)で表される基を有さないビニル系モノマーが含まれていてよく、重合体(II)は、ホモポリマーまたはコポリマーである。
重合体(II)の原料において、全ビニル系モノマー中に、一般式(A)で表されるビニル系モノマーが0.2〜90モル%含まれているのが好ましく、さらには、10〜60モル%含まれているのがより好ましい。
一般式(I)で表される基を有さないビニル系モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等の炭素数1〜18のアルコールと(メタ)アクリル酸を原料として得られる(メタ)アクリル酸アルキルエステル類、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジメチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等のグリコールジ(メタ)アクリレート類、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート類、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、β−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート等のフッ素含有ビニル系モノマー、1−[3−(メタ)アクリロキシプロピル]−1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキサン)シラン、AK−5[シリコーンマクロモノマー、東亜合成化学工業(株)製]等のシロキサン含有ビニル系モノマー、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルジエトキシシラン等の加水分解性シリル基含有ビニル系モノマー、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、アマニ油脂肪酸、トール油脂肪酸、脱水ひまし油脂肪酸等の多塩基性不飽和カルボン酸またはそれらの一価もしくは多価アルコールのエステル、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートメチルクロライド塩、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、アリルアルコールエステル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸グリシジル、マクロモノマーAS−6、AN−6、AA−6、AB−6[東亜合成化学工業(株)製]等の公知のビニル系モノマー等があげられる。前記において、(メタ)アクリル酸は、アクリル酸またはメタクリル酸を表し、他の(メタ)アクリル酸誘導体についても同様である。
一般式(I)で表される基を有さないビニル系モノマーとして、例えば耐エッチング性を高める場合には、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、スチレン等を使用するのが好ましい。
また、重合体(II)は、一般式(B)で表されるビニル系モノマーを公知の方法で(例えば、特開平9−59324号公報、特開平7−62190号公報、WO01/23447公報、特開昭54−110248号公報、特開昭58−20991号公報等)またはそれらの方法に準じて、重合させ、さらに得られた重合体と対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物とを反応させることにより得ることもできる。該反応における反応条件は、前記樹脂Aと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件と同様の条件に設定することができる。また、対応するアルケニルエーテルとしては、前記と同様のものがあげられる。重合体(II)の原料は、一般式(B)で表されるビニル系モノマー以外のビニル系モノマーを含んでいてもよい。
重合体(II)の重量平均分子量は、500〜200,000であるのが好ましく、1,000〜150,000であるのがより好ましい。
重合体(III)は、ヒドロキシスチレンを対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物と反応させた後、得られる一般式(I)で表される基を有するモノマーを公知の方法で(例えば、特開平9−59324号公報、特開平7−62190号公報、WO01/23447公報、特開昭54−110248号公報、特開昭58−20991号公報等)またはそれらの方法に準じて、重合させることにより得ることができる。ヒドロキシスチレンと対応するアルケニルエーテルとの反応における反応条件は、前記樹脂Aと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件と同様に設定することができる。また、対応するアルケニルエーテルとしては、前記と同様のものがあげられる。
重合体(III)の原料においても、一般式(I)で表される基を有さないビニル系モノマーが含まれていてもよく、重合体(III)は、ホモポリマーまたはコポリマーである。一般式(I)で表される基を有さないビニル系モノマーとしては、前記と同様のものがあげられる。
重合体(III)の原料において、全ビニル系モノマー中に、一般式(I)で表される基を有するビニル系モノマーが0.2〜90モル%含まれているのが好ましく、さらには、10〜60モル%含まれているのがより好ましい。
また、重合体(III)は、例えば、一般式(V)
Figure 2006251296
で表される構造単位を含む樹脂と対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物とを反応させることによっても得ることができる。
一般式(V)で表される構造単位を含む樹脂としては、例えば、ポリヒドロキシスチレンまたはヒドロキシスチレンと他のビニル系モノマーとの共重合体等があげられる。
一般式(V)で表される構造単位を含む樹脂と対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件は、前記樹脂Aと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件と同様の条件に設定することができる。
重合体(III)の重量平均分子量は、500〜200,000であるのが好ましく、1,000〜50,000であるのがより好ましい。
重合体(IV)は、例えば、一般式(C)
Figure 2006251296
(式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される構造単位を含む樹脂と対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物と反応させることにより得ることができる。一般式(I)で表される構造単位を含む樹脂と対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件は、前記樹脂Aと対応するアルケニルエーテルまたはそのハロゲン化物との反応における反応条件と同様の条件に設定することができる。
一般式(C)で表される構造単位を含む樹脂は、その多くは市販品として入手可能であるが、例えば、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,4−トリメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール、3,4,5−トリメチルフェノール等のフェノール類と、例えば、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラル、アセトアルデヒド等のアルデヒド類とを酸性触媒(例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸等)の存在下、重縮合して製造してもよい。前記のフェノール類およびアルデヒド類はそれぞれ単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
また、アルデヒド類の使用量は、フェノール類の総量1モルに対し、0.7〜3モルであるのが好ましく、0.75〜1.30モルであるのがより好ましい。
重合体(IV)の重量平均分子量(Mw)は、500〜200,000であるのが好ましく、1,000〜50,000であるのがより好ましい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型カラーレジスト組成物に含有される放射線の照射により酸を発生する化合物としては、波長300nm以上の放射線の照射により酸を発生する化合物が好ましい。
放射線の照射により酸を発生する化合物としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニルジアゾメタン、N−スルホニルオキシイミノまたはイミド型酸発生剤、ベンゾインスルホネート型光酸発生剤、ピロガロールトリスルホネート型光酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート型光酸発生剤、スルホン型光酸発生剤、グリオキシム誘導体型の光酸発生剤等があげられ、中でも、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニルジアゾメタン、N−スルホニルオキシイミノまたはイミド型酸発生剤等が好ましい。これらは単独でまたは2種以上にて混合して用いることができる。
スルホニウム塩は、スルホニウムカチオンとスルホネートの塩である。スルホニウムカチオンとしては、例えば、トリフェニルスルホニウム、(4−tert−ブトキシフェニル)ジフェニルスルホニウム、ビス(4−tert−ブトキシフェニル)フェニルスルホニウム、トリス(4−tert−ブトキシフェニル)スルホニウム、(3−tert−ブトキシフェニル)ジフェニルスルホニウム、ビス(3−tert−ブトキシフェニル)フェニルスルホニウム、トリス(3−tert−ブトキシフェニル)スルホニウム、(3,4−ジtert−ブトキシフェニル)ジフェニルスルホニウム、ビス(3,4−ジtert−ブトキシフェニル)フェニルスルホニウム、トリス(3,4−ジtert−ブトキシフェニル)スルホニウム、ジフェニル(4−チオフェノキシフェニル)スルホニウム、(4−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)ジフェニルスルホニウム、トリス(4−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)スルホニウム、(4−tert−ブトキシフェニル)ビス(4−ジメチルアミノフェニル)スルホニウム、トリス(4−ジメチルアミノフェニル)スルホニウム、2−ナフチルジフェニルスルホニウム、ジメチル−2−ナフチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、4−メトキシフェニルジメチルスルホニウム、トリメチルスルホニウム、2−オキソシクロヘキシルシクロヘキシルメチルスルホニウム、トリナフチルスルホニウム、トリベンジルスルホニウム等があげられる。スルホネートとしては、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、4−(4−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンファースルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネート、メタンスルホネート等があげられる。
ヨードニウム塩は、ヨードニウムカチオンとスルホネートの塩である。ヨードニウムカチオンとしては、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、(4−tert−ブトキシフェニル)フェニルヨードニウム、(4−メトキシフェニル)フェニルヨードニウム等のアリールヨードニウムカチオン等があげられる。スルホネートとしては、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、4−(4−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンファースルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネート、メタンスルホネート等があげられる。
スルホニルジアゾメタンとしては、例えば、ビス(エチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(1−メチルプロピルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2−メチルプロピルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(パーフルオロイソプロピルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−メチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2−ナフチルスルホニル)ジアゾメタン、(4−メチルフェニル)スルホニルベンゾイルジアゾメタン、(tert−ブチルカルボニル)−(4−メチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、(2−ナフチルスルホニル)ベンゾイルジアゾメタン、(4−メチルフェニルスルホニル)−(2−ナフトイル)ジアゾメタン、メチルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、(tert−ブトキシカルボニル)−(4−メチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン等のビススルホニルジアゾメタン、スルホニルカルボニルジアゾメタン等があげられる。
N−スルホニルオキシイミノ型光酸発生剤としては、例えば、[5−(4−メチルフェニルスルホニルオキシイミノ)−5H−チオフェン−2−イリデン]−(2−メチルフェニル)アセトニトリル、(5−プロピルスルホニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル、(5−カンファースルホニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル、α−(9−カンファースルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンゼンアセトニトリル、α−(4−メチルフェニルスルホニルオキシイミノ)ベンゼンアセトニトリル、α−(4−メチルフェニルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンゼンアセトニトリル等があげられる。
N−スルホニルオキシイミド型光酸発生剤としては、例えば、コハク酸イミド、ナフタレンジカルボン酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘキシルジカルボン酸イミド、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド、7−オキサビシクロ[2.2.1]−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸イミド等のイミド骨格とトリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンファースルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネート、メタンスルホネート等の組み合わせからなる化合物等があげられる。
ベンゾインスルホネート型光酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ベンゾインメシレート、ベンゾインブタンスルホネート等があげられる。
ピロガロールトリスルホネート型光酸発生剤としては、例えば、ピロガロール、フロログリシン、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等のヒドロキシル基の全てをトリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンファースルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネート、メタンスルホネート等で置換した化合物等があげられる。
ニトロベンジルスルホネート型光酸発生剤としては、例えば、2,4−ジニトロベンジルスルホネート、2−ニトロベンジルスルホネート、2,6−ジニトロベンジルスルホネート等があげられ、スルホネートとしては、具体的には、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンファースルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネート、メタンスルホネート等があげられる。またベンジル側のニトロ基をトリフルオロメチル基で置き換えた化合物も同様に用いることができる。
スルホン型光酸発生剤としては、例えば、ビス(フェニルスルホニル)メタン、ビス(4−メチルフェニルスルホニル)メタン、ビス(2−ナフチルスルホニル)メタン、2,2−ビス(フェニルスルホニル)プロパン、2,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニル)プロパン、2,2−ビス(2−ナフチルスルホニル)プロパン、2−メチル−2−(p−トルエンスルホニル)プロピオフェノン、2−(シクロヘキシルカルボニル)−2−(p−トルエンスルホニル)プロパン、2,4−ジメチル−2−(p−トルエンスルホニル)ペンタン−3−オン等があげられる。
グリオキシム誘導体型の光酸発生剤としては、例えば、ビス−o−(p−トルエンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(p−トルエンスルホル)−α−ジフェニルグリオキシム、ビス−o−(p−トルエンスルホニル)−α−ジシクロヘキシルグリオキシム、ビス−o−(p−トルエンスルホニル)−2,3−ペンタンジオングリオキシム、ビス−o−(p−トルエンスルホニル)−2−メチル−3,4−ペンタンジオングリオキシム、ビス−o−(n−ブタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(n−ブタンスルホニル)−α−ジフェニルグリオキシム、ビス−o−(n−ブタンスルホニル)−α−ジシクロヘキシルグリオキシム、ビス−o−(n−ブタンスルホニル)−2,3−ペンタンジオングリオキシム、ビス−o−(n−ブタンスルホニル)−2−メチル−3,4−ペンタンジオングリオキシム、ビス−o−(メタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(トリフルオロメタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(1,1,1−トリフルオロエタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(tert−ブタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(パーフルオロオクタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(シクロヘキシルスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(ベンゼンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(p−フルオロベンゼンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(p−tert−ブチルベンゼンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(キシレンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−o−(カンファースルホニル)−α−ジメチルグリオキシム等があげられる。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物において、放射線の照射により酸を発生する化合物の含有量としては、重合体(I)100重量部に対して0.1〜20重量部が好ましく、1〜10重量部がより好ましい。上記放射線の照射により酸を発生する化合物は単独でまたは2種以上混合して用いてもよい。
さらに、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、光増感剤、例えば、アントラセン類、アントラキノン類、クマリン類、ピロメテン類等の色素を必要に応じて、含有していてもよい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、硬化剤を含有しているのが好ましい。硬化剤の配合により、例えば、該組成物を用いてカラーフィルターを製造する際に、露光工程、または必要に応じて実施される加熱工程によってレジスト膜中で発生するカルボキシル基、水酸基またはアミノ基と硬化剤との反応により架橋が起こり、得られるカラーフィルターの機械強度がより向上する。
硬化剤としては、カルボキシル基、水酸基またはアミノ基と化学結合を形成しうる官能基を有する化合物であれば特には限定されないが、カルボキシル基と化学結合を形成しうる官能基を有する化合物としてはエポキシ基またはオキサゾリニル基を有する化合物が、水酸基またはアミノ基と化学結合を形成しうる官能基を有する化合物としてはエポキシ基、アルコキシシリル基、またはイソシアナート基もしくはブロックイソシアナート基を有する化合物が好ましく使用される。
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、p−グリシジルオキシスチレン、p−グリシジルオキシ−α−メチルスチレン、p−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルオキシ)スチレン、p−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルオキシ)−α−メチルスチレン、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルエチレン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルエチレン、グリシジルビニルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルビニルエーテル、グリシジルアリルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアリルエーテル等のエポキシ基を有するビニル系モノマー含む原料を重合させて得られるビニル系ポリマー、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロカテコール、ビスフェノールA、ジヒドロキシジフェニルメタン(ビスフェノールF)、ビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ノボラックフェノール、ノボラッククレゾール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンまたは前記化合物の水素化もしくはハロゲン化物等のフェノール化合物とエピクロロヒドリンとを反応させて得られるグリシジルエーテル、一般式(VI)
Figure 2006251296
[式中、mは0〜40の整数を表し、R、R10、R11およびR13は同一または異なって、ハロゲン置換もしくは非置換のアリーレン、またはハロゲン置換もしくは非置換のシクロアルキレンを表し、RおよびR12は同一または異なって、メチレン、C(CH、酸素原子、CO、硫黄原子またはSOを表す]で表される化合物等があげられる。一般式(VI)中の各基の定義において、ハロゲン置換アリーレンおよびハロゲン置換シクロアルキレンにおけるハロゲンは、それぞれ前記ハロゲンと同義であり、その置換数は、好ましくは1〜5である。アリーレンとしては、前記アリールから水素原子を1つ除去したもの等があげられ、シクロアルキレンとしては、前記シクロアルキルから水素原子を1つ除去したもの等があげられる。前記のエポキシ基を有する化合物は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
オキサゾリニル基を有する化合物としては、例えば、1,2−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)エタン、1,4−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ブタン、1,6−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ヘキサン、1,8−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)オクタン、1,4−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)シクロヘキサン等のアルキレンまたはシクロアルキレンにオキサゾリニル基が結合したオキサゾリニル化合物、1,2−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン、1,3−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン、1,4−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン、1,2−ビス(5−メチル−2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン、1,3−ビス(5−メチル−2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン、1,4−ビス(5−メチル−2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン等の芳香族環に2個のオキサゾリニル基が結合したオキサゾリニル化合物、2,2’−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)、2,2’−ビス(4−メチル−2−オキサゾリニル)、2,2’−ビス(5−メチル−2−オキサゾリニル)等のビス(2−オキサゾリニル)化合物、ヒドロキシアルキル−2−オキサゾリンと多価イソシアナート化合物との反応により得られる多価オキサゾリニル化合物、2−ビニル−2−オキサゾリン−2−イル−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン−2−イル−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン−2−イル−イソプロペニル−2−オキサゾリン−2−イル−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン−2−イル−イソプロペニル−5−エチル−2−オキサゾリニル等を含む原料を重合して得られるホモポリマーまたはコポリマー、CX−RS−1200、CX−RS−3200[いずれも(株)日本触媒製]等の市販されているオキサゾリニル基を有する化合物等があげられる。
アルコキシシリル基を有する化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ブタン、1,4−ビス(トリエトキシシリル)ブタン、1−(メチルジメトキシシリル)−4−(トリメトキシシリル)ブタン、1−(メチルジエトキシシリル)−4−(トリエトキシシリル)ブタン、1,4−ビス(メチルジメトキシシリル)ブタン、1,4−ビス(メチルジエトキシシリル)ブタン、1,5−ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1,5−ビス(トリエトキシシリル)ペンタン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1,4−ビス(トリエトキシシリル)ペンタン、1−(メチルジメトキシシリル)−5−(トリメトキシシリル)ペンタン、1−(メチルジエトキシシリル)−5−(トリエトキシシリル)ペンタン、1,5−ビス(メチルジメトキシシリル)ペンタン、1,5−ビス(メチルジエトキシシリル)ペンタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,6−ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1−(メチルジメトキシシリル)−6−(トリメトキシシリル)ヘキサン、1−(フェニルジエトキシシリル)−6−(トリエトキシシリル)ヘキサン、1,6−ビス(メチルジメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、2,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、2,7−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナン、2,7−ビス(トリメトキシシリル)ノナン、1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカン、3,8−ビス(トリメトキシシリル)デカン等の多官能アルコキシシリル化合物、3−アクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等のアクリルまたはメタクリルモノマーと他の共重合可能なモノマーとの共重合体等があげられる。
イソシアナート基もしくはブロックイソシアナート基を有する化合物としては、例えば、トリレンジイソシアナート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアナート(MDI)、ポリメリックMDI、ジアニシジンジイソシアナート、ジフェニルエーテルジイソシアナート、オルソトリジンジイソシアナート、ナフタレンジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナート、トリイソシアナートフェニルチオホスフェート、ヘキサメチレンジイソシアナート(HMDI)、イソフォロンジイソシアナート(IPDI)、リジンジイソシアナート(LDI)、リジントリイソシアナート(LTI)、メタキシリレンジイソシアナート(MXDI)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、ダイマー酸ジイソシアナート、イソプロピリデンビス−4−シクロヘキシルジイソシアナート、メチルシクロヘキサンジイソシアナート、トリレンジジイソシアナートとトリメチロールプロパンとの付加体、ヘキサメチレンジイソシアナートと水との付加体、キシリレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンとの付加体、2−(メタ)アクロイルエチルイソシアナートと他の共重合可能なモノマーとの共重合体等、および上記化合物中のイソシアネート基をブロック剤と反応させたブロックイソシアナート化合物等があげられる。ブロック剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、p−エチルフェノール、o−イソプロピルフェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−tert−オクチルフェノール、チモール、p−ナフトール、p−ニトロフェノール、p−クロロフェノール等のフェノール系;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、フェニルセロソルブ、フルフリルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール系;マロン酸ジメチル、アセト酢酸エチル等の活性メチレン系;ブチルメルカプタン、チオフェール、tert−ドデシルメルカプタン等のメルカプタン系;アセトアニリド、アセトアニシジド、酢酸アミド、ベンズアミド等の酸アミド系;コハク酸イミド、マレイン酸イミド等のイミド系;ジフェニルアミン、フェニルナフチルアミン、アニリン、カルバゾール等のアミン系;イミダゾール、2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系;尿素、チオ尿素、エチレン尿素等の尿素系;N−フェニルカルバミン酸フェニル、2−オキサゾリドン等のカルバミン酸塩系;エチレンイミン等のイミン系;ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、メチルエチルケトオキシム、メチルイソブチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム系;重亜硫酸ソーダ、重亜硫酸カリ等の亜硫酸塩系;ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム、β−プロピオラクタム等のラクタム系等のものがあげられ、特に好ましいのはフェノール系、ラクタム系、アルコール系またはオキシム系のものである。
硬化剤は、カルボキシル基、水酸基またはアミノ基/カルボキシル基、水酸基またはアミノ基と化学結合を形成しうる官能基の比が、99.5/0.5〜1/99となるように使用されるのが好ましく、さらには75/25〜5/95となるように使用されるのが好ましく、60/40〜40/60となるように使用されるのがより好ましい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物に含有される着色剤は、有機着色剤でも無機着色剤でも構わない。着色剤は天然色素であっても合成色素であっても構わない。有機着色剤は、顔料、染料、色素であってもよい。無機着色剤は、金属酸化物、金属錯塩等の無機顔料でもよい。かかる着色剤の中でも、有機着色剤、特に有機顔料が好ましく用いられる。
有機顔料として例えば、C.I.ピグメントイエロ−1、C.I.ピグメントイエロ−3、C.I.ピグメントイエロ−12、C.I.ピグメントイエロ−13、C.I.ピグメントイエロ−14、C.I.ピグメントイエロ−15、C.I.ピグメントイエロ−16、C.I.ピグメントイエロ−17、C.I.ピグメントイエロ−20、C.I.ピグメントイエロ−24、C.I.ピグメントイエロ−31、C.I.ピグメントイエロ−53、C.I.ピグメントイエロ−83、C.I.ピグメントイエロ−86、C.I.ピグメントイエロ−93、C.I.ピグメントイエロ−94、C.I.ピグメントイエロ−109、C.I.ピグメントイエロ−110、C.I.ピグメントイエロ−117、C.I.ピグメントイエロ−125、C.I.ピグメントイエロ−128、C.I.ピグメントイエロ−137、C.I.ピグメントイエロ−138、C.I.ピグメントイエロ−139、C.I.ピグメントイエロ−147、C.I.ピグメントイエロ−148、C.I.ピグメントイエロ−150、C.I.ピグメントイエロ−153、C.I.ピグメントイエロ−154、C.I.ピグメントイエロ−166、C.I.ピグメントイエロ−173等の黄色顔料、
C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレンジ31、C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ42、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ55、C.I.ピグメントオレンジ59、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ64、C.I.ピグメントオレンジ65、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ73等のオレンジ色の顔料、
C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド105、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド192、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド265等の赤色顔料、
C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60等の青色顔料、
C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイレット23、C.I.ピグメントバイレット29、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイレット36、C.I.ピグメントバイオレット38等のバイオレット色顔料、
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36等の緑色顔料、
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25等のブラウン色顔料、
C.I.ピグメントブラック7、C.I.ピグメントブラック7等の黒色顔料等があげられる。これらの顔料はそれぞれ単独で用いても、2種以上混合して用いても構わない。
かかる有機顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基または塩基性基が導入された顔料誘導体等を用いた表面処理、高分子化合物等による顔料表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法等による微粒化処理、不純物を除去するための有機溶剤、水等による洗浄処理等が施されいても構わない。当該有機顔料の粒子径はおよそ10〜150nmであるのが好ましい。
着色剤の含有量は、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物に含まれる揮発成分(溶剤)が揮発した後の固形分に対しての質量分率で通常5〜60%であるのが好ましく、さらには10〜55%であるのがより好ましい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物に含有される有機溶剤としては、例えば、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン等のケトン類、3−メトキシブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール−tert−ブチルエーテルメチルエーテル(1−tert−ブトキシ−2−メトキシエタン)、エチレングリコール−tert−ブチルエーテルエチルエーテル(1−tert−ブトキシ−2−エトキシエタン)等の直鎖または分枝状のエーテル類、ジオキサン等の環状エーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、酢酸ブチル、メチル−3−メトキシプロピオネート、エチル−3−エトキシプロピオネート、酢酸tert−ブチル、プロピオン酸tert−ブチル、β−メトキシイソ酪酸メチル等のエステル類、キシレン、トルエン等の芳香族系溶剤等があげられる。これらの中では、レジスト成分の溶解性、安全性が優れているプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましく使用される。なお、上記有機溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。その含有量は、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物中、0.1〜80重量%であるのが好ましい。
さらに本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、例えば、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、酢酸フェニルセロソルブ等の高沸点溶剤を含有していてもよい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、塩基性化合物を含有しているのが好ましい。塩基性化合物の配合により、例えば、レジスト膜中での酸の拡散速度が抑制されて解像度がより向上し、露光後の感度変化が抑制されたり、基板や環境依存性が少なくなり、露光余裕度やパターンプロファイル等がより向上する。
塩基性化合物としては、例えば、第一級、第二級または第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、カルボキシル基を有する含窒素化合物、スルホニル基を有する含窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合物、アルコール性含窒素化合物、アミド誘導体、イミド誘導体等があげられる。
具体的には、第一級の脂肪族アミン類としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、ペンチルアミン、tert−アミルアミン、シクロペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、セチルアミン、メチレンジアミン、エチレンジアミン、テトラエチレンペンタミン等が例示され、第二級の脂肪族アミン類としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジn−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジn−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジsec−ブチルアミン、ジペンチルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、ジドデシルアミン、ジセチルアミン等が例示され、第三級の脂肪族アミン類としては、トリス(2−メトキシエチル)アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリsec−ブチルアミン、トリペンチルアミン、トリシクロペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、トリドデシルアミン、トリセチルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルメチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン等が例示される。
芳香族アミン類および複素環アミン類の具体例としては、アニリン誘導体(例えば、アニリン、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−プロピルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、2−メチルアニリン、3−メチルアニリン、4−メチルアニリン、エチルアニリン、プロピルアニリン、トリメチルアニリン、2−ニトロアニリン、3−ニトロアニリン、4−ニトロアニリン、2,4−ジニトロアニリン、2,6−ジニトロアニリン、3,5−ジニトロアニリン、N,N−ジメチルトルイジン、ジフェニル(p−トリル)アミン、メチルジフェニルアミン、トリフェニルアミン、フェニレンジアミン等)、ナフチルアミン、ジアミノナフタレン、ピロール誘導体(例えば、ピロール、1−メチルピロール、2,4−ジメチルピロール、2,5−ジメチルピロール等)、オキサゾール誘導体(例えば、オキサゾール、イソオキサゾール等)、チアゾール誘導体(例えば、チアゾール、イソチアゾール等)、イミダゾール誘導体(例えば、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール等)、ピラゾール誘導体、フラザン誘導体、ピロリン誘導体(例えば、ピロリン、2−メチル−1−ピロリン等)、ピロリジン誘導体(例えば、ピロリジン、N−メチルピロリジン、ピロリジノン、N−メチルピロリジン等)、イミダゾリン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ピリジン誘導体(例えば、ピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、4−(1−ブチルペンチル)ピリジン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、トリエチルピリジン、フェニルピリジン、3−メチル−2−フェニルピリジン、4−tert−ブチルピリジン、ジフェニルピリジン、ベンジルピリジン、メトキシピリジン、ブトキシピリジン、ジメトキシピリジン、4−ピロリジノピリジン、2−(1−エチルプロピル)ピリジン、アミノピリジン、ジメチルアミノピリジン等)、ピリダジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾリジン誘導体、ピペリジン誘導体、ピペラジン誘導体、モルホリン誘導体、インドール誘導体、イソインドール誘導体、インダゾール誘導体、インドリン誘導体、キノリン誘導体(例えば、キノリン、3−キノリンカルボニトリル等)、イソキノリン誘導体、シンノリン誘導体、キナゾリン誘導体、キノキサリン誘導体、フタラジン誘導体、プリン誘導体、プテリジン誘導体、カルバゾール誘導体、フェナントリジン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、1,10−フェナントロリン誘導体、アデニン誘導体、アデノシン誘導体、グアニン誘導体、グアノシン誘導体、ウラシル誘導体、ウリジン誘導体等が例示される。
さらに、カルボキシル基を有する含窒素化合物としては、例えば、アミノ安息香酸、インドールカルボン酸、アミノ酸またはアミノ酸誘導体(例えば、ニコチン酸、アラニン、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン、ヒスチジン、イソロイシン、グリシルロイシン、ロイシン、メチオニン、フェニルアラニン、スレオニン、リジン、3−アミノピラジン−2−カルボン酸、メトキシアラニン等)等が例示され、スルホニル基を有する含窒素化合物としては、例えば、3−ピリジンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム等が例示され、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合物等またはアルコール性含窒素化合物としては、例えば、2−ヒドロキシピリジン、アミノクレゾール、2,4−キノリンジオール、3−インドールメタノールヒドレート、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、2,2’−イミノジエタノール、2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、2−(2−ヒドロキシエチル)ピリジン、1−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン、1−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル]ピペラジン、ピペリジンエタノール、1−(2−ヒドロキシエチル)ピロリジン、1−(2−ヒドロキシエチル)−2−ピロリジノン、3−ピペリジノ−1,2−プロパンジオール、3−ピロリジノ−1,2−プロパンジオール、8−ヒドロキシユロリジン、3−クイヌクリジノール、3−トロパノール、1−メチル−2−ピロリジンエタノール、1−アジリジンエタノール、N−(2−ヒドロキシエチル)フタルイミド、N−(2−ヒドロキシエチル)イソニコチンアミド等が例示される。アミド誘導体としては、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド等が例示される。イミド誘導体としては、フタルイミド、サクシンイミド、マレイミド等が例示される。
塩基性化合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、重合体(I)100重量部に対して0.01〜5重量部であるのが好ましく、0.01〜2重量部であるのがより好ましい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、塗布性を向上させるため、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステリアルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、エフトップEF301、EF303、EF352(いずれもトーケムプロダクツ社製)、メガファックF171、F172、F173(いずれも大日本インキ化学工業社製)、フロラードFC430、FC431(いずれも住友スリーエム社製)、アサヒガードAG710、サーフロンS−381、S−382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106、サーフィノールE1004,KH−10、KH−20、KH−30、KH−40(いずれも旭硝子社製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341、X−70−092、X−70−093(いずれも信越化学工業社製)、アクリル酸系またはメタクリル酸系ポリフローNo.75、No.95(いずれも共栄社油脂化学工業社製)等があげられる。界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、重合体(I)100重量部に対して0.01〜2重量部であるのが好ましく、0.1〜1重量部であるのがより好ましい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、解像度をより向上させるために、溶解阻止剤を含有していてもよい。
溶解阻止剤としては、分子内にフェノール性ヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の該フェノール性ヒドロキシル基の水素原子がtert−ブチル、tert−ブトキシカルボニル、ブトキシカルボニルメチル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒドロフラニル、エトキシエチル、エトキシプロピル等の酸不安定基により全体として平均10〜100モル%の割合で置換された化合物が好ましい。前記の化合物の重量平均分子量は、100〜1,000であるのが好ましく、150〜800であるのがより好ましい。溶解阻止剤の配合量は、重合体(I)100重量部に対して0.01〜50重量部であるのが好ましく、5〜40重量部であるのがより好ましく、さらには10〜30重量部であるのがより好ましく、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用できる。
溶解阻止剤としては、例えば、ビス[4−(2’−テトラヒドロピラニルオキシ)フェニル]メタン、ビス[4−(2’−テトラヒドロフラニルオキシ)フェニル]メタン、ビス(4−tert−ブトキシフェニル)メタン、ビス(4−tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)メタン、ビス(4−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)メタン、ビス[4−(1’−エトキシエトキシ)フェニル]メタン、ビス[4−(1’−エトキシプロピルオキシ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4’−(2’’−テトラヒドロピラニルオキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4’−(2’’−テトラヒドロフラニルオキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4’−tert−ブトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4’−tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス[4’−(1’’−エトキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4’−(1’’−エトキシプロピルオキシ)フェニル]プロパン、4,4−ビス[4’−(2’’−テトラヒドロピラニルオキシ)フェニル]吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス[4’−(2’’−テトラヒドロフラニルオキシ)フェニル]吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス(4’−tert−ブトキシフェニル)吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス(4’−tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス(4’−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス[4’−(1’’−エトキシエトキシ)フェニル]吉草酸tert−ブチル、4,4−ビス[4’−(1’’−エトキシプロピルオキシ)フェニル]吉草酸tert−ブチル、トリス[4−(2’−テトラヒドロピラニルオキシ)フェニル]メタン、トリス[4−(2’−テトラヒドロフラニルオキシ)フェニル)メタン、トリス(4−tert−ブトキシフェニル)メタン、トリス(4−tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)メタン、トリス(4−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)メタン、トリス[4−(1’−エトキシエトキシ)フェニル]メタン、トリス[4−(1’−エトキシプロピルオキシ)フェニル]メタン、1,1,2−トリス[4’−(2’’−テトラヒドロピラニルオキシ)フェニル]エタン、1,1,2−トリス[4’−(2’’−テトラヒドロフラニルオキシ)フェニル]エタン、1,1,2−トリス(4’−tert−ブトキシフェニル)エタン、1,1,2−トリス(4’−tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)エタン、1,1,2−トリス(4’−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル)エタン、1,1,2−トリス[4’−(1’’−エトキシエトキシ)フェニル]エタン、1,1,2−トリス[4’−(1’’−エトキシプロピルオキシ)フェニル]エタン等があげられる。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、必要に応じて、ハレーションの防止等を目的として、紫外線吸収剤、例えば、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ジメチルアミノ−2’,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、5−アミノ−3−メチル−1−フェニル−4−(4−ヒドロキシフェニルアゾ)ピラゾール、4−ジメチルアミノ−4’−ヒドロキシアゾベンゼン、4−ジエチルアミノ−4’−エトキシアゾベンゼン、4−ジエチルアミノアゾベンゼン、クルクミン、1,7−ビス(3−メトキシ−4−ヒドロキシフェニル)−1,6−ヘプタジエン−3,5−ジオン、5−ヒドロキシ−4−(4−メトキシフェニルアゾ)−3−メチル−1−フェニルピラゾール等を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、重合体(I)100重量部に対して0.01〜2重量部であるのが好ましく、0.01〜1重量部であるのがより好ましい。
さらに、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、必要に応じて保存安定剤、消泡剤等を含有していてもよい。
以下、カラーフィルターを用いた液晶表示装置について説明する。
本発明のカラーフィルターは、例えば、公知の方法(例えば、特開2000-84119号等参照)に準じて、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物より製造することができる。
図1はカラーフィルターの製造過程の1例を示す説明図である。本発明のカラーフィルターの製造にあたっては、まず、例えば、図1(a)に示すように、ガラス基板上に本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物(以下、カラーレジストと表現することもある)を所望厚さに塗布し、該カラーレジスト内の溶剤を除去すべく加熱ベーキング処理を行う。次いで前記カラーレジスト膜の表面上部に所望の格子パターンを有するマスクパターンの位置決めをし、該マスクパターンを介して前記カラーレジスト膜の表面に光を照射して露光する(図1(b))。露光波長としては好ましくは、i線(波長365nm)紫外線が用いられる。
この露光により得られたカラーレジスト膜は、マスクパターンによって遮光されなかった部分が硬化する結果、この後に適宜の現像液を用いて現像を行なうと、前記カラーレジスト膜の未露光部分が除去されて、ガラス基板の表面上にはマスクパターンに対応するレジストパターンが形成される(図1(c))。
ガラス基板上に形成された前記カラーレジストの色以外の所望の色に対応したカラーレジストを再びガラス基板上に所望の厚さに塗布し、該カラーレジスト内の溶剤を除去すべく加熱ベーキング処理を行う(図1(d))。次いで前記カラーレジスト膜の表面上部に所望の格子パターンを有するマスクパターンの位置決めをし、該マスクパターンを介して前記カラーレジスト膜の表面に光を照射して露光する(図1(e))。
この露光により得られたカラーレジスト膜は、マスクパターンによって遮光されなかった部分が硬化した結果、この後に現像液を用いて現像を行うと、前記カラーレジスト膜の未露光部分が除去されて、ガラス基板の表面上にはマスクパターンに対応するレジストパターンが形成される(図1(f))。
基板としては前記例として述べたガラス基板以外にシリコンウエハー、セラミック等の平坦な基板があげられ、シリコンウエハーの場合には基板上に電荷結合素子(CCD)、薄膜トランジスタ(TFT)等が設けられていても差し支えない。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターンの好適な形成方法について、以下に例を示す。
レジストパターン形成の際は、まず、シリコンまたはガラス等の基板上に、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物をスピンナー、スリットコーター等で塗布し、好ましくは膜厚0.5〜1.5μmの塗膜を形成する(工程a)。
次いで、この塗膜が形成された基板を80〜140℃程度で加熱乾燥(プリべーク)して感光層を形成させる。次いで放射線を発光する光源、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ等を用い、所望のマスクパターンを介して選択的露光を行う(工程b)。
露光後に、100〜140℃で加熱処理をし、得られたレジスト被覆シリコンまたはガラス基板をアルカリ現像に付することにより、例えば、該シリコンまたはガラス基板に1〜10質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液のようなアルカリ性水溶液をカーテンフロー方式等により塗布するか、または該シリコンまたはガラス基板をアルカリ現像液に浸漬等し、洗浄、乾燥することにより、レジストパターンを形成することができる(工程c)。
アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジn−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、コリン、ピロール、ピペリジン等を水に溶解して得られるアルカリ性水溶液等が使用される。また該現像液には、水溶性有機溶媒、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類や界面活性剤を適量添加して使用することもできる。
上記工程a〜cを1回から複数回繰り返すことにより、本発明のカラーフィルターが製造できる。また、工程cで得られたレジストパターンに全面露光を施し、150℃程度の温度で加熱することで、得られる本発明のカラーフィルターの機械強度を向上させることもできる。また、本発明のカラーフィルターは、保護膜によって覆われていてもよい。
本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物から得られるレジストパターンでは、形状も矩形に形成されるために隣接するパターン間での残渣がほぼ完全に除去できる。従って、本発明のカラーフィルターは、解像度がよく、画像欠陥の発生を有効に防止することができ、高品位の画像表示が可能である。
本発明のカラーフィルターは、液晶表示装置、固体撮像装置等に用いることができる。
なお、以下の実施例においては、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、液状であるが、本発明のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物は、フィルム状またはペースト状であってもよい。
以下、参考例、実施例および試験例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例等に制限されるものではない。
ここで、参考例における原料の転化率および目的物への選択率は、ガスクロマトグラフィー分析による定量により求めた。該定量においては、島津製作所株式会社製GC−14Aを用い、カラムとしてはヒューレット・パッカード社製INNOWAX(長さ30m、径0.25mm)を用いた。試料のインジェクション温度および検出器温度はいずれも200℃であり、カラム温度を50℃から200℃まで10℃/分で昇温することにより分析を行った。ガスクロマトグラフィー分析後の定量は、絶対検量法により行った。
参考例で製造された樹脂の重量平均分子量(ポリスチレン換算)は、以下の条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した。
(GPC条件)
カラム: TSKgel G4000H、G2000H、GMH[いずれも東ソー(株)製]を直列につないだ。
カラム保持温度: 40℃
移動相: テトラヒドロフラン(流速1.0ml/分)
検出器: RI
標準物質: ポリスチレン
[参考例1] 1−メタクリロイルオキシ−1−n−メトキシ−2−メチルプロパンの合成
メタクリル酸85gと1−メトキシ−2−メチルプロペン125gを1−メトキシ−2−メチルプロペンに対して0.02モル%のp−トルエンスルホン酸一水和物存在下、室温で、2.5時間反応させた。この際、メタクリル酸の転化率は、90%以上であり、1−メタクリロイルオキシ−1−n−メトキシ−2−メチルプロパンへの選択率は99%以上であった。反応液を5%炭酸ナトリウム水溶液で中和した後、分液により得られた有機層を減圧濃縮することにより、1−メタクリロイルオキシ−1−n−メトキシ−2−メチルプロパン135gを取得した。
同定データ
H−NMRスペクトル(400MHz)
測定機器:日本電子 GSX−400
測定溶媒:重クロロホルム
δ (ppm) 6.19−6.17(m,1H)
5.62−5.60(m,2H)
3.42(s,3H)
1.99−1.96(m,4H)
0.96(d,J=6.8Hz,3H)
0.95(d,J=6.8Hz,3H)
[参考例2]
滴下装置、攪拌装置、温度計、冷却管および窒素ガス導入管を備えたフラスコ内にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート311gを仕込み、80℃に加熱し、窒素雰囲気下にて攪拌しながら、参考例1で得られた1−メタクリロイルオキシ−1−n−メトキシ−2−メチルプロパン105.0g、イソボルニルメタクリレート60.0g、メタクリル酸メチル135.0gおよびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)9.5gを均一に溶解したものを滴下装置より3時間かけて滴下した。滴下終了後、30分毎に3回、AIBN/メチルエチルケトン=0.2g/0.8gの混合溶液を添加して、80℃で3時間熟成し、重合反応を終了した。得られた樹脂溶液は、固形分49重量%、固形分の重量平均分子量31,000であった。樹脂(P−1)
[参考例3]
市販のポリヒドロキシスチレン(重量平均分子量19,000 アルドリッチ社製)10gをテトラヒドロフラン30gに溶解し、1−n−プロポキシ−2−メチルプロペン11.4gを仕込み、ポリヒドロキシスチレンに対して0.02モル%のp−トルエンスルホン酸一水和物存在下、室温で、2時間反応させた。反応液を1重量%炭酸ナトリウム水溶液で中和した後、分液により得られた有機層を減圧濃縮し、再沈精製することにより、目的とする樹脂(P−2)20.1gを取得した。
[参考例4]
攪拌機、冷却管および温度計を装着したセパラブルフラスコに、 m−クレゾール 123.2g、3,5−キシレノール 52.2g、37重量%ホルムアルデヒド水溶液130.3gおよび シュウ酸二水和物 0.731gを仕込み、セパラブルフラスコを油浴に浸し、内温を100℃に保ち、攪拌しながら40分間重縮合を行った後、 m−クレゾール 27.9gおよび 3,5−キシレノール 13.1gを加え、さらに100分間重縮合を行い、樹脂を合成した。反応後、油浴の温度を180℃まで上げ、同時に反応容器内の圧力を30〜40mmHgまで減圧し、水、シュウ酸、ホルムアルデヒド、m−クレゾール、3,5−キシレノール等を除去した。次いで、溶融した樹脂を室温に戻して回収した。この樹脂を、エチルセロソルブアセテートに固形分が20重量%となるよう溶解したのち、樹脂溶液の重量に対し、2倍量のメタノールおよび等量の水を加えて、攪拌、放置した。2層に分離したのち、樹脂溶液(下層)を取り出し、濃縮・脱水・乾燥して樹脂を回収した。得られた樹脂の重量平均分子量は9,500であった。得られた樹脂10gおよび1−n−プロポキシ−2−メチルプロペン10.4gを用いて、実施例2と同様の方法で反応させ、目的とする樹脂(P−3)19.5gを取得した。
[参考例5]硬化剤の合成
参考例2と同様の方法で、ベンジルメタクリレート80.0g、メタクリル酸メチル60.0g、グリシジルメタクリレート60.0gおよびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)16.5gを均一に溶解したものを滴下装置より3時間かけて滴下した。滴下終了後、30分毎に3回、AIBN/メチルエチルケトン=0.2g/0.8gの混合溶液を添加して、80℃で3時間熟成し、重合反応を終了した。得られた硬化剤(P−4)は、固形分50.2重量%、固形分の重量平均分子量17,500であった。
参考例2で得られた樹脂(P−1)に、以下の表1のように、光酸発生剤、有機溶剤、塩基性化合物および着色剤を配合し、赤色のレジスト組成物1を調製した。この組成物1を、4インチのシリコンウェハーに、スピンコーター(回転数:2000rpm、30秒)で塗布し、ホットプレート(100℃、5分)で前乾燥を行った。得られた塗膜の膜厚はおおよそ、2μmであった。
次に得られた塗膜を、マスクアライナー(ズース・マイクロテック社製MA−4)を用いて、L/S(ラインアンドスペース)=50μmのマスクを用いて、照射量50mJ/cmのi線に露光した。露光後、ホットプレート(120℃、2分)で後乾燥(ポストエクスポージャベーク)した後、2.38%のTMAH水溶液で現像(25℃、120秒)を行い、純水で洗浄することによりカラーフィルターを作製した。
現像工程では残渣を除去するために、ブラシまたはスポンジでシリコンウエハーをこすったり、高圧の現像液をシリコンウエハーに吹きつけることなく現像液にシリコンウエハーを浸漬させた。
参考例2で得られた樹脂(P−1)に、以下の表1のように、光酸発生剤、有機溶剤および着色剤を配合し、赤色のレジスト組成物2を調製した。以下、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
参考例2で得られた樹脂(P−1)に、以下の表1のように、光酸発生剤、有機溶剤、硬化剤(P−4)および着色剤を配合し、赤色のレジスト組成物3を調製した。以下、実施例1と同様の方法でレジストパターンを形成し、さらに150℃で20分間加熱し、カラーフィルターを作製した
参考例3で得られた樹脂(P−2)に、以下の表1のように、光酸発生剤、有機溶剤、塩基性化合物および着色剤を配合し、赤色のレジスト組成物4を調製した。以下、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
参考例4で得られた樹脂(P−3)に、以下の表1のように、光酸発生剤、有機溶剤、塩基性化合物および着色剤を配合し、赤色のレジスト組成物5を調製した。以下、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
Figure 2006251296
[試験例1]
実施例1〜5で得られたカラーフィルターについて、光学顕微鏡およびSEM(走査電子顕微鏡)により、前面および断面観察を行い、パターン欠陥評価、残渣評価を行った。これらの評価結果を表2に示す。
パターン欠陥評価:剥落、欠け等のパターン欠陥なしの所望とするポジ型のパターンが得られた場合を○、はがれたり、膨潤や膜べりにより形状がくずれたり、剥落、欠け等のパターン欠陥が発生した場合を×とした。
残渣評価:パターン形成で使用した基板上のレジストパターン間における残渣を金属顕微鏡にて観察した。残渣が生じていない場合を○、レジストパターン間で残渣が発生している場合を×とした。
Figure 2006251296
本発明により、残渣が少なく、パターン欠陥の少ないカラーフィルター、該カラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物等が提供される。
(a)カラーレジストをガラス基板に塗布したものを示す。(b)カラーレジスト膜にマスクパターンを介して、露光している様子を示す。(c)現像後のレジストパターンを表す。(d)カラーレジストをレジストパターンに塗布したものを示す。(e)カラーレジスト膜にマスクパターンを介して、露光している様子を示す。(f)現像後のレジストパターンを表す。
符号の説明
1、5:カラーレジスト
2:ガラス基板
3、6:マスクパターン
4、7:放射線

Claims (10)

  1. (A)一般式(I)
    Figure 2006251296
    [式中、R、RおよびRは、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表すか、RとRが、隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルキルを形成するか、またはRとRが、隣接するC−C−Oと一緒になって含酸素複素環を形成してもよく、Xは、OまたはNR(式中、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す)を表す]で表される基を有する重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)有機溶剤および(D)着色剤を含有することを特徴とするカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  2. 一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(II)
    Figure 2006251296
    (式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、Rは水素原子または低級アルキルを表す)で表される構造単位を含む重合体である請求項1記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  3. 一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(III)
    Figure 2006251296
    (式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される構造単位を含む重合体である請求項1記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  4. 一般式(I)で表される基を有する重合体が、一般式(IV)
    Figure 2006251296
    (式中、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、RおよびRは、同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、nは1〜3の整数を表す)で表される構造単位を含む重合体である請求項1記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  5. 一般式(I)で表される基を有する重合体の重量平均分子量が、500〜200,000である請求項1〜4のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  6. 放射線の照射により酸を発生する化合物が、波長300nm以上の放射線の照射により酸を発生する化合物である請求項1〜5のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  7. 塩基性化合物を含有する請求項1〜6のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  8. 硬化剤を含有する請求項1〜7のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
  9. (a)請求項1〜8のいずれかに記載のカラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物を基板に塗布し、
    (b)該カラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物が塗布された該基板をマスクパターンを使用して露光し、
    (c)露光後の該カラーフィルター用化学増幅型ポジ型レジスト組成物が塗布された基板を現像液による現像に付してレジストパターンを得る
    上記の(a)〜(c)を含む工程を1回から複数回繰り返すことによって得られるカラーフィルター。
  10. 請求項9記載のカラーフィルターを用いた液晶表示装置または固体撮像装置。
JP2005066932A 2005-03-10 2005-03-10 カラーフィルター Withdrawn JP2006251296A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005066932A JP2006251296A (ja) 2005-03-10 2005-03-10 カラーフィルター

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005066932A JP2006251296A (ja) 2005-03-10 2005-03-10 カラーフィルター

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006251296A true JP2006251296A (ja) 2006-09-21

Family

ID=37091882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005066932A Withdrawn JP2006251296A (ja) 2005-03-10 2005-03-10 カラーフィルター

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006251296A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009041619A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
WO2009119878A1 (ja) * 2008-03-28 2009-10-01 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2009258723A (ja) * 2008-03-28 2009-11-05 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2010002669A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Toray Ind Inc ネガ型感光性ペースト、パターンの形成方法および平面ディスプレイパネル用部材の製造方法。
WO2010010899A1 (ja) * 2008-07-24 2010-01-28 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
WO2014136815A1 (ja) * 2013-03-05 2014-09-12 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
WO2014208648A1 (ja) * 2013-06-27 2014-12-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置
WO2015125871A1 (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
WO2015125870A1 (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
WO2017033771A1 (ja) * 2015-08-21 2017-03-02 シャープ株式会社 発光デバイス、表示装置、照明装置、電子機器
KR20180054459A (ko) 2016-11-14 2018-05-24 산요 시키소 가부시키가이샤 프탈이미드 및 그의 유도체를 이용한 안료 분산체 및 착색 조성물

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4637221B2 (ja) * 2007-09-28 2011-02-23 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2009098673A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
US9964848B2 (en) 2007-09-28 2018-05-08 Fujifilm Corporation Positive photosensitive resin composition and cured film forming method using the same
WO2009041619A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
US9034440B2 (en) 2007-09-28 2015-05-19 Fujifilm Corporation Positive photosensitive resin composition and cured film forming method using the same
KR101021187B1 (ko) 2007-09-28 2011-03-15 후지필름 가부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 경화막 형성 방법
EP2447774A1 (en) * 2008-03-28 2012-05-02 Fujifilm Corporation Positive photosensitive resin composition and method of forming cured film from the same
EP2261737A1 (en) * 2008-03-28 2010-12-15 FUJIFILM Corporation Positive photosensitive resin composition and method of forming cured film from the same
JP4718623B2 (ja) * 2008-03-28 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
EP2261737A4 (en) * 2008-03-28 2011-08-03 Fujifilm Corp POSITIVE LIGHT-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING A HARDENED FILM THEREWITH
JP2011150354A (ja) * 2008-03-28 2011-08-04 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2012150494A (ja) * 2008-03-28 2012-08-09 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
EP2557456A3 (en) * 2008-03-28 2013-04-17 Fujifilm Corporation Positive photosensitive resin composition and method of forming cured film from the same
US8771907B2 (en) 2008-03-28 2014-07-08 Fujifilm Corporation Positive photosensitive resin composition and method of forming cured film from the same
JP2009258723A (ja) * 2008-03-28 2009-11-05 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
WO2009119878A1 (ja) * 2008-03-28 2009-10-01 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2010002669A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Toray Ind Inc ネガ型感光性ペースト、パターンの形成方法および平面ディスプレイパネル用部材の製造方法。
WO2010010899A1 (ja) * 2008-07-24 2010-01-28 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
WO2014136815A1 (ja) * 2013-03-05 2014-09-12 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
JP2014170189A (ja) * 2013-03-05 2014-09-18 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
KR101743099B1 (ko) 2013-03-05 2017-06-02 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물, 컬러필터 및 컬러필터의 제조방법
US9547237B2 (en) 2013-03-05 2017-01-17 Fujifilm Corporation Colored photo-sensitive composition, color filter, and method for manufacturing color filter
WO2014208648A1 (ja) * 2013-06-27 2014-12-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置
JPWO2015125870A1 (ja) * 2014-02-20 2017-03-30 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
US9599901B2 (en) 2014-02-20 2017-03-21 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device
JPWO2015125871A1 (ja) * 2014-02-20 2017-03-30 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
WO2015125870A1 (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
KR101848331B1 (ko) * 2014-02-20 2018-04-12 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화물 및 그 제조 방법, 수지 패턴 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치, 유기 el 표시 장치, 적외선 차단 필터, 또한 고체 촬상 장치
WO2015125871A1 (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、赤外線カットフィルター、並びに、固体撮像装置
KR101856554B1 (ko) * 2014-02-20 2018-05-10 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화물 및 그 제조 방법, 수지 패턴 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치, 유기 el 표시 장치, 적외선 차단 필터, 또한 고체 촬상 장치
US10133175B2 (en) 2014-02-20 2018-11-20 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device
WO2017033771A1 (ja) * 2015-08-21 2017-03-02 シャープ株式会社 発光デバイス、表示装置、照明装置、電子機器
KR20180054459A (ko) 2016-11-14 2018-05-24 산요 시키소 가부시키가이샤 프탈이미드 및 그의 유도체를 이용한 안료 분산체 및 착색 조성물

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4678383B2 (ja) 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
JP2006251296A (ja) カラーフィルター
KR100889197B1 (ko) 화학 증폭 포지티브형 레지스트 재료 및 이를 이용한 패턴형성 방법
TWI693472B (zh) 增強化學性之正型光阻組成物及圖型的形成方法
US20060166133A1 (en) Negative resist composition and patterning process
US6861198B2 (en) Negative resist material and pattern formation method using the same
JP2006225476A (ja) ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
US9017928B2 (en) Methods for manufacturing resin structure and micro-structure
JP6065789B2 (ja) 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP5621755B2 (ja) 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4614089B2 (ja) ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP2019532343A (ja) 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターンの形成方法
JP2006178423A (ja) 化学増幅ポジ型レジスト組成物
JP6304320B2 (ja) マイクロ構造体用樹脂構造体の製造方法及びマイクロ構造体の製造方法
JP5348062B2 (ja) 化学増幅ポジ型レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法及びメッキパターン形成方法
JP2007025534A (ja) ポジ型ネガ型兼用ノボラック系化学増幅型レジスト組成物
JP2006251295A (ja) マイクロレンズ
JP2007052151A (ja) 電気泳動装置用化学増幅ポジ型レジスト組成物
JP2010091691A (ja) ポジ型感放射線性樹脂組成物
JPWO2006035926A1 (ja) ポジ型液晶素子用フォトレジスト組成物
JP6032325B2 (ja) マイクロ構造体用樹脂構造体の製造方法及びマイクロ構造体の製造方法
JPWO2008149966A1 (ja) ポジ型感放射線性樹脂組成物
JP2007167834A (ja) インクジェット方式による材料パターン形成方法
JP2010044222A (ja) ポジ型感放射線性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080513