CN103135372A - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。为了提供即使在低温低湿环境下也抑制重影的电子照相感光构件以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，电子照相感光构件具有支承体、形成于所述支承体上的底涂层和形成于底涂层上并包含电荷产生物质和空穴输送物质的感光层，其中所述底涂层包含特定的胺化合物。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件以及具有电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
近年来，具有包含作为有机化合物的电荷产生物质和空穴输送物质(电荷输送物质)的感光层的电子照相感光构件(有机电子照相感光构件)已被广泛地用于电子照相设备例如复印机和激光束打印机。
电荷产生物质中，已知酞菁颜料和偶氮颜料作为具有高感光度的电荷产生物质。
另一方面，在使用酞菁颜料或偶氮颜料的电子照相感光构件中，产生的光载流子(空穴和电子)的量大，因此作为通过空穴输送物质转移的空穴的对应物(counter)的电子趋于滞留于感光层(电荷产生层)中。因此，使用酞菁颜料或偶氮颜料的电子照相感光构件具有趋于发生被称作重影的现象的问题。具体地，在输出图像中观察到前旋转(pre-rotation)时仅在光照射的区域中具有高浓度的正重影和在前旋转时仅在光照射的区域中具有低浓度的负重影。
日本专利申请特开2002-091044公开了其中在导电性支承体和感光层之间设置的底涂层包含电子输送有机化合物和聚酰胺树脂，由此减小由环境引起的曝光电位和残余电位的变化的技术。
日本专利申请特开2007-148293公开了其中电荷产生层以及在支承体和电荷产生层之间设置的中间层包含电子输送物质，由此抑制重影的技术。
日本专利申请特开H08-095278公开了其中感光层包含二苯甲酮衍生物，由此增强耐气体性并抑制感光度劣化和带电性降低的技术。
日本专利申请特开S58-017450公开了其中在支承体和感光层之间设置包含二苯甲酮衍生物的层，由此抑制重复使用后感光度劣化的技术。
目前，期望抑制各种环境下的重影。虽然在各种环境中的低温低湿环境下特别易于发生重影，但上述技术在抑制低温低湿环境下的重影的效果方面不足。
本发明的目的是提供即使在低温低湿环境下也可使用其抑制重影的电子照相感光构件，以及具有电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
发明内容
本发明提供电子照相感光构件，其具有支承体、形成于所述支承体上的底涂层、和形成于所述底涂层上并包含电荷产生物质和空穴输送物质的感光层，其中所述底涂层包含由下式(1)表示的胺化合物：
其中，式(1)中，R1至R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、烷氧羰基、芳氧羰基、取代或未取代的酰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的氨基、或取代或未取代的环氨基，条件是R1至R10的至少之一表示用取代或未取代的芳基取代的氨基、用取代或未取代的烷基取代的氨基、或取代或未取代的环氨基；和X1表示羰基或二羰基。
本发明还提供一体化支承电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组的至少一种单元的处理盒，并且所述处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体。
本发明还提供具有电子照相感光构件和充电单元、图像曝光单元、显影单元和转印单元的电子照相设备。
本发明可提供即使在低温低湿环境下也可使用其抑制重影的电子照相感光构件，以及具有电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参考附图从示例性实施方案的以下描述中，本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1为说明电子照相感光构件的层结构的一个实例的图。
图2为说明设置有具有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构的一个实例的图。
图3为说明评价重影用图像的图。
具体实施方式
现将根据附图详细描述本发明的优选实施方案。
本发明的电子照相感光构件为具有支承体、形成于所述支承体上的底涂层(还称作中间层或阻挡层)、和形成于所述底涂层上并包含电荷产生物质和空穴输送物质的感光层的电子照相感光构件。本发明中，底涂层包含由下式(1)表示的胺化合物。
式(1)中，R1至R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、烷氧羰基、芳氧羰基、取代或未取代的酰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的氨基、或取代或未取代的环氨基，条件是R1至R10的至少之一表示用取代或未取代的芳基取代的氨基、用取代或未取代的烷基取代的氨基、或取代或未取代的环氨基；和X1表示羰基或二羰基。
由式(1)表示的胺化合物可以是其中式(1)的R1至R10的至少之一为用取代或未取代的烷基取代的氨基的胺化合物。
用取代或未取代的烷基取代的氨基可以是用烷氧基取代的烷基取代的氨基、用芳基取代的烷基取代的氨基或用未取代的烷基取代的氨基。
用取代或未取代的烷基取代的氨基可以是二烷氨基，并且二烷氨基可以是二甲氨基或二乙氨基。
由式(1)表示的胺化合物可以是其中式(1)的R1至R10的至少之一为取代或未取代的环氨基的胺化合物。
取代或未取代的环氨基可以是吗啉基或1-哌啶基。
从抑制重影的观点，由式(1)表示的胺化合物可特别为由下式(2)至(4)任一种表示的胺化合物。
式(2)至(4)中，R11、R13、R15、R17和R19各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。R12、R14、R16、R18和R20各自独立地表示取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。可选地，R11和R12可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R13和R14可彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R15和R16可彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R17和R18可彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，和R19和R20可彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基。
由式(2)至(4)任一种表示的胺化合物可以是其中式(2)至(4)任一中的R11至R20各自为用烷氧基取代的烷基、用芳基取代的烷基或未取代的烷基的胺化合物。
未取代的烷基可以是甲基或乙基。
由式(2)至(4)任一种表示的胺化合物可以是其中式(2)至(4)任一种的R11和R12、R13和R14、R15和R16、R17和R18以及R19和R20彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基的胺化合物。
取代或未取代的环氨基可以是吗啉基或1-哌啶基。
可以包含于在各式(1)至(4)中的取代或未取代的酰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的芳基以及取代或未取代的环氨基中的各基团的取代基实例包括烷基例如甲基、乙基、丙基和丁基，烷氧基例如甲氧基和乙氧基，二烷氨基例如二甲氨基和二乙氨基，烷氧羰基例如甲氧羰基和乙氧羰基，芳基例如苯基、萘基和联苯基，卤素原子例如氟原子、氯原子和溴原子，羟基，硝基，氰基以及卤甲基。其中，该取代基可以是芳基或烷氧基。
本发明人认为之所以本发明的电子照相感光构件在抑制重影的效果方面优异的原因如下。
即，在本发明电子照相感光构件的底涂层中包含的由式(1)表示的胺化合物为具有二苯甲酮骨架作为基本骨架并具有用取代或未取代的芳基取代的氨基、用取代或未取代的烷基取代的氨基、或者取代或未取代的环氨基的至少之一的胺化合物。以这种方式，由式(1)表示的胺化合物具有经由氨基的取代基(取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的烷基)，或者具有带有环状结构的氨基，从而由此使作为基本骨架的二苯甲酮骨架的电子轨道之间的空间变形，这被认为对电荷保持性能具有良好的作用。另外，二苯甲酮骨架作为基本骨架比例如蒽醌骨架具有更大的偶极矩，这也被认为具有抑制重影效果的优点。
以下，将示出由式(1)表示的胺化合物的具体示例性实例(示例化合物)，但本发明不局限于示例化合物。
示例化合物(1) 示例化合物(2) 示例化合物(3)
示例化合物(4) 示例化合物(5) 示例化合物(6)
示例化合物(7) 示例化合物(8) 示例化合物(9)
示例化合物(10) 示例化合物(11) 示例化合物(12)
示例化合物(13) 示例化合物(14) 示例化合物(15)
示例化合物(16) 示例化合物(17) 示例化合物(18)
示例化合物(19) 示例化合物(20) 示例化合物(21)
示例化合物(22) 示例化合物(23) 示例化合物(24)
示例化合物(25) 示例化合物(26) 示例化合物(27)
示例化合物(28) 示例化合物(29) 示例化合物(30)
示例化合物(31) 示例化合物(32) 示例化合物(33)
示例化合物(34) 示例化合物(35) 示例化合物(36)
示例化合物(37) 示例化合物(38) 示例化合物(39)
示例化合物(40) 示例化合物(41) 示例化合物(42)
示例化合物(43) 示例化合物(44) 示例化合物(45)
示例化合物(46) 示例化合物(47) 示例化合物(48)
示例化合物(49) 示例化合物(50) 示例化合物(51)
示例化合物(52) 示例化合物(53) 示例化合物(54)
示例化合物(55) 示例化合物(56) 示例化合物(57)
示例化合物(58) 示例化合物(59) 示例化合物(60)
示例化合物(61) 示例化合物(62) 示例化合物(63)
示例化合物(64) 示例化合物(65) 示例化合物(66)
示例化合物(67) 示例化合物(68) 示例化合物(69)
示例化合物(70) 示例化合物(71) 示例化合物(72)
示例化合物(73) 示例化合物(74) 例化合物(75)
示例化合物(76) 示例化合物(77) 示例化合物(78)
示例化合物(79) 示例化合物(80) 示例化合物(81)
示例化合物(82) 示例化合物(83) 示例化合物(84)
示例化合物(85) 示例化合物(86) 示例化合物(87)
示例化合物(88) 示例化合物(89) 示例化合物(90)
示例化合物(91) 示例化合物(92) 示例化合物(93)
示例化合物(94) 示例化合物(95) 示例化合物(96)
示例化合物(97) 示例化合物(98) 示例化合物(99)
示例化合物(100) 示例化合物(101) 示例化合物(102)
示例化合物(103) 示例化合物(104) 示例化合物(105)
示例化合物(106) 示例化合物(107) 示例化合物(108)
示例化合物(109) 示例化合物(110) 示例化合物(111)
上述示例化合物中，Me表示甲基，Et表示乙基和n-Pr表示正丙基。
由式(1)表示的胺化合物还可作为商购产品获得并且还可如下来合成。
使用氨基二苯甲酮作为原料。氨基二苯甲酮和卤化物的取代反应能够将取代基引入到氨基。特别地，使用金属催化剂的氨基二苯甲酮和芳族卤化物的反应是用于合成用芳基取代的胺化合物的有用方法。另外，利用还原性胺化的反应是用于合成用烷基取代的胺化合物的有用方法。
以下，将描述示例化合物(27)的具体合成例。合成例中的“份”指“质量份”。
通过傅里叶变换红外光谱仪(商品名：FT/IR-420，由JASCOCorporation制造)来测量IR(红外)吸收光谱。通过核磁共振设备(商品名：EX-400，由JEOL Ltd.制造)来测量NMR(核磁共振)光谱。
(合成例：示例化合物(27)的合成)
将50份N,N-二甲基乙酰胺、5.0份4,4'-二氨基二苯甲酮、25.7份碘甲苯、9.0份铜粉和9.8份碳酸钾装入三颈烧瓶中，并回流20小时，之后通过热过滤除去固体组分。在减压下蒸馏掉溶剂，并通过硅胶柱(溶剂：甲苯)来纯化残余物，从而获得8.1份示例化合物(27)。
以下示出通过测量获得的IR吸收光谱和1H-NMR光谱的特征峰。
IR(cm-1,KBr)：1646,1594,1508,1318,1277,1174
1H-NMR(ppm,CDCl3,40℃)：δ=7.63(d,4H),7.11(d,8H),7.04(d,8H),6.93(d,4H),2.33(s,12H)
如上所述本发明的电子照相感光构件为具有支承体、形成于所述支承体上的底涂层、和形成于所述底涂层上的感光层的电子照相感光构件。感光层可以是其中电荷产生物质和空穴输送物质包含于单层中的单层型感光层，或者可以是其中将包含电荷产生物质的电荷产生层和包含空穴输送物质的空穴输送层层压的层压层型感光层。
图1为说明电子照相感光构件层结构的一个实例的图。图1中，附图标记101表示支承体，附图标记102表示底涂层，附图标记103表示电荷产生层，附图标记104表示空穴输送层和附图标记105表示感光层(层压层型感光层)。
支承体可以是具有导电性的支承体(导电性支承体)，实例包括由金属(合金)例如铝、不锈钢和镍制成的支承体，以及具有在表面上设置的导电性膜的由金属、塑料或纸制成的支承体。支承体形状的实例包括圆筒状和膜状。特别地，铝制圆筒状支承体在机械强度、电子照相性能和成本方面优异。可原样使用粗制管(crude pipe)作为支承体，或者可以使用通过将粗制管表面进行物理处理例如切削和珩磨、阳极化处理和/或使用酸的化学处理获得的支承体作为支承体。通过将粗制管进行物理处理例如切削和珩磨以便具有作为10点平均粗糙度的0.8μm以上表面粗糙度(Rzjis值，定义于JIS B0601:2001中)而获得的支承体具有优异的干涉图案抑制功能。
如有必要，可在支承体和底涂层之间设置导电层。特别地，在将粗制管原样用作支承体的情况中，可在粗制管上形成导电层从而由此通过简单方法提供干涉图案抑制功能。因此，该情况在生产性和成本方面非常有用。
可通过将导电层用涂布液施涂到支承体上并然后干燥所得涂膜来形成导电层。导电层用涂布液可通过将导电性颗粒、粘结剂树脂和溶剂进行分散处理来制备。导电性颗粒的实例包括氧化锡颗粒、氧化铟颗粒、氧化钛颗粒、硫酸钡颗粒和炭黑。粘结剂树脂包括酚醛树脂。如有必要，也可将粗糙化颗粒添加到导电层用涂布液。
从干涉图案抑制功能和隐蔽(覆盖)支承体上的缺陷的观点，导电层的厚度优选为5至40μm，并更优选10至30μm。
在支承体或导电层上设置底涂层。
底涂层可通过在支承体或导电层上施涂通过将由式(1)表示的胺化合物和树脂溶解于溶剂中制备的底涂层用涂布液，并干燥所得涂膜来形成。
用于底涂层的树脂实例包括丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、乙基纤维素树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、环氧树脂、酪蛋白树脂、硅酮树脂、明胶树脂、酚醛树脂、缩丁醛树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚缩醛树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚烯丙基醚树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、聚乙烯树脂、聚碳酸酯树酯、聚苯乙烯树脂、聚砜树脂、聚乙烯醇树脂、聚丁二烯树脂、聚丙烯树脂、脲醛树脂、琼脂糖树脂和纤维素树脂。其中，从阻挡功能和粘合功能的观点，所述树脂可为聚酰胺树脂。
在底涂层用涂布液中使用的溶剂的实例包括苯、甲苯、二甲苯、四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲基亚砜。
为了控制底涂层的电阻值以增强电位稳定性的目的，底涂层可包含金属氧化物颗粒。金属氧化物颗粒的实例包括氧化锌颗粒和氧化钛颗粒。
底涂层的厚度可为0.1至30.0μm。
底涂层中由式(1)表示的胺化合物的含量基于底涂层的总质量优选为0.05质量%以上且15质量%以下，并更优选0.1质量%以上且10质量%以下。
包含于底涂层中的由式(1)表示的胺化合物可以是非结晶性的或结晶性的。由式(1)表示的胺化合物还可以两种或更多种类型的组合来使用。
包含电荷产生物质和空穴输送物质的感光层设置于底涂层上。
从具有高感光度的观点，电荷产生物质优选为酞菁颜料或偶氮颜料，并特别地更优选酞菁颜料。
酞菁颜料包括非金属酞菁和金属酞菁，酞菁可具有轴向配体和/或取代基。酞菁颜料可以是氧钛酞菁或镓酞菁，这是因为在具有高感光度的同时酞菁趋向于引起重影并因此可享有本发明的效果。镓酞菁可以是羟基镓酞菁或氯镓酞菁。
酞菁颜料可以是在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ为7.4°±0.3°和28.2°±0.3°处具有强峰的晶体形式的羟基镓酞菁，在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.4°、16.6°、25.5°和28.3°处具有强峰的晶体形式的氯镓酞菁晶体，或者在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ为27.2°±0.2°处具有强峰的晶体形式的氧钛酞菁晶体。
特别地，酞菁颜料可以是在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.3°、24.9°和28.1°处具有强峰以及在布拉格角为28.1°处具有最强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体，或者在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体。
在感光层为层压层型感光层的情况中，电荷产生层的粘结剂树脂的实例包括树脂(绝缘树脂)例如聚乙烯醇缩丁醛、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚酯、苯氧基树脂、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺、聚乙烯基吡啶、纤维素类树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、琼脂糖树脂、纤维素树脂、酪蛋白、聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮。另外，还可以使用有机光导电性聚合物例如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。
在电荷产生层用涂布液中使用的溶剂的实例包括甲苯、二甲苯、四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲基亚砜。
电荷产生层可通过涂布包含电荷产生物质和如有必要的粘结剂树脂的电荷产生层用涂布液，并干燥所得涂膜来形成。
电荷产生层用涂布液可通过仅将电荷产生物质添加到溶剂，将所得物进行分散处理并然后添加粘结剂树脂来制备，或者可以通过将电荷产生物质和粘结剂树脂一起添加到溶剂并将所得物进行分散处理来制备。
电荷产生层的厚度可以是0.05μm以上且5μm以下。
电荷产生层中电荷产生物质的含量基于电荷产生层的总质量优选为30质量%以上且90质量%以下，并更优选50质量%以上且80质量%以下。
空穴输送物质的实例包括三芳胺化合物、肼化合物、茋化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三烯丙基甲烷化合物。
在感光层为层压层型感光层的情况中，空穴输送层的粘结剂树脂的实例包括树脂(绝缘树脂)例如聚乙烯醇缩丁醛、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚酯、苯氧基树脂、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素类树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、琼脂糖树脂、纤维素树脂、酪蛋白、聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮。另外，还可以使用有机光导电性聚合物例如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。
在空穴输送层用涂布液中使用的溶剂的实例包括甲苯、二甲苯、四氢化萘、一氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲基亚砜。
空穴输送层可通过施涂通过将空穴输送物质和如有必要的粘结剂树脂溶解于溶剂中获得的空穴输送层用涂布液，并干燥所得涂膜来形成。
空穴输送层的厚度可以是5μm以上且40μm以下。
空穴输送物质的含量基于空穴输送层的总质量优选为20质量%以上且80质量%以下，并更优选30质量%以上且60质量%以下。
感光层也可包含由式(1)表示的胺化合物。在感光层为层压层型感光层的情况中，由式(1)表示的胺化合物可包含于电荷产生层中。
包含于感光层(电荷产生层)中的由式(1)表示的胺化合物可以是非结晶性的或结晶性的。由式(1)表示的胺化合物还可以两种或更多种类型的组合来使用。
在感光层(电荷产生层)包含由式(1)表示的胺化合物的情况中，包含于感光层(电荷产生层)中的由式(1)表示的胺化合物可具有与底涂层中所包含的由式(1)表示的胺化合物相同的结构。
为了保护感光层的目的，可在感光层上设置保护层。
保护层可通过以下来形成：在感光层上施涂通过将树脂例如聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、聚碳酸酯(聚碳酸酯Z或改性聚碳酸酯等)、尼龙、聚酰亚胺、多芳基化合物、聚氨酯、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸类共聚物或苯乙烯-丙烯腈共聚物溶解于溶剂中制备的保护层用涂布液，并干燥/固化所得涂膜。在固化涂膜的情况中，可以使用加热、电子束或紫外线。
保护层的厚度可以为0.05至20μm。
保护层也可包含导电性颗粒、紫外线吸收剂和润滑性颗粒例如含氟原子的树脂颗粒。导电性颗粒的实例包括金属氧化物颗粒例如氧化锡颗粒。
用于施涂各层用涂布液的方法包括浸渍涂布法(浸涂法)、喷涂法、旋涂法、珠涂法(bead coating method)、刮涂法和束涂法(beam coating method)。
图2为说明设置有具有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构的一个实例的图。
附图标记1表示圆筒状(鼓状)电子照相感光构件，并且所述构件绕轴2沿箭头方向以预定的圆周速度(处理速度)旋转驱动。
在旋转过程中通过充电单元3使电子照相感光构件1的表面以预定正或负电位充电。然后，用来自图像曝光单元(未示出)的图像曝光光4照射电子照相感光构件1的表面，并在表面上形成相应于目标图像信息的静电潜像。图像曝光光4为响应于目标图像信息的时间序列(time-series)电数字图像信号而调制其强度，并由图像曝光单元例如狭缝曝光单元和激光束扫描曝光单元输出的光。
在电子照相感光构件1表面上形成的静电潜像通过在显影单元5中接受的调色剂来显影(正规显影或反转显影)，并且调色剂图像形成于电子照相感光构件1的表面上。形成于电子照相感光构件1表面上的调色剂图像通过转印单元6被转印至转印材料7。此时，将具有与由调色剂持有的电荷相反极性的偏压从偏压电源(未示出)施加到转印单元6。在转印材料7为纸的情况中，将转印材料7从纸进给单元(未示出)排出，并在与电子照相感光构件1的旋转同步的同时在电子照相感光构件1和转印单元6之间传送。
将在其上面从电子照相感光构件1转印调色剂图像的转印材料7从电子照相感光构件1的表面分离，输送到图像定影单元8并进行调色剂图像的定影处理，并作为图像形成物(打印件或复印件)打印出电子照相设备外部。
在调色剂图像转印至转印材料7后的电子照相感光构件1的表面通过借助于清洁单元9除去被粘物例如调色剂(转印残余调色剂)来清洁。最近已开发了清洁器系统，因此也可采用该系统以通过显影装置等直接除去转印残余调色剂。另外，电子照相感光构件1的表面通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光10进行中和处理，然后反复地用于图像形成。注意在充电单元3为使用充电辊的接触充电单元的情况中，预曝光单元不是必需的。
在本发明中，将选自组件例如电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元9的多个组件容纳于容器中并一体化地支承从而形成处理盒，并且可将所述处理盒构造为可拆卸地安装到电子照相设备主体上。该结构为例如如下。选自充电单元3、显影单元5和清洁单元9的至少一种组件与电子照相感光构件1一体化地支承从而形成盒。通过使用电子照相设备主体中的引导单元12例如轨道，可将所述盒形成为可拆卸地安装到电子照相设备主体的处理盒11。
在电子照相设备为复印机或打印机的情况中，图像曝光光4可以是来自原稿的反射光或透射光。可选地，图像曝光光4可以是根据信号进行的通过由传感器读取和使原稿信号化、扫描激光束、驱动LED阵列或驱动液晶快门阵列(driving a liquid crystalshutter)而发射的光。
本发明的电子照相感光构件可以广泛地应用于电子照相应用领域例如激光束打印机、CRT打印机、LED打印机、FAX、液晶打印机和激光制版。
下文中，将参考具体实施例更详细地描述本发明。然而，本发明不局限于所述实施例。本文中，各实施例和比较例中电子照相感光构件的各层的厚度通过涡流厚度计(Fischerscope，由Fischer Instruments K.K.制造)来测量或根据比重由单位面积上的质量来计算。实施例中的“份”指“质量份”。
(实施例1)
使用直径为24mm和长度为257mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)。
然后，将60份用氧化锡覆盖的硫酸钡颗粒(商品名：PastlanPC1，由Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd.生产)、15份氧化钛颗粒(商品名：TITANIX JR，由Tayca Corporation生产)、43份甲阶酚醛型酚醛树脂(商品名：PHENOLITE J-325，由DICCorporation生产，固成分：70质量%)、0.015份硅油(商品名：SH28PA，由Toray Silicone Co.,Ltd.生产)、3.6份硅酮树脂颗粒(商品名：TOSPEARL 120，由Toshiba Silicone Co.,Ltd.生产)、50份2-甲氧基-1-丙醇和50份甲醇装入球磨机，并进行分散处理20小时，由此制备导电层用涂布液。通过浸渍在支承体上施涂导电层用涂布液，并将所得涂膜在140℃下加热1小时并固化，由此形成厚度为20μm的导电层。
然后，将通过25份N-甲氧基甲基化尼龙6(商品名：ToresinEF-30T，由Nagase ChemteX Corporation生产)在320份甲醇/160份正丁醇的混合溶剂中溶解(在65℃加热和溶解)形成的溶液冷却。其后，通过膜滤器(商品名：FP-022，孔径：0.22μm，由Sumitomo Electric Industries制造)来过滤溶液，并将0.5份示例化合物(1)(产品代码：159400050，由Acros Organics生产)添加到滤液，由此制备底涂层用涂布液。通过浸渍在导电层上施涂底涂层用涂布液，并在100℃下干燥所得涂膜10分钟，由此形成厚度为0.45μm的底涂层。
然后，将20份在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.3°、24.9°和28.1°处具有强峰以及在布拉格角为28.1°处具有最强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)、0.2份由下式(5)表示的杯芳烃化合物：
10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.生产)和519份环己酮装入使用直径为1mm玻璃珠的砂磨机，并进行分散处理4小时，然后添加764份乙酸乙酯，由此制备电荷产生层用涂布液。通过浸渍在底涂层上施涂电荷产生层用涂布液，并在100℃下干燥所得涂膜10分钟，由此形成厚度为0.18μm的电荷产生层。
然后，将70份由下式(6)表示的三芳胺化合物(空穴输送物质)：
10份由下式(7)表示的三芳胺化合物(空穴输送物质)：
和100份聚碳酸酯(商品名：Iupiron Z-200，由MitsubishiEngineering-Plastics Corporation生产)溶解于630份一氯苯，由此制备空穴输送层用涂布液。通过浸渍在电荷产生层上施涂空穴输送层用涂布液，并在120℃下干燥所得涂膜1小时，由此形成厚度为19μm的空穴输送层。
使用设定于各温度的烘箱来干燥导电层、底涂层、电荷产生层和空穴输送层用涂膜。下文将同样适用。
如上所述，生产实施例1中的圆筒状(鼓状)电子照相感光构件。
(实施例2)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为0.005份以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例2中的电子照相感光构件。
(实施例3)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为0.05份以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例3中的电子照相感光构件。
(实施例4)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为1.25份以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例4中的电子照相感光构件。
(实施例5)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为2.5份以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例5中的电子照相感光构件。
(实施例6)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为5份以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例6中的电子照相感光构件。
(实施例7)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.5份变为0.25份，并且将电荷产生层用涂布液的制备变为下述以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例7中的电子照相感光构件。
将20份在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.3°、24.9°和28.1°处具有强峰以及在布拉格角为28.1°处具有最强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)、0.2份由式(5)表示的杯芳烃化合物、2份示例化合物(1)(产品代码：159400050，由Acros Organics生产)、10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.生产)和553份环己酮装入使用直径为1mm玻璃珠的砂磨机，并进行分散处理4小时，然后添加815份乙酸乙酯，由此制备电荷产生层用涂布液。
(实施例8)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的0.25份示例化合物(1)变为0.025份示例化合物(2)(产品代码：B1275，由TokyoChemical Industry Co.,Ltd.生产)和将用于制备电荷产生层用涂布液的2份示例化合物(1)变为0.1份示例化合物(2)以外，以与实施例7中相同的方式生产实施例8中的电子照相感光构件。
(实施例9)
除了在实施例8中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(2)的量由0.025份变为0.05份，并且在制备电荷产生层用涂布液中不使用示例化合物(2)以外，以与实施例8中相同的方式生产实施例9中的电子照相感光构件。
(实施例10)
除了在实施例8中按下述来形成底涂层以外，以与实施例8相同的方式生产实施例10中的电子照相感光构件。
使用36份醇酸树脂(商品名：Beckolite M6401-50-S(固成分：50%)，由DIC Corporation生产)、20份三聚氰胺树脂(商品名：Superbeckamine L-121-60(固成分：60%)，由DIC Corporation生产)、120份表面未经处理的金红石型氧化钛颗粒(商品名：CR-EL，平均粒径：0.25μm，由Ishihara S angyo Kaisha Ltd.生产)(产品代码：B1275，由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.生产)、0.12份示例化合物(2)和280份2-丁酮来制备底涂层用涂布液。通过浸渍在导电层上施涂底涂层用涂布液，并在130℃下干燥所得涂膜45分钟，由此形成厚度为3μm的底涂层。
(实施例11)
除了在实施例10中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(2)的量由0.12份变为0.24份，并且在制备电荷产生层用涂布液中不使用示例化合物(2)以外，以与实施例10中相同的方式生产实施例11中的电子照相感光构件。
(实施例12)
使用直径为30mm和长度为357.5mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)。
然后，将56份缩丁醛树脂(商品名：BM-1，由SekisuiChemical Co.,Ltd.生产)、56份封端的异氰酸酯(商品名：Sumijule3175，由Sumitomo Bayer Urethane Co.,Ltd.生产)、300份其表面已用N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷(硅烷偶联剂，商品名：KBM602，由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.生产)处理的氧化锌颗粒、3份示例化合物(2)(产品代码：B1275，由TokyoChemical Industry Co.,Ltd.生产)、298份2-丁酮和298份正丁醇装入使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机，并进行分散处理3.3小时。其后，向其添加0.04份硅油(商品名：SH28PA，由Dow CorningToray Silicone Co.,Ltd.生产)和21份聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)颗粒(商品名：SSX-102，由Sekisui Plastics Co.,Ltd.生产，平均粒径：2.5μm)，由此制备底涂层用涂布液。通过浸渍在支承体上施涂底涂层用涂布液，并在160℃下干燥所得涂膜30分钟，由此形成厚度为16μm的底涂层。
然后，以与实施例8中相同的方式形成电荷产生层和空穴输送层，由此生产实施例12中的电子照相感光构件。
(实施例13)
除了在实施例12中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(2)的量由3份变为6份，并且在制备电荷产生层用涂布液中不使用示例化合物(2)以外，以与实施例12中相同的方式生产实施例13中的电子照相感光构件。
(实施例14)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)的量由0.25份变为0.125份，并且将用于制备电荷产生层用涂布液的2份示例化合物(1)变为0.1份示例化合物(2)以外，以与实施例7中相同的方式生产实施例14中的电子照相感光构件。
(实施例15)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(3)(产品代码：B1212，由Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例15中的电子照相感光构件。
(实施例16)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(4)(产品代码：B1433，由Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例16中的电子照相感光构件。
(实施例17)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(5)(产品代码：D2561，由Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例7中相同的方式生产实施例17中的电子照相感光构件。
(实施例18)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(9)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例18中的电子照相感光构件。
(实施例19)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(12)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例19中的电子照相感光构件。
(实施例20)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(14)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例20中的电子照相感光构件。
(实施例21)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(18)以外，以与实施例7中相同的方式生产实施例21中的电子照相感光构件。
(实施例22)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为示例化合物(27)以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例22中的电子照相感光构件。
(实施例23)
除了在实施例1中按下述来形成电荷产生层以外，以与实施例1中相同的方式生产实施例23中的电子照相感光构件。
将20份在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的晶体形式的氧钛酞菁晶体(电荷产生物质)、10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.生产)和519份环己酮装入使用直径为1mm玻璃珠的砂磨机，并进行分散处理4小时，然后添加764份乙酸乙酯，由此制备电荷产生层用涂布液。通过浸渍在底涂层上施涂电荷产生层用涂布液，并在100℃下干燥10分钟，由此制备厚度为0.18μm的电荷产生层。
(比较例1)
除了在实施例1中在制备底涂层用涂布液中不使用示例化合物(1)以外，以与实施例1中相同的方式生产比较例1中的电子照相感光构件。
(比较例2)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(8)表示的双偶氮颜料以外，以与实施例1中相同的方式生产比较例2中的电子照相感光构件。
(比较例3)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(9)表示的二苯甲酮化合物(产品代码：378259，由Sigma-Aldrich生产)以外，以与实施例1相同的方式生产比较例3中的电子照相感光构件。
(比较例4)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(10)表示的化合物(产品代码：B0483，由TokyoChemical Industry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例7中相同的方式生产比较例4中的电子照相感光构件。
其中，式(10)中，Me表示甲基。
(比较例5)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(11)表示的蒽醌化合物以外，以与实施例1中相同的方式生产比较例5中的电子照相感光构件。
其中，式(11)中，Et表示乙基。
(比较例6)
除了在实施例1中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(12)表示的二苯甲酮化合物(产品代码：126217，由Sigma-Aldrich生产)以外，以与实施例1相同的方式生产比较例6中的电子照相感光构件。
(比较例7)
除了在实施例7中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(1)变为由下式(13)表示的二苯甲酮化合物以外，以与实施例7中相同的方式生产比较例7中的电子照相感光构件。
其中，式(13)中，Me表示甲基。
(比较例8)
除了在实施例11中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(2)变为由下式(14)表示的二苯甲酮化合物(产品代码：D1688，由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例11中相同的方式生产比较例8中的电子照相感光构件。
(比较例9)
除了在实施例13中将用于制备底涂层用涂布液的示例化合物(2)变为由下式(15)表示的二苯甲酮(产品代码：B0083，由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.生产)以外，以与实施例13中相同的方式生产比较例9中的电子照相感光构件。
(比较例10)
除了在实施例11中在制备底涂层用涂布液中不使用示例化合物(2)以外，以与实施例11中相同的方式生产比较例10中的电子照相感光构件。
(比较例11)
除了在实施例13中在制备底涂层用涂布液中不使用示例化合物(2)以外，以与实施例13中相同的方式生产比较例11中的电子照相感光构件。
(比较例12)
除了在实施例23中在制备底涂层用涂布液和在制备电荷产生层用涂布液时不使用示例化合物(1)以外，以与实施例23中相同的方式生产比较例12中的电子照相感光构件。
(实施例1至23和比较例1至12的评价)
在实施例1至23和比较例1至12的电子照相感光构件中，在常温常湿环境23℃/50%RH下以及在36低温低湿环境(15℃/10%RH)下进行重影的评价。
作为评价用电子照相设备，对于实施例1至11、14至23以及比较例1至8、10、12中的电子照相感光构件使用由Hewlett-Packard Development Company L.P.制造的激光束打印机(商品名：Color Laser Jet CP3525dn)的改造机。将所述激光束打印机改造为不打开预曝光光，并且在可变充电条件下和以可变激光曝光量运行改造机，此外，将生产的电子照相感光构件安装到青色用处理盒，将所得物固定于青色用处理盒的位置上，即使其他颜色用处理盒未被安装到激光束打印机的主体也运行。
另一方面，对于实施例12和13以及比较例9和11中的电子照相感光构件，使用由Canon Kabushiki Kaisha制造的复印机(商品名：imageRUNNER iR-ADV C5051)的改造机。将复印机改造为在可变充电条件和以可变激光曝光量运行改造机，此外，将生产的电子照相感光构件安装到青色用处理盒，将所得物固定于青色用处理盒的位置上，并且即使其他颜色用处理盒未被安装到复印机的主体也运行。
当输出图像时，仅将青色用处理盒固定到激光束打印机主体或复印机主体上，从而仅通过青色调色剂输出单色图像。
设置各电子照相感光构件的表面电位以使对于实施例1至11、14至23以及比较例1至8、10、12的初始暗区电位为-500V和亮区电位为-150V，另一方面，对于实施例12和13以及比较例9和11的初始暗区电位为-600V和亮区电位为-250V。当设定电位时，通过使用在处理盒的显影位置处安装的电位探针(商品名：型号6000B-8，由Trek Japan KK制造)和表面电位计(商品名：型号344，由Trek Japan KK制造)来测定各电子照相感光构件的表面电位，从而测量沿电子照相感光构件纵向中央部的电位。
首先，在常温常湿环境23℃/50%RH下进行重影的评价。其后，在相同环境下进行通过1,000张纸的耐久试验，在耐久试验后立即进行重影的评价。在常温常湿环境下的评价结果示于表1。
然后，将电子照相感光构件与评价用电子照相设备一起在低温低湿环境(15℃/10%RH)下静置3天，然后进行重影的评价。然后，在相同环境下进行通过1,000张纸的耐久试验，在耐久试验后立即进行重影的评价。在低温低湿环境下的评价结果示于表1。
在该纸通过耐久试验时，由单色(青色)在A4大小的普通纸上形成打印率为1%的E字母图像。
评价标准如下。
如图3所示，通过在图像首部上输出实黑301的四方图像，然后输出单点桂马(KEIMA，日本象棋中的马)图案的半色调图像304来形成评价重影用图像。通过首先在第一张上输出实白图像，其后在5张上连续输出用于评价重影的图像，然后在1张上输出实黑图像，并再次在5张上输出用于评价重影的图像来输出图像，并合计评价该用于评价重影的十个图像。
通过借助于分光浓度计(spectral densitometer)(商品名：X-Rite 504/508，由X-Rite,Incorporated制造)测量单点桂马(日本象棋中的马)图案的图像浓度和重影区域(可发生重影的区域)的图像浓度之间的浓度差来进行重影的评价。测量用于评价重影的一个图像的十个点，并将该十点的平均值定义为一个图像的结果。用于评价重影的所有十个图像进行相同的测量，然后测定各平均值，并定义为各实施例的浓度差。浓度差表示值越小显示重影程度越低，并且愈加有利。表1中，“初始”指在常温常湿环境下或在低温低湿环境下进行通过1,000张纸的耐久试验前的浓度差，“耐久后”指在常温常湿环境下或在低温低湿环境下进行通过1,000张纸的耐久试验后的浓度差。
表1
虽然参考示例性实施方案已描述了本发明，但应理解本发明并不局限于公开的示例性实施方案。以下权利要求书的范围符合最宽泛的解释以便包含所有此类改进以及等同结构和功能。
Claims (18)
1.一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成于所述支承体上的底涂层和形成于所述底涂层上并包含电荷产生物质和空穴输送物质的感光层，其中
所述底涂层包含由下式(1)表示的胺化合物：
其中，式(1)中，R1至R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、烷氧羰基、芳氧羰基、取代或未取代的酰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的氨基、或者取代或未取代的环氨基，条件是R1至R10的至少之一表示用取代或未取代的芳基取代的氨基、用取代或未取代的烷基取代的氨基、或者取代或未取代的环氨基；和X1表示羰基或二羰基。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中R1至R10的至少之一为用取代或未取代的烷基取代的氨基。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中所述用取代或未取代的烷基取代的氨基中的取代或未取代的烷基为用烷氧基取代的烷基、用芳基取代的烷基或未取代的烷基。
4.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中所述用取代或未取代的烷基取代的氨基为二烷氨基。
5.根据权利要求4所述的电子照相感光构件，其中所述二烷氨基为二甲氨基或二乙氨基。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中R1至R10的至少之一为取代或未取代的环氨基。
7.根据权利要求6所述的电子照相感光构件，其中所述取代或未取代的环氨基为吗啉基或1-哌啶基。
8.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述由式(1)表示的胺化合物为由下式(2)至(4)的任一种表示的胺化合物：
其中，式(2)至(4)中，R11、R13、R15、R17和R19各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；R12、R14、R16、R18和R20各自独立地表示取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；或者，R11和R12可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R13和R14可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R15和R16可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R17和R18可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基，R19和R20可以彼此结合从而形成取代或未取代的环氨基。
9.根据权利要求8所述的电子照相感光构件，其中R11至R20各自为用烷氧基取代的烷基、用芳基取代的烷基或未取代的烷基。
10.根据权利要求9所述的电子照相感光构件，其中R11至R20各自为甲基或乙基。
11.根据权利要求8所述的电子照相感光构件，其中通过彼此结合R11与R12、R13与R14、R15与R16、R17与R18以及R19与R20形成的取代或未取代的环氨基为吗啉基或1-哌啶基。
12.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述底涂层中由式(1)表示的胺化合物的含量为0.05质量%以上且15质量%以下。
13.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述电荷产生物质为羟基镓酞菁。
14.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述感光层具有包含所述电荷产生物质的电荷产生层和形成于所述电荷产生层上并包含所述空穴输送物质的空穴输送层。
15.根据权利要求14所述的电子照相感光构件，其中所述电荷产生层包含所述电荷产生物质和由式(1)表示的胺化合物。
16.根据权利要求15所述的电子照相感光构件，其中包含于所述底涂层中的由式(1)表示的胺化合物具有与包含于所述电荷产生层中的由式(1)表示的胺化合物相同的结构。
17.一种处理盒，其一体化地支承根据权利要求1至16任一项所述的电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且所述处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体。
18.一种电子照相设备，其具有根据权利要求1至16任一项所述的电子照相感光构件、以及充电单元、图像曝光单元、显影单元和转印单元。
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