JP6188535B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents
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Description
しかしながら、このような下引き層は、上記のメリットを有する反面、電荷が蓄積されやすいというデメリットも併せ持つ。このため、下引き層を設けた電子写真感光体には、ゴーストと呼ばれる現象が発生しやすいという問題があった。具体的には、出力画像中、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が濃くなるポジゴーストや、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が薄くなるネガゴーストが見られる。
ところが、フタロシアニン顔料やアゾ顔料を用いた電子写真感光体は、フォトキャリア(正孔および電子)の発生量が多いため、正孔輸送物質によって移動した正孔の対としての電子が感光層(電荷発生層)中に滞留しやすい。このため、フタロシアニン顔料やアゾ顔料を用いた電子写真感光体にも、ゴーストが発生しやすいという問題があった。
該下引き層が、
下記式(1)で示されるアミン化合物、
平均一次粒径3nm以上15nm以下の酸化チタン結晶粒子、および
有機樹脂
を含有することを特徴とする電子写真感光体である。
3径フラスコに、N,N−ジメチルアセトアミド50部、4,4’−ジアミノベンゾフェノン5.0部、ヨードトルエン25.7部、銅粉9.0部、および、炭酸カリウム9.8部を入れ、20時間リフラックスさせた後、熱時濾過で固形成分を除去した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム(溶媒はトルエン)にて精製し、例示化合物(27)を8.1部得た。
IR(cm−1,KBr):1646,1594,1508,1318,1277,1174
1H−NMR(ppm,CDCl3,40℃):δ=7.63(d,4H),7.11(d,8H),7.04(d,8H),6.93(d,4H),2.33(s、12H)
商品名:STS−100(石原産業(株)製、平均一次粒子径5nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を20質量%含有する硝酸酸性ゾル)
商品名:TKS−201(テイカ(株)製、平均一次粒子径6nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を33質量%含有する塩酸酸性ゾル)
商品名:TKS−202(テイカ(株)製、平均一次粒子径6nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を33質量%含有する硝酸酸性ゾル)
商品名:STS−01(石原産業(株)製、平均一次粒子径7nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を30質量%含有する硝酸酸性ゾル)
商品名:STS−02(石原産業(株)製、平均一次粒子径7nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を30質量%含有する塩酸酸性ゾル)
商品名:MT−05(テイカ(株)製、平均一次粒子径10nmのルチル型酸化チタン結晶粒子)
商品名:TKP−102(テイカ(株)製、平均一次粒子径15nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子(酸化チタン含有量:96質量%))
商品名:MT−150A(テイカ(株)製、平均一次粒子径15nmのルチル型酸化チタン結晶粒子)
酸化チタン結晶粒子の平均一次粒子径(平均結晶子径)[nm]=K・λ/(βcosθ)(上記Scherrerの式中、Kは定数(0.9)、λ(nm)は測定X線波長(CuKα線:0.154nm)、βは半価幅、θはX線入射角を示す。)
ルチル型酸性チタニアゾルの製造
特開2007−246351号公報の実施例1の「第1部 ルチル形酸化チタンヒドロゾルの製造」の記載に沿って処理し、ケーキを得た。このケーキに水と36%塩酸を加えて攪拌した。その結果、pHが1.6であり、酸化チタン結晶粒子の含有量が15質量%である、ジルコニウム原子およびスズ原子を含む酸性チタニアゾル(塩酸酸性ゾル)が得られた。なお、チタン原子に対するスズ原子のモル比(Sn/Ti)が0.053であり、チタン原子に対するジルコニウム原子のモル比(Zr/Ti)が0.019である。この酸性チタニアゾルを100℃で乾燥させて得られた酸化チタン結晶粒子のX線回折による結晶形はルチル型であり、平均一次粒子径(平均結晶子径)は8nmであった。すなわち、製造例1で得られたジルコニウム原子およびスズ原子を含む酸性チタニアゾルは、その中には、平均一次粒子径8nmのジルコニウム原子およびスズ原子を含むルチル型酸化チタン結晶粒子が15質量%含まれている。
ルチル型酸性チタニアゾルの製造
ガラスビーカーに、酸化ケイ素の濃度10%のケイ酸ナトリウム水溶液40g(うち、酸化ケイ素4g)と48%水酸化ナトリウム水溶液2gを仕込み、イオン交換水で希釈して全量を1200gとした。この液に、製造例1で得られたジルコニウム原子およびスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾル267g(うち、酸化チタン40g)をイオン交換水で希釈して全量を1000gにした液を、撹拌しながらゆっくり滴下した。次に、80℃に加熱した後、塩酸水溶液でpH8に調整し、同温度で2時間熟成した。これを室温まで冷却した後、クエン酸水溶液を加えてpH3に調整した。この液を限外濾過モジュールに濾過量と同量のイオン交換水を補水しながら一夜限外濾過にかけ、電解質成分を低減させた。その後、濃縮させた。その結果、pHが5.6であり、シリカで表面被覆された酸化チタン結晶粒子の含有量が15質量%である、ジルコニウム原子およびスズ原子を含む酸性チタニアゾルが得られた。この酸性チタニアゾルを100℃で乾燥させて得られた酸化チタン結晶粒子のX線回折による結晶形はルチル型であり、平均一次粒子径(平均結晶子径)は8nmであった。また、乾燥固形分は20質量%であった。すなわち、製造例2で得られたジルコニウム原子およびスズ原子を含む酸性チタニアゾルは、その中には、シリカで表面被覆された平均一次粒子径8nmのジルコニウム原子およびスズ原子を含むルチル型酸化チタン結晶粒子が15質量%含まれている。
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
実施例1において、電荷発生層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の電子写真感光体を製造した。
CuKα線の特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.3°、24.9°および28.1°に強いピークを有し、かつ28.1°に最も強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部を用意した。この電荷発生物質、上記式(2)で示される化合物0.2部、例示化合物(2)(製品コード:B1275、東京化成工業(株)製)0.01部、ポリビニルブチラール(BX−1)10部、および、シクロヘキサノン553部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル815部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
実施例2において、電荷発生層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)0.01部を例示化合物(1)0.2部に変更した以外は、実施例2と同様にして、実施例3の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)の使用量を0.03部から0.003部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)の使用量を0.03部から0.15部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)の使用量を0.03部から0.45部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例6の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)の使用量を0.03部から1.5部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例7の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)の使用量を0.03部から3部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例8の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた製造例1で得られたスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾルの使用量を56部から19部に変更した。さらに、例示化合物(2)0.03部を例示化合物(1)(製品コード:159400050、アクロス オルガニクス(株)製)0.3部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例9の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して10質量%であった。
実施例9において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた製造例1で得られたスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾルの使用量を56部から167部に変更した以外は、実施例9と同様にして、実施例10の電子写真感光体を製造した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して50質量%であった。
実施例9において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた製造例1で得られたスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾルの使用量を56部から250部に変更した以外は、実施例9と同様にして、実施例11の電子写真感光体を製造した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して60質量%であった。
実施例1において、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例12の電子写真感光体を製造した。
N−メトキシメチル化ナイロン6(商品名:トレジンEF−30T、ナガセケムテックス(株)製)25部をn−ブタノール225部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(商品名:FP−022、孔径:0.22μm、住友電気工業(株)製)で濾過した。次いで、濾液に平均一次粒子径5nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を含有する酸性チタニアゾル(酸性ゾル)(商品名:STS−100、硝酸酸性ゾル、酸化チタン含有量:20質量%、石原産業(株)製。)22部を加え、平均直径0.8mmのガラスビーズ500部を用いたサンドミル装置に入れ、1500rpmで2時間分散処理した。
分散処理後、ガラスビーズをメッシュ濾過により分離した。そして、分離液を、メタノールとn−ブタノールを用いて固形分が3.0%、溶剤比がメタノール:n−ブタノール=2:1になるように希釈した。この希釈液500部に、例示化合物(2)(製品コード:B1275、東京化成工業(株)製)0.03部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
実施例12において、酸性チタニアゾル(商品名:STS−100)22部を平均一次粒子径6nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を含有する酸性チタニアゾル(酸性ゾル)(商品名:TKS−201、塩酸酸性ゾル、酸化チタン含有量:33質量%、テイカ(株)製)13部に変更した以外は、実施例12と同様にして、実施例13の電子写真感光体を製造した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
実施例12において、酸性チタニアゾル(商品名:STS−100)22部を平均一次粒子径7nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を含有する酸性チタニアゾル(酸性ゾル)(商品名:STS−01、硝酸酸性ゾル、酸化チタン含有量:30質量%、石原産業(株)製)15部に変更した以外は、実施例12と同様にして、実施例14の電子写真感光体を製造した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
実施例12において、下引き層用塗布液に用いた例示化合物(2)0.03部を例示化合物(3)(製品コード:B1212、東京化成工業(株)製)0.3部に変更した以外は、実施例12と同様にして、実施例15の電子写真感光体を製造した。
実施例12において、酸性チタニアゾル(商品名:STS−100)22部を平均一次粒子径6nmのアナタース型酸化チタン結晶粒子を含有する酸性チタニアゾル(酸性ゾル)(商品名:TKS−202、硝酸酸性ゾル、酸化チタン含有量:33質量%、テイカ(株)製)13部に変更し、例示化合物(2)0.03部を例示化合物(9)0.3部に変更した。さらに、電荷発生層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例12と同様にして、実施例16の電子写真感光体を製造した。
CuKα線の特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.3°、24.9°および28.1°に強いピークを有し、かつ28.1°に最も強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部を用意した。上記電荷発生物質、上記式(2)で示される化合物0.2部、例示化合物(2)0.01部、ポリビニルブチラール(BX−1)10部、および、シクロヘキサノン553部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル815部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
実施例12において、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例12と同様にして、実施例17の電子写真感光体を製造した。
N−メトキシメチル化ナイロン6(トレジンEF−30T)25部をn−ブタノール225部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(FP−022)で濾過した。次いで、濾液に、平均一次粒子径15nmの表面未処理のルチル型酸化チタン結晶粒子(商品名:TKP−102、酸化チタン含有量:96質量%、テイカ(株)製)2.9部を加え、平均直径0.8mmのガラスビーズ500部を用いたサンドミル装置に入れ、1500rpmで7時間分散処理した。分散処理後、ガラスビーズをメッシュ濾過により分離した。そして、分離液を、メタノールとn−ブタノールを用いて固形分が3.0%、溶剤比がメタノール:n−ブタノール=2:1になるように希釈した。この希釈液500部に、例示化合物(14)0.3部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して10質量%であった。
実施例17において、酸化チタン結晶粒子(商品名:TKP−102)2.9部をアルミナおよびシリカで表面被覆された平均一次粒子径10nmのルチル型酸化チタン結晶粒子(商品名:MT−05、テイカ(株)製)25部に変更した。さらに、例示化合物(14)を例示化合物(12)に変更した以外は、実施例17と同様にして、実施例18の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して50質量%であった。
実施例17において、酸化チタン結晶粒子(商品名:TKP−102)2.9部を平均一次粒子径15nmの表面未処理のルチル型酸化チタン結晶粒子(商品名:MT−150A、テイカ(株)製)2.8部に変更した。さらに、例示化合物(14)を例示化合物(18)に変更した以外は、実施例17と同様にして、実施例19の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して10質量%であった。
実施例1において、製造例1で得られたスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾルを製造例2で得られたスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾルに変更した。さらに、例示化合物(2)0.03部を例示化合物(26)0.3部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例20の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して25質量%であった。
実施例1において、電荷発生層の形成を以下のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例21の電子写真感光体を製造した。
CuKα線の特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の9.0°、14.2°、23.9°および27.1°に強いピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部を用意した。この電荷発生物質、ポリビニルブチラール(BX−1)10部、および、シクロヘキサノン519部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル764部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に例示化合物(2)を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして、比較例1の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、例示化合物(2)0.03部を下記式(6)で示されるベンゾフェノン化合物(製品コード:378259、シグマアルドリッチ社製)0.3部に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、例示化合物(2)0.03部を下記式(7)で示される化合物(製品コード:B0483、東京化成工業(株)製)0.3部に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例4の電子写真感光体を製造した。
実施例2において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)を下記式(8)で示されるアントラキノン化合物に変更した。さらに、電荷発生層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)0.01部を下記式(8)で示されるアントラキノン化合物0.2部に変更した以外は、実施例2と同様にして、比較例5の電子写真感光体を製造した。
実施例12において、例示化合物(2)0.03部を下記式(9)で示されるベンゾフェノン化合物(製品コード:126217、シグマアルドリッチ社製)0.3部に変更した以外は、実施例12と同様にして、比較例6の電子写真感光体を製造した。
実施例13において、例示化合物(2)を下記式(11)で示されるベンゾフェノン化合物(製品コード:D1688、東京化成工業(株)製)に変更した以外は、実施例13と同様にして、比較例8の電子写真感光体を製造した。
実施例14において、例示化合物(2)を下記式(12)で示されるベンゾフェノン(製品コード:B0083、東京化成工業(株)製)に変更した以外は、実施例14と同様にして、比較例9の電子写真感光体を製造した。
実施例1において、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例11の電子写真感光体を製造した。
N−メトキシメチル化ナイロン6(トレジンEF−30T)25部をn−ブタノール225部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(FP−022)で濾過した。次いで、濾液に、平均一次粒子径30nmの表面未処理のアナタース型酸化チタン結晶粒子(商品名:AMT−600、酸化チタン含有量:98質量%、テイカ(株)製)4.5部を加え、平均直径0.8mmのガラスビーズ500部を用いたサンドミル装置に入れ、1500rpmで7時間分散処理した。分散処理後、ガラスビーズをメッシュ濾過により分離した。そして、分離液を、メタノールとn−ブタノールを用いて固形分が3.0%、溶剤比がメタノール:n−ブタノール=2:1になるように希釈した。この希釈液500部に、例示化合物(2)0.03部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
比較例11において、酸化チタン結晶粒子(商品名:AMT−600)を平均一次粒子径35nmの表面未処理のルチル型酸化チタン結晶粒子(商品名:MT−500B、酸化チタン含有量:98質量%、テイカ(株)製)に変更した。それ以外は、比較例11と同様にして、比較例12の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
比較例11において、酸化チタン結晶粒子(商品名:AMT−600)を平均一次粒子径50nmの表面未処理のルチル型酸化チタン結晶粒子(商品名:MT−600B、テイカ(株)製)に変更した。それ以外は、比較例11と同様にして、比較例13の電子写真感光体を製造した。
下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して15質量%であった。
比較例11において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(2)0.03部を例示化合物(1)0.3部に変更した以外は、比較例11と同様にして、比較例14の電子写真感光体を製造した。
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に例示化合物(2)を使用しなかった以外は、実施例21と同様にして、比較例15の電子写真感光体を製造した。
実施例1〜21および比較例1〜15の電子写真感光体について、23℃/50%RHの常温常湿環境下および15℃/10%RHの低温低湿環境下でゴーストの評価を行った。
評価の基準は、以下のとおりである。
ゴースト評価用画像は、図3に示すように、画像の先頭部にベタ黒301で四角の画像を出した後、1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像304を出力することによって形成した。図3において、符号302は白部分(白画像)であり、符号303はゴーストが観測される部分を表す。まず、1枚目にベタ白画像を出力し、その後、ゴースト評価用画像を連続して5枚出力し、次に、ベタ黒画像を1枚出力した後、再度、ゴースト評価用画像を5枚出力する、という順番で画像出力を行い、合計10枚のゴースト評価用画像で評価した。
ゴーストの評価は、1ドット桂馬パターン画像濃度とゴースト部(ゴーストが生じうる部分)の画像濃度との濃度差を、分光濃度計(商品名:X−Rite504/508、X−Rite(株)製)で測定することで行った。1枚のゴースト評価用画像で10点測定し、それら10点の平均をとって1枚の結果とした。そして、10枚のゴースト評価用画像すべてを同様に測定した後、それらの平均値を求め、各例の濃度差とした。この濃度差は、値が小さいほど、ゴーストの程度が小さく、良好であることを意味する。表1中、「初期」とは、常温常湿環境下または低温低湿環境下での1,000枚の通紙耐久試験を行う前における濃度差を意味し、「耐久後」とは、常温常湿環境下または低温低湿環境下での1,000枚の通紙耐久試験を行った後における濃度差を意味する。
102 下引き層
103 電荷発生層
104 正孔輸送層
105 感光層
Claims (15)
- 支持体と、下引き層と、電荷発生物質および正孔輸送物質を含有する感光層と、をこの順に有する電子写真感光体において、
該下引き層が、
下記式(1)で示されるアミン化合物、
平均一次粒径が3nm以上15nm以下の酸化チタン結晶粒子、および
有機樹脂
を含有することを特徴とする電子写真感光体。
- 前記下引き層における前記式(1)で示されるアミン化合物の含有量が、前記下引き層の全質量に対して0.05質量%以上15質量%以下である請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記下引き層における前記酸化チタン結晶粒子の含有量が、前記下引き層の全質量に対して15質量%以上55質量%以下である、請求項1または2に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、前記R1〜R10の少なくとも1つが、置換もしくは無置換のアルキル基で置換されたアミノ基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、前記R 1 〜R 10 の少なくとも1つが、ジアルキルアミノ基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、前記R 1 〜R 10 の少なくとも1つが、ジメチルアミノ基、または、ジエチルアミノ基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、前記R1〜R10の少なくとも1つが、置換もしくは無置換の環状アミノ基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、前記R 1 〜R 10 の少なくとも1つが、モルホリノ基、または、1−ピペリジル基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記式(1)において、X 1 が、カルボニル基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記感光層が、電荷発生物質として、CuKα線のX線回折におけるブラッグ角2θの7.4°±0.3°および28.2°±0.3°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記感光層が、前記電荷発生物質を含有する電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された前記正孔輸送物質を含有する正孔輸送層を有する請求項1〜10のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記電荷発生層が、前記電荷発生物質および前記式(1)で示されるアミン化合物を含有する請求項11に記載の電子写真感光体。
- 前記下引き層が含有する前記式(1)で示されるアミン化合物と、前記電荷発生層が含有する前記式(1)で示されるアミン化合物が、同一の構造のアミン化合物である請求項12に記載の電子写真感光体。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、像露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
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