JP5906069B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
フタロシアニン顔料は、長波長領域から短波長領域までの光に高い感度を有する電荷発生物質として知られている。
ところが、電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を用いた電子写真感光体は、優れた感度特性を有している反面、生成したフォトキャリアが残存しやすく、電位変動を起こしやすいという課題があった。
電位変動を改善する技術として、特許文献１には、支持体と感光層との間の下引き層に金属酸化物粒子を含有させる技術が開示されている。
また、特許文献２には、電荷発生物質の酸化の抑制や、残留電位の上昇の抑制のため、ベンゾフェノン化合物を電子写真感光体に用いる技術が開示されている。
また、特許文献３には、感度の向上や、感度および帯電電位の安定性の向上のため、アントラキノン化合物を電子写真感光体に用いる技術が開示されている。
以上のように、電子写真感光体に関して、様々な改善が試みられている。
しかしながら、特許文献１に開示されているように、電位変動を改善するために下引き層に金属酸化物粒子を含有させると、暗減衰が増加し、静電潜像のコントラストが低下する傾向がある。特に、帯電電位を高めたり、電荷輸送層を薄膜化したりすると、この傾向は顕著である。
したがって、近年のさらなる高画質化の要求に対しては、暗減衰の増加による静電潜像のコントラストの低下の改善が望まれている。
本発明の目的は、電位変動が抑制され、静電潜像のコントラストの低下が抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する電子写真感光体において、
該下引き層が、結着樹脂、および、金属酸化物粒子を含有し、
該電荷発生層が、結着樹脂、フタロシアニン顔料、および、下記式（１）もしくは（２）で示される化合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体である。
該下引き層が、結着樹脂、および、金属酸化物粒子を含有し、
該電荷発生層が、結着樹脂、フタロシアニン顔料、および、下記式（１）もしくは（２）で示される化合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体である。
（式（１）および（２）中、Ｒ１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアミノ基、または、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。ただし、Ｒ １ 〜Ｒ １０ の少なくとも１つ、およびＲ １１ 〜Ｒ １８ の少なくとも１つが、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。Ｘ１は、カルボニル基、または、ジカルボニル基を示す。）
また、本発明は、上記電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、該電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成するための現像手段、および、トナー像が転写材に転写された後に該電子写真感光体の表面のトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
また、本発明は、上記電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、該電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成するための現像手段、および、トナー像が転写材に転写された後に該電子写真感光体の表面のトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
また、本発明は、上記電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、帯電された該電子写真感光体の表面に像露光光を照射して静電潜像を形成するための像露光手段、該電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成するための現像手段、および、該電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を転写材に転写するための転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。
本発明によれば、電位変動が抑制され、静電潜像のコントラストの低下が抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する電子写真感光体である。
図２は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図２中、１０１は支持体であり、１０２は下引き層であり、１０３は電荷発生層であり、１０４は電荷輸送層である。
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）であることが好ましく、例えば、アルミニウム、鉄、銅、ニッケル、亜鉛などの金属、合金製の支持体が挙げられる。
支持体の表面には、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などの施してもよい。
支持体および下引き層との間には、レーザー光などの像露光光の散乱による干渉縞の抑制や、支持体の傷の隠蔽などを目的として、導電層を設けてもよい。
導電層は、カーボンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子などの導電性粒子を結着樹脂および溶剤とともに分散処理して得られる導電層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル、アルコール、ケトン、芳香族炭化水素などが挙げられる。
導電層の膜厚は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル、アルコール、ケトン、芳香族炭化水素などが挙げられる。
導電層の膜厚は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
支持体（導電層）上には、下引き層（中間層、バリア層とも呼ばれる。）が設けられる。
本発明の電子写真感光体の下引き層には、結着樹脂、および、金属酸化物粒子が用いられる。
下引き層に用いられる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。また、本発明においては、金属酸化物の種類が異なるものや、表面処理の種類や有無が異なるものや、比表面積の異なるものなどの２種類以上を混合して用いることもできる。
本発明の電子写真感光体の下引き層には、結着樹脂、および、金属酸化物粒子が用いられる。
下引き層に用いられる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。また、本発明においては、金属酸化物の種類が異なるものや、表面処理の種類や有無が異なるものや、比表面積の異なるものなどの２種類以上を混合して用いることもできる。
金属酸化物粒子の中でも、酸化亜鉛粒子は、その酸素欠損の程度を制御することにより、粒子の抵抗を制御しやすいため好ましい。金属酸化物粒子は、その酸素欠損の程度が大きくなるほど、伝導帯のキャリア濃度が大きくなり、粒子の抵抗が低くなる傾向がある。
金属酸化物粒子には、支持体から電荷発生層への電荷の注入を抑制するため、シランカップリング剤で表面処理を施すことが好ましい。支持体から電荷発生層に電荷が注入すると、黒点状の画像欠陥が発生する場合がある。
シランカップリング剤としては、下記式（７）で示される化合物（アミノシラン化合物）が好ましい。
式（７）中、Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ３５は、炭素数が１〜３のアルキル基、または、炭素数が１〜３のアルコキシ基を示す。Ｒ３７は、水素原子、フェニル基、または、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ３６は、下記式（Ｒ３６−１）、（Ｒ３６−２）または（Ｒ３６−３）で示される２価の基を示す。
式（Ｒ３６−１）、（Ｒ３６−２）および（Ｒ３６−３）中、ｎは、１〜３の整数である。Ｒ３８およびＲ３９は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレン基を示す。
以下に、上記式（７）で示される化合物の具体例（例示化合物）を示す。
以下に、上記式（７）で示される化合物の具体例（例示化合物）を示す。
上記式（７）中のＲ３５が炭素数１〜３のアルコキシ基である化合物の例は、例示化合物（Ｘ−１）〜（Ｘ−６）であり、Ｒ３５が炭素数１〜３のアルキル基である化合物の例は、例示化合物（Ｘ−７）〜（Ｘ−１２）である。
上記式（７）で示される化合物の中でも、繰り返し使用時の明部電位の変動を抑制する観点から、上記式（７）中のＲ３５が炭素数１〜３のアルキル基である化合物、いわゆる２官能型アミノシラン化合物が好ましい。これは、２官能型アミノシラン化合物で表面処理された金属酸化物粒子では、金属酸化物粒子の表面に２官能型アミノシラン化合物が直鎖上に結合しやすく、これを含有する下引き層と支持体および電荷発生層との密着性が向上し、電荷のやりとりが円滑になるためであると考えられる。
金属酸化物を表面処理する方法としては、例えば、乾式法、湿式法などが挙げられる。乾式法は、金属酸化物粒子をヘンシェルミキサーなどの高速攪拌可能なミキサーの中で攪拌しながら、シランカップリング剤の有機溶剤溶液または水溶液を添加し、金属酸化物粒子を分散させた後、乾燥を行う方法である。また、湿式法は、金属酸化物粒子とシランカップリング剤を溶剤中で攪拌する、または、サンドミルなどの分散機を用いて分散処理する方法である。分散処理後は、濾過、減圧留去などにより、溶剤の除去を行う。溶剤の除去後は、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことが好ましい。
金属酸化物粒子の比表面積は、１４ｍ２／ｇ以上２５ｍ２／ｇ以下であることが好ましい。比表面積が２５ｍ２／ｇ以下であれば、下引き層における粒子の分散状態が均一になりやすく、良好な画像が得られやすくなる。また、比表面積が１４ｍ２／ｇ以上であれば、下引き層の膜性が悪化しにくく、繰り返し使用における電位変動がより抑制される。本発明において、比表面積の測定は、（株）島津製作所製の測定装置（商品名：Ｔｒｉｓｔａｒ３０００）を用いて行った。具体的には、測定用のガラスセル中に測定対象の金属酸化物粒子２００ｍｇを入れ、このガラスセルに１５０℃で３０分間真空乾燥処理を施した後、このガラスセルを上記測定装置に装着して、金属酸化物粒子の比表面積の測定を行った。
金属酸化物粒子の表面処理に用いられるシランカップリング剤の量は、金属酸化物粒子の全質量に対する割合（質量比）をＡ［％］とし、金属酸化物粒子の比表面積をＢ［ｍ２／ｇ］としたとき、Ａ／Ｂが０．０１０以上０．０５０以下となる量であることが好ましい。Ａ／Ｂが０．０１０以上０．０５０以下であれば、下引き層と支持体および電荷発生層の密着性が向上し、繰り返し使用時の明部電位の変動がより抑制される。
下引き層に用いられる結着樹脂としては、イソシアネートとポリオールとの硬化物であるウレタン樹脂が好ましい。
イソシアネートとしては、例えば、２，４トリレンジイソシアネート、２，６トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−トリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレン−イソシアヌレート体、ヘキサメチレン−ビウレット体などが挙げられる。
また、イソシアネートは、オキシムなどでブロック安定化したもの（ブロック化イソシアネート）が好ましい。
イソシアネートとしては、例えば、２，４トリレンジイソシアネート、２，６トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−トリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレン−イソシアヌレート体、ヘキサメチレン−ビウレット体などが挙げられる。
また、イソシアネートは、オキシムなどでブロック安定化したもの（ブロック化イソシアネート）が好ましい。
オキシムとしては、例えば、アセトアルドオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどが挙げられる。
ポリオールとしては、例えば、ポリビニルアセタール、ポリフェノールなどが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアセタールが好ましい。
ポリオールとしては、例えば、ポリビニルアセタール、ポリフェノールなどが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアセタールが好ましい。
下引き層における金属酸化物粒子と結着樹脂の比率は、金属酸化物粒子：結着樹脂が２：１〜４：１（質量比）であることが好ましい。質量比が２：１〜４：１であれば、繰り返し使用時の明部電位の変動がより抑制され、また、下引き層のクラック（ひび割れ）の発生も抑制される。
下引き層は、結着樹脂（またはその原料）および金属酸化物粒子を含有する下引き層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
例えば、下引き層に金属酸化物粒子として上記式（７）で示される化合物で表面処理された金属酸化物粒子を含有させ、結着樹脂としてブロック化イソシアネートとポリビニルアセタールとの硬化物であるウレタン樹脂を含有させる場合、下引き層用塗布液は、上記式（７）で示される化合物で表面処理された金属酸化物粒子、ブロック化イソシアネートおよびポリビニルアセタールを溶剤とともに分散処理することによって調製することができる。あるいは、上記式（７）で示される化合物、金属酸化物粒子、ブロック化イソシアネートおよびポリビニルアセタールを溶剤とともに分散処理することによって調製することもできる。
下引き層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素などが挙げられる。具体的には、ジメトキシメタン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセロソルブ、メトキシプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジオキサンなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
分散処理方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波分散機、ペイントシェイカー、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機などの分散装置を用いた方法が挙げられる。
また、下引き層には、下引き層の表面粗さの調整や、下引き層のクラック（ひび割れ）の抑制などを目的として、有機樹脂粒子や、レベリング剤を含有させてもよい。
有機樹脂粒子としては、例えば、シリコーン粒子などの疎水性有機樹脂粒子や、架橋性ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）粒子などの親水性有機樹脂粒子などが挙げられる。これらの中でも、繰り返し使用時の明部電位の変動を抑制する観点から、親水性有機樹脂粒子が好ましく、特にはＰＭＭＡ粒子が好ましい。この理由として、疎水性有機樹脂粒子と比較して、親水性有機樹脂粒子は水分を吸着しやすく、金属酸化物粒子の水分の吸着を抑制する働きがあるからであると推測している。
下引き層の表面粗さは、ＪＩＳＢ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）で規定されている十点平均粗さＲｚで０．６μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましい。また、ＪＩＳＢ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）で規定されている凹凸の平均間隔ＲＳｍで０．０１０ｍｍ以上０．０２４ｍｍ以下であることが好ましい。ＲＳｍが０．０１０ｍｍ以上０．０２４ｍｍ以下であれば、下引き層と電荷発生層との密着性が向上し、繰り返し使用時の明部電位の変動がより抑制される。
下引き層の膜厚は、繰り返し使用時の明部電位の変動を抑制する観点から、支持体と下引き層との間に導電層を設ける場合は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましい。支持体と下引き層との間に導電層を設けない場合は、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。
下引き層上には、電荷発生層が設けられる。
本発明の電子写真感光体の電荷発生層には、結着樹脂、フタロシアニン顔料、および、下記式（１）もしくは（２）で示される化合物が用いられる。
上記式（１）および（２）中、Ｒ１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアミノ基、または、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。ただし、Ｒ１〜Ｒ１０の少なくとも１つは、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたアミノ基、置換もしくは無置換のアルキル基で置換されたアミノ基、または、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示し、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくとも１つは、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたアミノ基、置換もしくは無置換のアルキル基で置換されたアミノ基、または、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。Ｘ１は、カルボニル基、または、ジカルボニル基を示す。
上記式（１）中のＲ１〜Ｒ１０の少なくとも１つは、置換もしくは無置換のアルキル基で置換されたアミノ基であることが好ましい。また、当該置換もしくは無置換のアルキル基は、アルコキシ基で置換されたアルキル基、アリール基で置換されたアルキル基、または、無置換のアルキル基であることが好ましい。また、上記式（１）中のＲ１〜Ｒ１０の少なくとも１つは、ジアルキルアミノ基であることがより好ましく、その中でも、ジメチルアミノ基、または、ジエチルアミノ基であることがより好ましい。
また、上記式（１）中のＲ１〜Ｒ１０の少なくとも１つは、置換もしくは無置換の環状アミノ基であることも好ましく、その中でも、モルホリノ基、または、ピペリジノ基であることがより好ましい。
上記式（２）中のＲ１１〜Ｒ１８の少なくとも１つは、置換もしくは無置換のアルキルで置換されたアミノ基であることが好ましい。また、当該置換もしくは無置換のアルキルは、アルコキシ基で置換されたアルキル基、アリール基で置換されたアルキル基、または、無置換のアルキル基であることが好ましい。また、上記式（２）中のＲ１１〜Ｒ１８の少なくとも１つは、ジアルキルアミノ基であることがより好ましく、その中でも、ジメチルアミノ基、または、ジエチルアミノ基であることがより好ましい。
また、上記式（２）中のＲ１１〜Ｒ１８の少なくとも１つは、置換もしくは無置換の環状アミノ基であることも好ましく、その中でも、モルホリノ基、または、ピペリジノ基であることがより好ましい。
上記式（１）もしくは（２）で示される化合物の中でも、さらに好ましい化合物は、下記式（３）〜（６）のいずれかで示される化合物である。
式（３）〜（６）中、Ｒ２１、Ｒ２３、Ｒ２５、Ｒ２７、Ｒ２９およびＲ３１は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示す。Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２６、Ｒ２８、Ｒ３０およびＲ３２は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示す。あるいは、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２３とＲ２４は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２５とＲ２６は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２７とＲ２８は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２９とＲ３０は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ３１とＲ３２は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよい。
また、上記式（３）〜（６）中のＲ２１〜Ｒ２６およびＲ２７〜Ｒ３２は、アルコキシ基で置換されたアルキル基、アリール基で置換されたアルキル基、または、無置換のアルキル基であることが好ましく、その中でも、メチル基、または、エチル基であることがより好ましい。
また、上記式（３）〜（６）のＲ２１とＲ２２が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基、Ｒ２３とＲ２４が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基、Ｒ２５とＲ２６が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基、Ｒ２７とＲ２８が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基、Ｒ２９とＲ３０が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基、Ｒ３１とＲ３２が互いに結合して形成される置換もしくは無置換の環状アミノ基としては、モルホリノ基、または、ピペリジノ基が好ましい。
また、上記式（１）〜（６）における各基が有してもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基や、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基や、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基や、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基などのアリール基や、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子や、ヒドロキシ基や、ニトロ基や、シアノ基や、ハロメチル基などが挙げられる。これらの中でも、アリール基、アルコキシ基が好ましい置換基である。
以下に、上記式（１）もしくは（２）で示される化合物の具体例（例示化合物）を示す。
以下に、上記式（１）もしくは（２）で示される化合物の具体例（例示化合物）を示す。
上記例示化合物中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎ−Ｐｒはｎ−プロピル基を示す。
上記式（１）もしくは（２）で示される化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
上記式（１）もしくは（２）で示される化合物は、非晶質であっても結晶質であってもよい。
上記式（１）もしくは（２）で示される化合物は、市販品として入手することもできるが、以下のようにして合成することもできる。
原料としてアミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンを用い、アミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンとハロゲン化物との置換反応によって、アミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンのアミノ基に置換基を導入することができる。その中でも、金属触媒を用い、アミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンと芳香族ハロゲン化物とを反応させる方法が、アミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンのアミノ基にアリール基を置換基として導入する方法として有効な方法である。また、還元的アミノ化を用いた反応が、アミノベンゾフェノンまたはアミノアントラキノンのアミノ基にアルキル基を置換基として導入する方法として有効な方法である。
以下に、例示化合物（２４）の具体的な合成例を示す。合成例において、「部」は「質量部」を意味する。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５０部を入れた３径フラスコに、４，４’−ジアミノベンゾフェノン５．０部、ヨードトルエン２５．７部、銅粉９．０部および炭酸カリウム９．８部を添加して、２０時間リフラックスをした後、熱時濾過で固形成分を除去した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム（溶媒はトルエン）にて精製し、例示化合物（２４）を８．１部得た。
以下に、測定により得られたＩＲ（赤外線）吸収スペクトルおよび１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴）スペクトルの特徴的なピークを示す。なお、ＩＲ吸収スペクトルは、フーリエ変換赤外分光光度計（商品名：ＦＴ／ＩＲ−４２０、日本分光（株）製）を用いて測定した。また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、核磁気共鳴装置（商品名：ＥＸ−４００、日本電子（株）製）を用いて測定した。
ＩＲ（ｃｍ−１，ＫＢｒ）：１６４６，１５９４，１５０８，１３１８，１２７７，１１７４
１Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ＣＤＣＬ３，４０℃）：δ＝７．６３（ｄ，４Ｈ），７．１１（ｄ，８Ｈ），７．０４（ｄ，８Ｈ），６．９３（ｄ，４Ｈ），２．３３（ｓ、１２Ｈ）
電荷発生層に用いられるフタロシアニン顔料としては、例えば、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニンが挙げられる。これらは、軸配位子や置換基を有してもよい。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ＣＤＣＬ３，４０℃）：δ＝７．６３（ｄ，４Ｈ），７．１１（ｄ，８Ｈ），７．０４（ｄ，８Ｈ），６．９３（ｄ，４Ｈ），２．３３（ｓ、１２Ｈ）
電荷発生層に用いられるフタロシアニン顔料としては、例えば、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニンが挙げられる。これらは、軸配位子や置換基を有してもよい。
フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、ガリウムフタロシアニンは、高い感度を有する反面、生成したフォトキャリアが残存しやすく、電位変動を起こしやすいため、本発明が有効に作用し、好ましい。
ガリウムフタロシアニンの中でも、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンが好ましい。
ヒドロキシガリウムフタロシアニンの中でも、ＣｕＫα線のＸ線回折におけるブラッグ角２θの７．４°±０．３°および２８．２°±０．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶が好ましく、その中でも、ブラッグ角２θ±０．２°の７．３°、２４．９°および２８．１°に強いピークを有し、かつ２８．１°に最も強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶が好ましい。
クロロガリウムフタロシアニンの中でも、ブラッグ角２θ±０．２°の７．４°、１６．６°、２５．５°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のクロロガリウムフタロシアニン結晶が好ましい。
オキシチタニウムフタロシアニンの中でも、ブラッグ角２θの２７．２°±０．２°に強いピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶が好ましい。
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリ塩化ビニリデン、アクリロニトリル共重合体、ポリビニルベンザールなどが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール、ポリビニルベンザールが好ましい。 電荷発生層における上記式（１）もしくは（２）で示される化合物の含有量は、電荷発生層の全質量に対して０．０５質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。また、電荷発生層における上記式（１）もしくは（２）で示される化合物の含有量は、電荷発生層に含有されるフタロシアニン顔料に対して０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．３質量％以上１０質量％以下であることがより好ましい。
電荷発生層におけるフタロシアニン顔料の含有量は、電荷発生層の全質量に対して３０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
電荷発生層は、上記式（１）もしくは（２）で示される化合物およびフタロシアニン顔料を結着樹脂および溶剤とともに分散処理して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
電荷発生層の膜厚は、０．０５μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上０．３μｍ以下であることがより好ましい。
電荷発生層上には、電荷輸送層が設けられる。
電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して２０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。
電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物が好ましい。
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリ塩化ビニリデン、アクリロニトリル共重合体などの樹脂が挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリアリレートが好ましい。
電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２５μｍ以下であることがより好ましい。
電荷輸送層上には、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）を保護することを目的として、保護層を設けてもよい。
保護層は、ポリビニルブチラール、ポリエステル、ポリカーボネート（ポリカーボネートＺや変性ポリカーボネートなど）、ナイロン、ポリイミド、ポリアリレート、ポリウレタン、スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−アクリル酸コポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマーなどの樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる保護層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。塗膜を硬化させる場合には、加熱、電子線、紫外線によって硬化させることができる。
また、保護層には、導電性粒子、紫外線吸収剤、潤滑性粒子を含有させてもよい。導電性粒子としては、例えば、酸化スズ粒子などの金属酸化物粒子が挙げられる。潤滑性粒子としては、例えば、フッ素原子含有樹脂粒子などが挙げられる。
保護層の膜厚は、０．０５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。
保護層の膜厚は、０．０５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。
各層用の塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法（ディッピング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法などが挙げられる。
図１は、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
円筒状（ドラム状）の電子写真感光体１は、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。
電子写真感光体１の表面は、回転過程において、帯電手段３により、正または負の所定電位に帯電される。次いで、電子写真感光体１の表面には、像露光手段（不図示）から像露光光４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成されていく。像露光光４は、例えば、スリット露光やレーザービーム走査露光などの像露光手段から出力される、目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して強度変調された光である。
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内に収容されたトナーで現像（正規現像または反転現像）され、電子写真感光体１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により、転写材７に転写されていく。このとき、転写手段６には、バイアス電源（不図示）からトナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧が印加される。また、転写材７が紙である場合、転写材７は給紙部（不図示）から取り出されて、電子写真感光体１と転写手段６との間に電子写真感光体１の回転と同期して給送される。
電子写真感光体１からトナー像が転写された転写材７は、電子写真感光体１の表面から分離されて、像定着手段８へ搬送されて、トナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物（プリント、コピー）として電子写真装置の外へプリントアウトされる。
転写材７にトナー像を転写した後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段９により、トナー（転写残トナー）などの付着物の除去を受けて清浄される。近年、クリーナレスシステムも開発され、転写残トナーを現像器などで除去、回収することもできる。
さらに、電子写真感光体１の表面は、前露光手段（不図示）からの前露光光１０により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光手段は必ずしも必要ではない。
本発明においては、上述の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段９などから選択される構成要素のうち、複数の構成要素を容器に納めて一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成することができる。例えば、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段９を電子写真感光体１とともに一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１２を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ１１とすることができる。
像露光光４は、電子写真装置が複写機である場合には、原稿からの反射光や透過光であってもよい。または、センサーで原稿を読み取り、信号化し、この信号にしたがって行われるレーザービームの走査、ＬＥＤアレイの駆動もしくは液晶シャッターアレイの駆動などにより放射される光であってもよい。
本発明の電子写真感光体１は、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、ＦＡＸ、液晶プリンターおよびレーザー製版などの電子写真応用分野にも幅広く適用することができる。
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例および比較例において、「部」は「質量部」を意味する。また、実施例および比較例の膜厚は、渦電流式膜厚計（Ｆｉｓｃｈｅｒｓｃｏｐｅ、フィッシャーインスツルメント社製）または単位面積当たりの質量から比重換算で求めた。
〔実施例１〕
支持体として、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いた。
次に、酸化亜鉛粒子（比表面積：２０ｍ２／ｇ、粉体抵抗：４．７×１０６Ω・ｃｍ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、これに例示化合物（Ｘ−７）（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．５０部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去し、１３０℃で６時間加熱乾燥させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。この表面処理された酸化亜鉛粒子における例示化合物（Ｘ−７）の含有量は０．５０質量％であった。したがって、酸化亜鉛粒子に対する例示化合物（Ｘ−７）の表面処理量（Ａ／Ｂ）は、Ａ／Ｂ＝０．５０／２０＝０．０２５である。
支持体として、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いた。
次に、酸化亜鉛粒子（比表面積：２０ｍ２／ｇ、粉体抵抗：４．７×１０６Ω・ｃｍ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、これに例示化合物（Ｘ−７）（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．５０部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去し、１３０℃で６時間加熱乾燥させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。この表面処理された酸化亜鉛粒子における例示化合物（Ｘ−７）の含有量は０．５０質量％であった。したがって、酸化亜鉛粒子に対する例示化合物（Ｘ−７）の表面処理量（Ａ／Ｂ）は、Ａ／Ｂ＝０．５０／２０＝０．０２５である。
次に、ポリオールとしてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部およびブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン（株）製）１５部をメチルエチルケトン７３．５部／１−ブタノール７３．５部の混合溶剤に溶解させた。この溶液に、上記表面処理された酸化亜鉛粒子８１部およびアリザリン（東京化成工業（株）製）０．８部を加え、これを、直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置を用い、２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニング（株）製）０．０１部、架橋性ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）粒子（平均一次粒径２．５μｍ、商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲＳＳＸ−１０２、積水化成品工業（株）製）を５．６部加えて攪拌し、下引き層用塗布液を調製した。下引き層用塗布液におけるＰＭＭＡ粒子の含有量は、下引き層用塗布液に含有される固形分に対して５質量％である。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を４０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２０μｍの下引き層を形成した。
形成された下引き層の表面粗さを下記条件で測定したところ、Ｒｚ＝１．１μｍ、ＲＳｍ＝０．０１６ｍｍであった。ＲｚおよびＲＳｍの測定は、（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器（商品名：ＳＥ−３４００）を用いて行った。ＲｚおよびＲＳｍの測定は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）の規定に従い、形成された下引き層の表面を、支持体の中央部を長手方向（軸方向）に掃引することで行った。
次に、ＣｕＫα線のＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）１０部、例示化合物（１）（製品コード：１５９４０００５０、アクロスオルガニクス（株）製）０．２部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部、および、シクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、１時間分散処理し、これに酢酸エチル２５０部を加えて希釈することによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を上記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
次に、下記構造式（Ｂ）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）５０部、下記構造式（Ｃ）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）５０部、
および、ポリカーボネート（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱ガス化学（株）製）１００部を、クロロベンゼン６５０部／ジメトキシメタン１５０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１１０℃で乾燥させることによって、膜厚が２１μｍの電荷輸送層を形成した。
次に、下記構造式（Ｄ）で示される化合物４５部
をｎ−プロパノール５５部に溶解させることによって、保護層用塗布液（第二電荷輸送層用塗布液）を調製した。
この保護層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を５分間５０℃で乾燥させた。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ｋＶ、吸収線量８０００Ｇｙの条件で１．６秒間、シリンダーを回転させながら電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜が１３０℃になる条件で３分間加熱処理を行った。なお、電子線の照射から３分間の加熱処理までの酸素濃度は２０ｐｐｍであった。次に、大気中において、塗膜が１００℃になる条件で３０分加熱処理を行い、膜厚が５μｍである保護層を形成した。
このようにして、支持体上に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層および保護層（第二電荷輸送層）を有する電子写真感光体を製造した。
〔電子写真感光体の評価〕
評価装置としては、キヤノン（株）製の電子写真複写機（商品名：ＧＰ４０５、プロセススピードは３００ｍｍ／ｓｅｃになるように改造、帯電手段は直流電圧に交流電圧を重畳した電圧をローラー型の接触帯電部材（帯電ローラー）に印加する方式）を用いた。この評価装置のプロセスカートリッジに、上述の電子写真感光体を装着して、以下の評価を行った。
評価装置としては、キヤノン（株）製の電子写真複写機（商品名：ＧＰ４０５、プロセススピードは３００ｍｍ／ｓｅｃになるように改造、帯電手段は直流電圧に交流電圧を重畳した電圧をローラー型の接触帯電部材（帯電ローラー）に印加する方式）を用いた。この評価装置のプロセスカートリッジに、上述の電子写真感光体を装着して、以下の評価を行った。
〔評価１：低温低湿環境における電位安定性〕
１５℃／１０％ＲＨの低温低湿環境下に上記評価装置を設置した。帯電条件としては、帯電ローラーに印加する交流成分をピーク間電圧１５００Ｖ、周波数１５００Ｈｚとし、直流成分を−８５０Ｖとした。また、像露光条件としては、レーザー露光光を照射した場合の繰り返し使用前の初期明部電位（Ｖｌａ）が、−２００Ｖになるように像露光条件を調整した。また、前露光条件としては、像露光光の３倍に相当する光量の前露光光が電子写真感光体の表面に照射されるよう調整した。
１５℃／１０％ＲＨの低温低湿環境下に上記評価装置を設置した。帯電条件としては、帯電ローラーに印加する交流成分をピーク間電圧１５００Ｖ、周波数１５００Ｈｚとし、直流成分を−８５０Ｖとした。また、像露光条件としては、レーザー露光光を照射した場合の繰り返し使用前の初期明部電位（Ｖｌａ）が、−２００Ｖになるように像露光条件を調整した。また、前露光条件としては、像露光光の３倍に相当する光量の前露光光が電子写真感光体の表面に照射されるよう調整した。
電子写真感光体の表面電位は、評価装置から現像器を抜き取り、そこに電位プローブ（商品名：ｍｏｄｅｌ６０００Ｂ−８、トレック社製）を固定し、表面電位計（ｍｏｄｅｌ３４４：トレック社製）を使用して測定した。電位測定装置は、現像器の現像位置に電位測定プローブを配置することで構成されており、電子写真感光体に対する電位測定プローブの位置は、電子写真感光体の長手方向（軸方向）の中央、電子写真感光体の表面からのギャップを２ｍｍとした。
上記の評価条件のもとで、前露光−帯電−像露光のサイクルを１０００回転連続で行い、１００回転後の明部表面電位（Ｖｌｂ）を測定し、繰り返し使用時の明部電位の変動量（ΔＶｌ＝｜Ｖｌｂ｜−｜Ｖｌａ｜）を算出した。結果を表２に示す。
〔評価２：高温常湿環境における暗減衰〕
３８℃／３０％ＲＨの高温常湿環境下に上記評価装置を設置した。それ以外の評価条件は評価１と同様とした。
３８℃／３０％ＲＨの高温常湿環境下に上記評価装置を設置した。それ以外の評価条件は評価１と同様とした。
上記の評価条件のもとで、前露光−帯電のサイクルを２回転連続で行い、電子写真感光体を停止させた。停止直前の暗部表面電位（Ｖｄａ）および停止してから１秒後の暗部表面電位（Ｖｄｂ）を測定し、暗部電位の減衰量（Ｖｄｄ＝｜Ｖｄａ｜−｜Ｖｄｂ｜）を算出した。結果を表２に示す。
〔評価３：常温高湿環境における電位安定性〕
３０℃／８５％ＲＨの常温高湿環境下に上記評価装置を設置した。それ以外の評価条件は評価１と同様とした。
３０℃／８５％ＲＨの常温高湿環境下に上記評価装置を設置した。それ以外の評価条件は評価１と同様とした。
製造した電子写真感光体を３０℃／８５％ＲＨの常温高湿環境下で７２時間放置した。電子写真感光体を装着したプロセスカートリッジを上記評価装置に取り付け、５００００枚の通紙による電子写真感光体の繰り返し使用を行った。５００００枚通紙後、５分間放置し、現像器を電位測定装置に付け替え、繰り返し使用（５００００枚通紙）後における明部電位（Ｖｌｂ）を測定した。そして、繰り返し使用時の明部電位の変動量（ΔＶｌ＝｜Ｖｌｂ｜−｜Ｖｌａ｜）を算出した。Ｖｌａは繰り返し使用前の明部電位である。結果を表２に示す。
〔比較例１〕
支持体として、実施例１と同様、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いた。
支持体として、実施例１と同様、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いた。
次に、１０質量％の酸化アンチモンを含有する酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子５０部、レゾール型フェノール樹脂２５部、メチルセロソルブ２０部、メタノール５部、および、シリコーンオイル（ポリジメチルシロキサン・ポリオキシアルキレン共重合体、平均分子量３０００）０．００２部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、２時間分散処理することによって、導電層用塗布液を調製した。
この導電層用塗布液を、上記支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１４０℃で乾燥および硬化させることによって、膜厚が２０μｍの導電層を形成した。
次に、６−６６−６１０−１２四元系ポリアミド共重合体５部をメタノール７０部／ブタノール２５部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を上記導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
以降、実施例１と同様にして電荷発生層、電荷輸送層および保護層（第二電荷輸送層）を形成し、電子写真感光体を製造した。
製造した電子写真感光体を、実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。
製造した電子写真感光体を、実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。
〔比較例２〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を使用しなかった以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を使用しなかった以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例３〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例４〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２）（製品コード：Ｂ１２７５、東京化成工業（株）製）０．３部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２）（製品コード：Ｂ１２７５、東京化成工業（株）製）０．３部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例５〕
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例６〕
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例７〕
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から０．０３部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２）の使用量を０．２部から０．０３部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例８〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３）（製品コード：Ｂ１２１２、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３）（製品コード：Ｂ１２１２、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例９〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４）（製品コード：Ｂ１４３３、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４）（製品コード：Ｂ１４３３、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１０〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（５）（製品コード：Ｄ２５６１、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（５）（製品コード：Ｄ２５６１、東京化成工業（株）製）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１１〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を上記合成例で得られた例示化合物（２４）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を上記合成例で得られた例示化合物（２４）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１２〕
実施例１において、下引き用塗布液を調製する際に使用した酸化亜鉛粒子を酸化チタン粒子（比表面積２１ｍ２／ｇ）に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、下引き用塗布液を調製する際に使用した酸化亜鉛粒子を酸化チタン粒子（比表面積２１ｍ２／ｇ）に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１３〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用したＣｕＫα線のＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１０部を、ブラッグ角２θ±０．２°の９．０°、１４．２°、２３．９°および２７．１°に強いピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶１０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用したＣｕＫα線のＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１０部を、ブラッグ角２θ±０．２°の９．０°、１４．２°、２３．９°および２７．１°に強いピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶１０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１４〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２５）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２５）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１５〕
実施例１４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２５）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例１４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２５）の使用量を０．２部から０．１部に変更した以外は、実施例１４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１６〕
実施例１４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２５）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１４において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２５）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１７〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２６）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２６）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１８〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２７）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（２７）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例１９〕
実施例１８において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２７）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１８と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１８において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２７）の使用量を０．２部から１．０部に変更した以外は、実施例１８と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２０〕
実施例１８において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２７）の使用量を０．２部から０．０３部に変更した以外は、実施例１８と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１８において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（２７）の使用量を０．２部から０．０３部に変更した以外は、実施例１８と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２１〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３４）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３４）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２２〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３７）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（３７）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２３〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４２）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４２）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２４〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４５）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（４５）０．２部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２５〕
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）０．５０部を例示化合物（Ｘ−１）（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）０．５０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）０．５０部を例示化合物（Ｘ−１）（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）０．５０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２６〕
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から０．２０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から０．２０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２７〕
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から１．００部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から１．００部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２８〕
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から０．１０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から０．１０部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例２９〕
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から２．００部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例４において、酸化亜鉛粒子の表面処理を行う際に使用した例示化合物（Ｘ−７）の使用量を０．５０部から２．００部に変更した以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔実施例３０〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（７１）２．０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を例示化合物（７１）２．０部に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例３〕
実施例１２において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を使用しなかった以外は、実施例１２と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
実施例１２において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を使用しなかった以外は、実施例１２と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例４〕
実施例１３において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｅ）で示されるビスアゾ顔料３部
実施例１３において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｅ）で示されるビスアゾ顔料３部
に変更した以外は、実施例１２と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例５〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｆ）で示される化合物（化合物名：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、製品コード：１２６２１７、シグマアルドリッチ社製）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｆ）で示される化合物（化合物名：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、製品コード：１２６２１７、シグマアルドリッチ社製）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例６〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｇ）で示される化合物（化合物名：４，４’−ジアミノベンゾフェノン、製品コード：３７８２５９、シグマアルドリッチ社製）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｇ）で示される化合物（化合物名：４，４’−ジアミノベンゾフェノン、製品コード：３７８２５９、シグマアルドリッチ社製）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例７〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｈ）で示される化合物（化合物名：３，３’−ジニトロベンゾフェノン、製品コード：Ｄ１６８８、東京化成工業（株）製）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｈ）で示される化合物（化合物名：３，３’−ジニトロベンゾフェノン、製品コード：Ｄ１６８８、東京化成工業（株）製）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
（Ｈ）
〔比較例８〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｉ）で示される化合物（化合物名：ビス［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メタン、製品コード：Ｂ０４８３、東京化成工業（株）製）０．２部
〔比較例８〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｉ）で示される化合物（化合物名：ビス［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メタン、製品コード：Ｂ０４８３、東京化成工業（株）製）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例９〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｊ）で示される化合物（化合物名：ベンゾフェノン、製品コード：Ｂ００８３、東京化成工業（株）製）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｊ）で示される化合物（化合物名：ベンゾフェノン、製品コード：Ｂ００８３、東京化成工業（株）製）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例１０〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｋ）で示される化合物（化合物名：１，４−ビス（ジメチルアミノ）５，８−ジヒドロキシアントラセン−９，１０ジオン）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｋ）で示される化合物（化合物名：１，４−ビス（ジメチルアミノ）５，８−ジヒドロキシアントラセン−９，１０ジオン）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
〔比較例１１〕
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｌ）で示される化合物（化合物名：プルプリン）０．２部
実施例１において、電荷発生層用塗布液を調製する際に使用した例示化合物（１）０．２部を下記式（Ｌ）で示される化合物（化合物名：プルプリン）０．２部
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、評価した。結果を表２に示す。
以上の電子写真感光体を評価した結果を表２に記す。表２中に記載した評価ランクの基準を以下に示す。いずれも、ランクの数字が大きいほど良好である。
〔評価１：低温低湿環境における電位安定性〕
０Ｖ≦ΔＶＬ＜１０Ｖ：ランク５
１０Ｖ≦ΔＶＬ＜３０Ｖ：ランク４
３０Ｖ≦ΔＶＬ＜５０Ｖ：ランク３
５０Ｖ≦ΔＶＬ＜１００Ｖ：ランク２
１００Ｖ≦ΔＶＬ：ランク１
０Ｖ≦ΔＶＬ＜１０Ｖ：ランク５
１０Ｖ≦ΔＶＬ＜３０Ｖ：ランク４
３０Ｖ≦ΔＶＬ＜５０Ｖ：ランク３
５０Ｖ≦ΔＶＬ＜１００Ｖ：ランク２
１００Ｖ≦ΔＶＬ：ランク１
〔評価２：高温常湿環境における暗減衰〕
０Ｖ≦Ｖｄｄ＜６０Ｖ：ランク６
６０Ｖ≦Ｖｄｄ＜８０Ｖ：ランク５
８０Ｖ≦Ｖｄｄ＜１００Ｖ：ランク４
１００Ｖ≦Ｖｄｄ＜１２０Ｖ：ランク３
１２０Ｖ≦Ｖｄｄ＜１５０Ｖ：ランク２
１５０Ｖ≦Ｖｄｄ：ランク１
０Ｖ≦Ｖｄｄ＜６０Ｖ：ランク６
６０Ｖ≦Ｖｄｄ＜８０Ｖ：ランク５
８０Ｖ≦Ｖｄｄ＜１００Ｖ：ランク４
１００Ｖ≦Ｖｄｄ＜１２０Ｖ：ランク３
１２０Ｖ≦Ｖｄｄ＜１５０Ｖ：ランク２
１５０Ｖ≦Ｖｄｄ：ランク１
〔評価３：常温高湿環境における電位安定性〕
０Ｖ≦ΔＶＬ＜１０Ｖ：ランク５
１０Ｖ≦ΔＶＬ＜３０Ｖ：ランク４
３０Ｖ≦ΔＶＬ＜５０Ｖ：ランク３
５０Ｖ≦ΔＶＬ＜１００Ｖ：ランク２
１００Ｖ≦ΔＶＬ：ランク１
０Ｖ≦ΔＶＬ＜１０Ｖ：ランク５
１０Ｖ≦ΔＶＬ＜３０Ｖ：ランク４
３０Ｖ≦ΔＶＬ＜５０Ｖ：ランク３
５０Ｖ≦ΔＶＬ＜１００Ｖ：ランク２
１００Ｖ≦ΔＶＬ：ランク１
表２中、※１の「Ａ／Ｂ」は、金属酸化物粒子の表面処理に用いられるシランカップリング剤（例示化合物）の量を意味し、金属酸化物粒子の全質量に対する割合をＡ［％］とし、金属酸化物粒子の比表面積をＢ［ｍ２／ｇ］としたときのＡ／Ｂの値である。※２のフタロシアニン顔料の「ＨＯＧａＰＣ」は、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを意味し、「ＴｉＯＰＣ」は、オキシチタニウムフタロシアニンを意味する。※３の「量」は、フタロシアニン顔料の使用量に対する量［質量％］を意味する。
１ 電子写真感光体
２ 軸
３ 帯電手段
４ 像露光光
５ 現像手段
６ 転写手段
７ 転写材
８ 像定着手段
９ クリーニング手段
１０ 前露光光
１１ プロセスカートリッジ
１２ 案内手段
１０１ 支持体
１０２ 下引き層
１０３ 電荷発生層
１０４ 電荷輸送層
２ 軸
３ 帯電手段
４ 像露光光
５ 現像手段
６ 転写手段
７ 転写材
８ 像定着手段
９ クリーニング手段
１０ 前露光光
１１ プロセスカートリッジ
１２ 案内手段
１０１ 支持体
１０２ 下引き層
１０３ 電荷発生層
１０４ 電荷輸送層
Claims (7)
- 支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する電子写真感光体において、
該下引き層が、結着樹脂、および、金属酸化物粒子を含有し、
該電荷発生層が、結着樹脂、フタロシアニン顔料、および、下記式（１）もしくは（２）で示される化合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
（式（１）および（２）中、Ｒ １ 〜Ｒ １０ およびＲ １１ 〜Ｒ １８ は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアミノ基、または、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。ただし、Ｒ１〜Ｒ１０の少なくとも１つ、およびＲ１１〜Ｒ１８の少なくとも１つが、置換もしくは無置換の環状アミノ基を示す。Ｘ １ は、カルボニル基、または、ジカルボニル基を示す。） - 前記置換もしくは無置換の環状アミノ基が、モルホリノ基、または、ピペリジノ基である請求項１に記載の電子写真感光体。
- 支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する電子写真感光体において、
該下引き層が、結着樹脂、および、金属酸化物粒子を含有し、
該電荷発生層が、結着樹脂、フタロシアニン顔料、および、下記式（３）もしくは（４）で示される化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
（式（３）および（４）中、Ｒ２１、Ｒ２３およびＲ２５は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示す。Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示す。あるいは、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２３とＲ２４は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよく、Ｒ２５とＲ２６は互いに結合して置換もしくは無置換の環状アミノ基を形成してもよい。） - 前記Ｒ２１〜Ｒ２６が、アルコキシ基で置換されたアルキル基、アリール基で置換されたアルキル基、または、無置換のアルキル基である請求項３に記載の電子写真感光体。
- 前記Ｒ２１〜Ｒ２６が、メチル基、または、エチル基である請求項３または４に記載の電子写真感光体。
- 請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、該電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成するための現像手段、および、該トナー像が転写材に転写された後に該電子写真感光体の表面のトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、帯電された該電子写真感光体の表面に像露光光を照射して静電潜像を形成するための像露光手段、該電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成するための現像手段、および、該電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を転写材に転写するための転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011262130A JP5906069B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011262130A JP5906069B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013114178A JP2013114178A (ja) | 2013-06-10 |
| JP2013114178A5 JP2013114178A5 (ja) | 2015-01-15 |
| JP5906069B2 true JP5906069B2 (ja) | 2016-04-20 |
Family
ID=48709736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011262130A Active JP5906069B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5906069B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5993720B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-09-14 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP5857804B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2016-02-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
| JP6188535B2 (ja) * | 2012-11-20 | 2017-08-30 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP6095425B2 (ja) | 2013-03-13 | 2017-03-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP6201850B2 (ja) * | 2014-03-24 | 2017-09-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP7060921B2 (ja) * | 2017-04-18 | 2022-04-27 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5858551A (ja) * | 1981-10-01 | 1983-04-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPS5930541A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 電子写真用感光体及びその製造方法 |
| JPH0297956A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及び画像形成方法 |
| JPH05224439A (ja) * | 1992-02-12 | 1993-09-03 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPH07160016A (ja) * | 1993-12-07 | 1995-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 積層型電子写真感光体と電荷発生層用塗料 |
| JP3622162B2 (ja) * | 1995-06-23 | 2005-02-23 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 電子写真感光体 |
| JP3603573B2 (ja) * | 1997-11-27 | 2004-12-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法 |
| JP4456954B2 (ja) * | 2004-07-16 | 2010-04-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP4581781B2 (ja) * | 2004-08-06 | 2010-11-17 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法、プロセスカートリッジ並びに電子写真装置 |
| US20090162767A1 (en) * | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Xerox Corporation | Benzophenone containing photoconductors |
| JP5734093B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-06-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP5932607B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
-
2011
- 2011-11-30 JP JP2011262130A patent/JP5906069B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013114178A (ja) | 2013-06-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141125 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141125 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160318 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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