JP2003280207A5 - - Google Patents
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Claims (2)
- 下記化合物（Ｉ）と一般式（II）の化合物を白金含有触媒下、ヒドロキシル化重合反応させることにより得られる（Ａ）オクタキス（シルセスキオキサン）骨格を有する重合体を含有することを特徴とする３層レジストプロセス用中間層材料組成物。
式（ＩＩ）において、Ｒ1及びＲ3は、各々独立に、一価の有機基または有機金属基を表し、Ｒ2は二価の有機基または有機金属基を表す。ａは０又は１を表す。 - (ａ）基板上に有機材料からなる下層レジスト層を形成する工程、
（ｂ）下層レジスト層上に中間層及び放射線照射で架橋もしくは分解する有機材料からなる上層レジスト層を順次積層する工程、及び、
（ｃ）該上層レジスト層にパターンを形成後、中間層、下層及び基板を順次エッチングする工程を含む３層レジストプロセスにおいて、請求項１に記載の中間層材料組成物を使用することを特徴とする３層レジストパターン形成方法。
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