JP2007512549A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 酸感応性像形成ポリマーと、
   放射線感応性酸発生剤と、
   を含むレジスト組成物であって、
   前記像形成ポリマーが、シルセスキオキサン骨格と、酸触媒による開裂のための活性化
   エネルギーが約２０Ｋｃａｌ／ｍｏｌより低い溶解抑制型ペンダント酸不安定部分とを含
   み、前記酸不安定部分は室温で開裂可能であり、前記像形成ポリマーの少なくとも一部は
   フッ素化されたレジストであり、前記像形成ポリマーはモノマー単位（ＩＩ）及び（ＩＩ
   Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）又は単位（ＩＩ）及び（Ｖ）を含み、前記モノマー単位（
   ＩＩ）及び（ＩＩＩ）が次式によって示され、
   

   

   ここで、各Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、直鎖アルキル、分枝鎖アルキル、フッ素
   化直鎖アルキル、フッ素化分枝鎖アルキル、フルオロシクロアルキル、フルオロアリール、又はこれらのいずれかの組み合わせからなる群から個別に選択されたものであり、
   各Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ^３、直鎖アルキル、分枝鎖アルキル、フッ素化直鎖
   アルキル、フッ素化分枝鎖アルキル、フルオロシクロアルキル、又はフルオロアリールか
   らなる群から個別に選択され、ｐは１又は０の値をもつ整数であり、
   各Ｙは、直鎖アルキル、分枝鎖アルキル、フッ素化直鎖アルキル、フッ素化分枝鎖アル
   キル、フルオロシクロアルキル、又はフルオロアリールからなる群から個別に選択され、
   ｑは１又は０の値をもつ整数であり、
   各Ｒ^４は、フッ素原子、フッ素化直鎖アルキル、フッ素化分枝鎖アルキル、フルオロシ
   クロアルキル、フルオロアリール、又はこれらのいずれかの組み合わせからなる群から個
   別に選択されたものであり、
   各Ｒ^５は、個別の溶解抑制基であり、
   各Ｒ^６は、個別の溶解促進基であり、
   前記モノマー単位（ＩＶ）及び（Ｖ）が次式によって示される、
   

   

   レジスト組成物。
2. 前記像形成ポリマーがさらに、ペンダント溶解促進部分を含む、請求項１に記載のレジ
   スト組成物。
3. 前記ペンダント溶解促進部分が、ヒドロキシル基、フルオロアルコール基、カルボン酸
   基、アミノ基、イミノ基、フッ素化イミノ基、及びフッ素化アミノ基からなる群から選択
   されたものである、請求項２に記載のレジスト組成物。
4. 前記溶解抑制型ペンダント酸不安定部分が、アセタール、ケタール、オルトエステル、
   及びこれらのフッ素化形態からなる群から選択されたものである、請求項１に記載のレジ
   スト組成物。
5. 前記溶解抑制型ペンダント酸不安定部分の少なくとも一部がフッ素化されている、請求
   項１に記載のレジスト組成物。
6. 前記溶解促進部分の少なくとも一部がフッ素化されている、請求項２に記載のレジスト
   組成物。
7. 前記像形成ポリマーが、８００から５００，０００の重量平均分子量を有する、請求項１に記載のレジスト組成物。
8. 基板上に構造体を形成する方法であって、
   （ａ）基板を準備するステップと、
   （ｂ）前記基板に請求項１乃至７のレジスト組成物を塗布して、前記基板上にレジスト層を形成するステップと、
   （ｃ）前記基板を放射線でパターン状に露光し、それにより、前記レジスト層の露光された領域において前記放射線感応性酸発生剤によって酸が発生するステップと、
   （ｄ）前記レジスト層のパターン状の可溶部分を除去して、前記レジスト層にスペース
   ・パターンを形成するステップと、
   （ｅ）前記基板に前記スペース・パターンを転写するステップと、
   を含む方法。
9. パターン状に露光する前記ステップ（ｃ）の後に、前記露光されたレジスト層をベーク
   して、前記レジスト層の露光部分における酸触媒反応を促進するステップをさらに含む、
   請求項８に記載の方法。
10. 前記基板上に平坦化層を形成するステップをさらに含み、前記レジスト層は、前記平坦
    化層に直接塗布される、請求項８に記載の方法。
11. 前記平坦化層が下層組成物を含み、前記下層組成物は、
    （Ａ）前記下層組成物が別の架橋剤を必要としない場合には、（ｉ）環状エーテル部分、（ｉｉ）飽和多環式部分、及び（ｉｉｉ）芳香族部分を含むポリマーを、
    （Ｂ）前記下層組成物が別の架橋剤を必要とする場合には、（ｉ）飽和多環式部分、及
    び（ｉｉ）芳香族部分を含むポリマー、
    を含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記下層組成物がさらに、フッ素化多環式部分、フッ素化芳香族部分、又はこれらの組
    み合わせを含む、請求項１１に記載の方法。
13. 前記転写するステップがさらに、堆積すること、注入すること、及びエッチングすることからなる群から選択された方法を含む、請求項８に記載の方法。