KR100372377B1

KR100372377B1 - 산화 염기로서의 피라졸로[1,5-ａ]피리미딘 및 양이온성직접 염료를 함유하는 염료 조성물, 및 염색 방법

Info

Publication number: KR100372377B1
Application number: KR10-1999-0048337A
Authority: KR
Inventors: 오두쎄마리-빠스깔
Original assignee: 로레알
Priority date: 1998-11-04
Filing date: 1999-11-03
Publication date: 2003-02-17
Also published as: FR2785183B1; HUP9904016A2; MX9910062A; PL336379A1; HU9904016D0; RU2185811C2; CN1203837C; CN1252988A; FR2785183A1; BR9907313A; AU5600699A; HUP9904016A3; JP2000178147A; AR019494A1; EP0998908A2; EP0998908A3; AU730455B2; KR20000035201A; CA2288253A1; CZ373299A3

Abstract

본 발명은 산화 염기로서의 하나 이상의 피라졸로[1,5-a]피리미딘 및 하나 이상의 양이온성 직접 염료를 함유하는, 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물뿐만 아니라, 이 조성물을 사용하는 산화 염색 방법에 관한 것이다.

Description

산화 염기로서의 피라졸로[1,5-ａ]피리미딘 및 양이온성 직접 염료를 함유하는 염료 조성물, 및 염색 방법{DYE COMPOSITION CONTAINING A CATIONIC DIRECT DYE AND A PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE AS OXIDATION BASE, AND DYEING PROCESS}

케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을, 산화 염료 전구체, 특히 일반적으로 산화 염기로 일컬어지는 오르토- 또는 파라-페닐렌디아민, 오르토- 또는 파라-아미노페놀, 비스(페닐)알킬렌디아민 또는 헤테로시클릭 화합물을 함유하는 염료 조성물로 염색하는 것은 공지되어 있다. 산화 염료 전구체, 또는 산화 염기는 무색 또는 옅은 색의 화합물로, 산화물과 결합되면 산화성 축합반응에 의해 착색 화합물 및 염료를 야기할 수 있다.

또한 이 산화 염기들로 수득되는 색조(shade)들이 이들을 커플링제 또는 착색 변형제와 함께 조합시킴으로써 변할 수 있음도 공지되어 있는데, 착색 변형제는 특히 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 특정한 헤테로시클릭화합물로부터 선택된다.

산화 염기 및 커플링제에 관해 사용되는 분자의 다양성으로 넓은 범위의 색이 수득될 수 있다.

이 산화 염료들에 의해 수득된 소위 '영구적인' 착색은 또한 몇몇 요구 사항들을 만족해야 한다. 즉, 이것은 독성학적 단점이 없어야 하고, 원하는 강도의 색조를 제공할 수 있어야 하며, 외부 작인(빛, 나쁜 기후, 세정, 퍼머넌트 웨이브, 발한 및 마찰)을 견딜 수 있어야 한다.

또한 염료는 흰머리를 커버할 수 있어야 하고, 최근에는 가능한 한 비선택적이어야, 즉 실제로 끝부분과 뿌리부분 사이에서 다르게 과민화되어(즉, 손상되어) 있을 수 있는 동일한 길이의 케라틴 섬유를 따라 최소의 착색 차이를 나타내어야 한다.

특히 특허 출원 FR-A-2,750,048에서, 산화 염기로서의 피라졸로[1,5-a]피리미딘을 단독으로 또는 하나 이상의 커플링제와 조합해서 사용하는 것이 이미 제안되었다. 그러나, 수득된 착색은 항상 충분히 진하거나, 염색성이거나, 모발이 겪을 수 있는 다양한 공격 요소에 내성을 갖지는 않았다.

본 출원인은, 이제 완전히 놀랍고도 뜻밖으로, 산화 염기로서의 하나 이상의 피라졸로[1,5-a]피리미딘 및 하기에 정의된 하나 이상의 양이온성 직접 염료의 조합이, 모발이 겪을 수 있는 다양한 공격 요소(샴푸, 빛, 나쁜 기후, 퍼머넌트 웨이브, 발한, 마찰 등)에 대해 개선된 내성을 갖고 또한 강한 착색을 수득하는 것을가능하게 한다는 것을 발견하였다.

이 발견은 본 발명의 기초를 형성한다.

따라서, 본 발명의 첫번째 주제는 염색에 적합한 매질 내에 하기의 것들을 함유하는 것을 특징으로 하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물이며;

- 산화 염기로서 하나 이상의 피라졸로[1,5-a]피리미딘; 및

- 하나 이상의 양이온성 직접 염료;

이 조성물에는 피라졸로[1,5-a]피리미딘(들)의 산화를 일으킬 수 있는 어떠한 효소성 계도 없다.

상기에서 나타낸 대로, 본 발명에 따른 조성물은, 다양한 외부 작인(빛, 나쁜 기후, 퍼머넌트 웨이브, 발한 및 마찰)에 대해 우수한 내성을 갖고 또한 강한 착색을 수득하게 한다.

또한 본 발명의 주제는 이 염료 조성물을 사용하여 케라틴 섬유를 산화 염색하는 방법이다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 산화 염기로서 사용될 수 있는 피라졸로[1,5-a]피리미딘은 바람직하게는 하기 화학식 5의 화합물, 및 그것들의 산 또는 염기와의 부가염으로부터 선택된다;

[식 중,

- R₃₃, R₃₄, R₃₅및 R₃₆은 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, 아릴 라디칼, C₁- C₄히드록시알킬 라디칼, C₂- C₄폴리히드록시알킬 라디칼, (C₁- C₄)알콕시(C₁- C₄)알킬 라디칼, C₁- C₄아미노알킬 라디칼(아민이 아세틸, 우레이도 또는 술포닐 라디칼로 보호될 수 있음), (C₁- C₄)알킬아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 디[(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼(디알킬이 5- 또는 6-원 지방족 또는 헤테로시클릭 환을 형성할 수 있음), 히드록시(C₁- C₄)알킬- 또는 디[히드록시-(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼을 나타내고;

- 라디칼 R들은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, 아릴 라디칼, C₁- C₄히드록시알킬 라디칼, C₂- C₄폴리히드록시알킬 라디칼, C₁- C₄아미노알킬 라디칼, (C₁- C₄)알킬아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 디[(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼(디알킬이 5- 또는 6-원 지방족 또는 헤테로시클릭 환을 형성할 수 있음), 히드록시(C₁- C₄)알킬- 또는 디[히드록시(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 아미노 라디칼, (C₁- C₄)알킬- 또는 디[(C₁- C₄)알킬]아미노 라디칼; 할로겐 원자, 카르복실산 기 또는 술폰산 기를 나타내고;

- i는 0, 1, 2 또는 3 이고;

- p는 0 또는 1 이고;

- q는 0 또는 1 이고;

- n는 0 또는 1 이며;

단,

- (ⅰ) 합 p + q 는 0이 아니고;

- (ⅱ) p + q가 2이면, n은 0이고 NR₃₃R₃₄및 NR₃₅R₃₆기는 (2,3); (5,6); (6,7); (3,5) 또는 (3,7) 위치를 차지하며;

- (ⅲ)p + q가 1이면, n은 1이고 NR₃₃R₃₄(또는 NR₃₅R₃₆) 기 및 OH 기는 (2,3); (5,6); (6,7); (3,5) 또는 (3,7) 위치를 차지한다].

상기 화학식 5의 피라미졸로[1,5-a]피리미딘은 특히 특허 출원 FR-A-2,750,048에 기재되어 있는 공지된 화합물로, 이것의 함량은 본 특허 출원의 중요한 부분을 형성한다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 산화 염기로서 사용될 수 있는 화학식 5의 피라졸로[1,5-a]피리미딘 중에서, 특히 하기의 것들을 들 수 있다;

- 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민;

- 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민;

- 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올;

- 3-아미노-5-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올;

- 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올;

- 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올;

- 3-아미노-7-β-히드록시에틸아미노-5-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘;

- 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올;

- 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)-2-(히드록시에틸)아미노]에탄올;

- 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일)-2-(히드록시에틸)아미노]에탄올;

- 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,5, N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노 피라졸로[1,5-a]피리미딘; 및

- 그것들의 산 또는 염기와의 부가염.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 양이온성 직접 염료(들)은 바람직하게 양이온성 아미노-안트라퀴논, 양이온성 모노- 또는 디아조 화합물 및 양이온성 나프토퀴논으로부터 선택된다.

예로서, 특히 [8-[(p-아미노페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄클로라이드(Color Index의 Basic Brown 16또는 Arianor Mahogany 306002로도 공지되어 있음), 3 - [(4-아미노-6-브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-2-나프틸)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드와 3-[(2,6-디브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-3-나프틸)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드의 조합물(Color Index의 Basic Blue 99또는 Arianor Steel Blue 306004로도 공지되어 있음), 7-히드록시-8-[(2-메톡시-페닐)아조]-N,N,N-트리메틸-2-나프탈렌아미늄 클로라이드(Color Index의 Basic Red 76또는 Arianor Madder Red로도 공지되어 있음), [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드(Color Index의 Basic Red 118또는 Arianor Bordeaux 306006로도 공지되어 있음), [8-[(4-아미노-3-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드와 [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드의 조합물(Color Index의 Basic Brown 17또는 Arianor Sienna Brown 306001로도 공지되어 있음), 3-[(4,5-디히드로-3-메틸-5-옥소-1-페닐-1H-피라졸-4-일)아조]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드(Color Index의 Basic Yellow 57또는 Arianor Straw Yellow 306005로도 공지되어 있음), 1-(γ-아미노프로필)아미노안트라퀴논 히드로클로라이드, 1-N-(메틸모르폴리늄프로필)아미노-4-히드록시안트라퀴논 메틸 술페이트 및 Basic Orange 69(Color Index 명)을 들 수 있다.

또한 본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용되는 양이온성 직접 염료(들)은하기 화학식 1, 2, 3a, 3b 및 4의 화합물로부터 선택될 수도 있다.

a) 화학식 1의 화합물:

[식 중,

- D는 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

- R₁및 R₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자; -CN, -OH 또는 - NH₂라디칼로 치환될 수 있거나, 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 산소 또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리(하나 이상의 C₁- C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있음)을 형성할 수 있는 C₁- C₄알킬 라디칼; 4′-아미노페닐 라디칼을 나타내고

- R₃및 R′₃은 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, 또는 시아노, C₁- C₄알콕시 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내며,

- X^-는 바람직하게는 염소, 메틸 설페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온이고,

- A는 하기의 구조 A₁내지 A₁₉으로부터 선택된 기를 나타내고;

(식 중, R₄는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고, R₅는 C₁- C₄알콕시 라디칼을 나타낸다);

단, D가 -CH를 나타내면, A는 A₄또는 A₁₃을 나타내고, R₃는 알콕시 라디칼 이외의 것이며, R₁및 R₂는 동시에 수소 원자를 나타내지는 않는다];

b) 화학식 2의 화합물:

[식 중;

- R₆는 수소 원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼이고,

- R₇은 수소 원자; -CN 라디칼 또는 아미노 기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼; 4′-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, 또는 R₆와 함께, 산소 및/또는 질소를 임의 함유하고 C₁- C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있는 헤테로고리를 형성하고,

- R₈및 R₉는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 할로겐 원자 예컨대 브롬, 염소, 요오드 또는 불소, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼, 또는 -CN 라디칼을 나타내고,

- B는 하기 구조 B1 내지 B6으로부터 선택되는 기를 나타낸다;

(식 중, R₁₀은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타낸다)];

c) 화학식 3a 및 3b의 화합물:

[식 중,

- R₁₃은 수소 원자, C₁- C₄알콕시 라디칼, 할로겐 원자, 예컨대 브롬, 염소, 요오드 또는 불소, 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₁₄는 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내거나, 또는 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께 산소를 임의 함유하고/하거나, 하나 이상의 C₁- C₄알킬기로 치환된 헤테로고리를 형성하고,

- R₁₅는 수소 원자 또는 할로겐 원자 예컨대, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소를 나타내고,

- R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이할 수 있고, 수소원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- D₁및 D₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

- m = 0 또는 1이며,

(R₁₃이 비치환된 아미노기일 때, D₁및 D₂가 동시에 -CH기를 나타내고, m =0인 것으로 이해한다)

- E는 하기 구조 E1 내지 E8로부터 선택되는 기를 나타내고;

(식 중, R′은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타냄);

m =0 이고 D₁이 질소 원자를 나타내면, E는 하기 구조 E9의 기를 나타낼 수도 있다;

(식 중, R′은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타냄)];

d) 화학식 4의 화합물:

[식 중;

- G는 하기 구조 G₁내지 G₃으로부터 선택되는 기를 나타내고;

(식 중,

- R₁₈은 C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼, C₁- C₄알킬 라디칼로 치환된페닐 라디칼, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자를 나타내고;

- R₁₉는 C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내고;

- R₂₀및 R₂₁은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 또는 둘이 함께 G₁에서는 하나 이상의 C₁- C₄알킬, C₁- C₄알콕시 또는 N0₂라디칼로 치환된 벤젠 고리를, 또는 G₂에서는 하나 이상의 C₁- C₄알킬, C₁- C₄알콕시 또는 N0₂라디칼로 임의 치환된 벤젠 고리를 형성하고; 또한 R₂₀은 수소 원자를 나타낼 수 있고;

- Z는 산소 또는 황 원자 또는 -NR₁₉기를 나타내고;

- M은 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

- K는 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

- P는 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

(r은 0 또는 1을 나타냄)

- R₂₂는 O^-원자, C₁- C₄알콕시 라디칼 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고;

- R₂₃및 R₂₄는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼 또는 -NO₂라디칼을 나타내고;

- X^-는 바람직하게는 염소, 요오드, 메틸 설페이트, 에틸 설페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트로부터 선택된 음이온이다;

단;

- R₂₂가 O^-를 나타내면, r은 0을 나타내고;

- K 또는 P 또는 M이 -N-(C₁-C₄)알킬 X^-기를 나타내면, 라디칼 R₂₃및 R₂₄중 하나 이상이 수소 원자 이외의 것이고;

- K가 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, M = P = -CH 또는 -CR″;

- M이 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, K = P = -CH 또는 -CR″;

- P가 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, K = M 이고 -CH 또는 -CR을 나타내고;

- Z가 황 원자를 나타내고 R₂₁은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내면, R₂₀은 수소 원자 이외의 것이고;

- Z가 -NR₂₂를 나타내고 R₁₉는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내면, 구조 G₂의 기들 중 라디칼 R₁₈, R₁₉, 또는 R₂₀중의 하나 이상이 C₁- C₄알킬 라디칼 이외의 것이다);

- J는 하기를 나타낸다;

하기 구조 J₁의 기;

(식 중;

- R₂₅는 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼, 라디칼 -OH, -NO₂, -NHR₂₈, -NR₂₉R₃₀, -NHCO(C₁- C₄)알킬을 나타내거나, 또는 R₂₆과 함께 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있거나 함유하지 않을 수 있는 5- 또는 6-원 고리를 형성하고;

- R₂₆은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼을 나타내거나, 또는 R₂₇또는 R₂₈과 함께 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있거나 함유하지 않을 수 있는 5- 또는 6-원 고리를 형성하고;

- R₂₇은 수소 원자, -OH 라디칼, -NHR₂₈라디칼 또는 -NR₂₉R₃₀라디칼을 나타내고;

- R₂₈은 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, C₁- C₄모노히드록시알킬 라디칼, C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;

- R₂₉및 R₃₀은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁- C₄알킬 라디칼, C₁- C₄모노히드록시알킬 라디칼 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);

또는, 다른 헤테로 원자 및/또는 카르보닐기를 함유할 수 있고, 하나 이상의 C₁- C₄알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는, 질소를 함유하는 5- 또는 6-원의 헤테로시클릭 기, 특히 하기 구조 J₂의 기;

(식 중;

- R₃₁및 R₃₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼또는 페닐 라디칼을 나타내고;

- Y는 -C0- 라디칼 또는 하기의 라디칼을 나타내고;

- n = 0 또는 1이며, 이때, n = 1 이면, U는 -C0- 라디칼을 나타내는 것으로 이해한다)].

상기 정의된 화학식 1 내지 4의 구조에서, C₁- C₄알킬 또는 알콕시기는 바람직하게는 메틸, 에틸, 부틸, 메톡시 또는 에톡시를 나타낸다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 1, 2, 3a 및 3b의 양이온성 직접 염료들은 공지된 화합물이고, 예를 들어, 특허 출원 WO 95/01772, WO 95/15144 및 EP-A-0,174,954에 기재되어 있다. 또한 본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 4의 양이온성 직접 염료도 공지된 화합물로, 예를 들어, 특허 출원 FR-A-2,189,006, FR-A-2,285,851 및 FR-A-2,140,205, 및 이들의 첨가 증명서에 기재되어 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 1의 양이온성 직접 염료 중에서, 더욱 특별히 하기 구조 1-1 내지 1-52에 해당하는 화합물을 들 수 있다.

상기의 구조 1-1 내지 1-52의 화합물 중에서, 가장 특히 바람직한 것들은 구조 1-1, 1-2, 1-14 및 1-31에 상응하는 화합물들이다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 2의 양이온성 직접 염료 중에서, 더욱 특별히 하기 구조 2-1 내지 2-12에 해당하는 화합물을 들 수 있다;

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 3의 양이온성 직접 염료 중에서, 더욱 특별히 하기 구조 3-1 내지 3-18에 해당하는 화합물을 들 수 있다;

상기의 구조 3a-1 내지 3a-18의 화합물 중에서, 가장 특히 바람직한 것들은 구조 3a-4, 3a-5 및 3a-13에 상응하는 화합물들이다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식3b의 양이온성 직접 염료 중에서는, 더욱 특별히 하기 구조 3b-1 내지 3b-3에 해당하는 화합물을 들 수 있다;

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 4의 양이온성 직접 염료 중에서는, 더욱 특별히 하기 구조 4-1 내지 4-77에 해당하는 화합물을 들 수 있다;

.

..

본 발명에 따른 화학식 5의 피라졸로[1,5-a]피리미딘(들), 및/또는 그것들의 산 또는 염기와의 부가염은 바람직하게는 염료 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.0005 내지 12 중량%, 더욱 바람직하게는 대략 0.005 내지 6 중량%를 나타낸다.

본 발명에 따라 사용되는 양이온성 직접 염료(들)는, 바람직하게는 염료 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.001 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 대략 0.005 내지 5 중량%를 나타낸다.

염색용으로 적합한 매질(또는 지지체)은 일반적으로 물, 또는 물에 충분히 용해되지 않는 화합물을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매 및 물의 혼합물로 구성된다. 유기 용매로는, 예를 들어, C₁- C₄알칸올, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올; 글리세롤; 글리콜 및 글리콜 에테르 예컨대 2-부톡시에탄올, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 및 모노메틸 에테르, 및 방향족 알콜, 예컨대 벤질 알콜 또는 페녹시에탄올, 유사 생성물 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.

용매는 바람직하게는 염료 조성물의 총 중량에 대해 대략 1 내지 40 중량%, 더욱 바람직하게는 대략 5 내지 30 중량%의 비율로 존재할 수 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물의 pH는 일반적으로 대략 3 내지 12, 바람직하게는 대략 5 내지 11이다. 이것은, 케라틴 섬유 염색용으로 일반적으로 사용되는 산성화제 또는 염기화제를 사용하여 원하는 값으로 조절될 수 있다.

산성화제 중에서, 예를 들어, 무기 또는 유기산 예컨대 염산, 오르토인산, 황산, 카르복실산 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 또는 락트산, 및 술폰산을 들 수 있다.

염기화제 중에서, 예를 들어, 수성 암모니아, 알칼리성 카르보네이트, 알칸올아민 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민, 2-메틸-2-아미노프로판올 및 이들의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식 6의 화합물을 들 수 있다;

(식 중, W는 수산화기 또는 C₁-C₆알킬 라디칼로 임의치환된 프로필렌 잔기이고; R₃₆, R₃₇, R₃₈및 R₃₉는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C₁-C₆알킬 또는 C₁-C₆히드록시알킬 라디칼을 나타낸다).

또한 본 발명에 따른 염료 조성물은 하나 이상의 커플링제를 함유할 수 있는데, 이 커플링제는 산화 염색에서 통상적으로 사용되는 커플링제로부터 선택될 수 있고, 이들 중 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로시클릭 커플링제 예컨대, 예를 들어, 인돌 유도체, 인돌린 유도체, 피리딘 유도체 및 피라졸, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

이 커플링제들은 더욱 특별히 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시-벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스 (2,4-디아미노페녹시)프로판, 세사몰, α-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 6-히드록시인돌린, 2,6-디히드록시-4-메틸피리딘, 1H-3-메틸피라졸-5-온 및 1-페닐-3-메틸피라졸-5-온, 및 그것들의 산과의 부가염으로부터 선택된다.

이들이 존재할 때, 이 커플링제들은 염료 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.0001 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 대략 0.005 내지 5 중량%의 양으로 존재한다.

또한 본 발명에 따른 염료 조성물은, 특히 색조를 변형하거나 글린트(glint)를 풍부하게 하기 위해, 피라졸로[1,5-a]피리미딘 이외에 하나 이상의 부가적 산화 염기 및/또는 하나 이상의 비양이온성 직접 염료를 함유할 수 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 부가적인 산화 염기 중에서, 파라-페닐렌-디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로시클릭 염기를 들 수 있다.

파라-페닐렌디아민 중에서, 더욱 특별하게는, 예로서, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨루일렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸아닐린, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-클로로아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N-에틸-N-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4′-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시-에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노-에틸옥시-파라-페닐렌디아민 및 N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민, 및 그것들의 산과의 염을 들 수 있다.

상기 파라-페닐렌디아민 중에서, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨루일렌디아민,2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라 -페닐렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 및 그것들의 산과의 부가염이 가장 특별히 바람직하다.

비스(페닐)알킬렌디아민 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어, N,N′-비스(β-히드록시에틸)-N,N′-비스(4′-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N′-비스(β-히드록시에틸)-N,N′-비스(4′-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N′-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N′-비스(β-히드록시에틸)-N,N′-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N′-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N′-비스(에틸)-N,N′-비스(4′-아미노-3′-메틸페닐)-에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,5-디옥사옥탄, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

파라-아미노페놀 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어, 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

오르토-아미노페놀 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

헤테로시클릭 염기 중에서, 더욱 특별히, 피리딘 유도체, 본 발명에 따른 화학식 5의 화합물 이외의 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체를 들 수 있다.

피리딘 유도체 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어, 특허 GB 1,026,978 및 GB 1,153,196 에 기재된 화합물들, 예컨대 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시에틸)아미노-3-아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노피리딘, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

피리미딘 유도체 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어, 독일 특허 DE 2,359,399 또는 일본 특허 JP 88-169,571 및 JP 91-10659 또는 특허 출원 WO 96/15765에 기재된 화합물들, 예컨대 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6,-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노피리미딘을 들 수 있다.

피라졸 유도체 중에서, 더욱 특별히, 예를 들어, 특허 DE 3,843,892, DE 4,133,957 및 특허 출원 WO 94/08969, WO 94/08970, FR-A-2,733,749 및 DE 195 43 988에 기재된 화합물들, 예컨대 4,5-디아미노-1-메틸-피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4′-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4′-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2′-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸-피라졸, 3,4,5,-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 및 그것들의 산과의 부가염을 들 수 있다.

이것들을 사용할 때, 이 부가적인 산화 염기들은 바람직하게는 염료 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.0005 내지 12 중량%, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 6 중량%를 나타낸다.

일반적으로, 본 발명의 영역에서 사용될 수 있는 산과의 부가염(화학식 5의 화합물, 부가적인 산화 염기 및 커플링제)은 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 황산염, 시트르산염, 숙신산염, 타르타르산염, 락트산염 및 아세트산염으로부터 선택된다. 본 발명의 염료 조성물의 영역에서 사용될 수 있는 염기와의 부가염(화학식 5의 화합물)은 특히 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수성 암모니아 또는 아민으로 수득된 것들이다.

또한 본 발명에 따른 염료 조성물은 모발 염색용 조성물에서 통상적으로 사용되는 각종 보조제, 예컨대 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터 이온성 계면 활성제 및 이들의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터 이온성 중합체 또는 이들의 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 예컨대 비이온성 구아 검, 항산화제, 투과제, 금속이온봉쇄제, 향료, 완충제, 분산제, 컨디셔너, 예컨대 휘발성 또는 비휘발성, 변형 또는 비변형된 실리콘, 필름 형성제, 세라마이드, 보존제 및 불투명화제를 함유할 수 있다.

말할 필요도 없이, 당 기술의 숙련가는 이 임의의 부가적인 화합물들을 선택하는데 주의를 기울여서 본 발명에 따른 산화 염료 조성물과 본질적으로 관련된 유리한 성질이 구상되는 첨가물(들)에 의해 반대로 영향을 받지 않거나 또는 실질적으로 받지 않도록 할 것이다.

본 발명에 따른 염료 조성물는 다양한 형태, 예컨대 액체, 분말, 크림 또는 겔, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하는 데 적합한 임의의 형태일 수 있다.

본 발명에 주제는, 또한 상기 정의된 염료 조성물을 사용하여, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 산화 염색하는 방법이다.

이 방법에 따라, 상기 정의된 하나 이상의 염료 조성물을 섬유 위에 적용하는데, 색은 산성, 중성 또는 알칼리성 pH에서, 사용 시에만 염료 조성물에 첨가되거나, 동시 또는 연속적으로 적용되는 산화 조성물 내에 존재하는 비효소적 산화제를 사용하여 발색된다.

본 발명의 염색 방법의 바람직한 한 구현에 따르면, 상기 염료 조성물은 바람직하게는, 사용 시에, 염색용으로 적합한 매질 내에서, 착색을 발색시키기에 충분한 양으로 존재하는 하나 이상의 비효소적 산화제를 함유하는 산화 조성물과 혼합된다. 이어서 수득된 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하고, 섬유 상에 대략 3 내지 50 분, 바람직하게는 5 내지 30 분 동안 방치한 후, 섬유를 헹구어 내고, 샴푸로 세정하고, 다시 헹구어내고 건조시킨다.

상기 정의된 산화 조성물 내에 존재하는 산화제는 케라틴 섬유의 산화 염색용으로 통상적으로 사용되는 산화제로부터 선택될 수 있고, 그들 중 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브롬산염, 과산 및 과염 예컨대 과붕산염 및 과황산염을 들 수 있다. 과산화 수소가 특히 바람직하다.

상기 정의된 산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH는, 염료 조성물과 혼합한 후, 케라틴 섬유에 적용되는 생성된 조성물의 pH가 바람직하게는 대략 3 내지 12, 더욱 바람직하게는 5 내지 11 범위가 되는 정도이다. pH는 케라틴 섬유의 염색용으로 통상적으로 사용되고 상기 정의한 대로인 산성화제 또는 염기화제의 도움으로 원하는 값으로 조절된다.

또한 상기 정의된 산화 조성물은 모발 염색용 조성물에서 통상적으로 사용되고 상기 정의한 각종 보조제를 함유할 수 있다.

케라틴 섬유에 최종적으로 적용되는 조성물은 각종 형태, 예컨대 액체, 크림 또는 겔 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발 염색용으로 적합한 임의의 형태일 수 있다.

본 발명의 또다른 주제는 다중 구획 염색 장치 또는 다중 구획 염색 '키트' ,또는 기타 다중 구획 포장 계로서, 이것의 첫번째 구획은 상기 정의된 염료 조성물을 함유하고 두번째 구획은 상기 정의된 산화 조성물을 함유한다. 본 출원인 명의의 특허 FR-2,586,913에 기재된 장치와 같이, 원하는 혼합물을 모발에 적용하기 위한 수단이 상기 장치들에 장착될 수 있다.

하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지만, 이것을 결코 제한하지 않는다.

알칼리성 매질에서의 염색 실시예

본 발명에 따라, 하기의 염료 조성물을 제조하였다;

- 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 디히드로클로라이드(산화 염기) 0.333 g

- 화학식 1-2의 양이온성 직접 염료 1 g

- 96 °에틸 알콜 18 g

- 디에틸렌트리아민-펜타아세트산의 펜타소듐 염 1.1 g

- 20 % NH₃를 함유하는 수성 암모니아 10.0 g

- 탈염수 qs 100 g

상기 염료 조성물을, 사용 시에, 20 체적부의 pH 3 과산화 수소 용액(6 중량%)와 중량 대 중량으로 혼합하였다.

수득된 혼합물을 90 %가 흰머리인 천연 회색 모발의 머리단에, 30 분동안 적용하였다. 이어서 머리단을 헹구고, 표준 샴푸로 세정한 후, 다시 헹구고 나서 건조시켰다.

모발이 진한 푸셔(fuchsia) 색조로 염색되었다.

본 발명에 따른 조성물은, 다양한 외부 작인(빛, 나쁜 기후, 퍼머넌트 웨이브, 발한 및 마찰)에 대해 우수한 내성을 갖고 또한 강한 착색을 수득하게 한다.

Claims

- 산화 염기로서의하나 이상의 피라졸로[1,5-a]피리미딘, 또는 그것들의 산 또는 염기와의 부가염; 및

- 하나 이상의 양이온성 직접 염료;

를 염색용으로 적합한 매질 내에 함유하는 것을 특징으로 하는, 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물로서, 피라졸로[1,5-a]피리미딘(들)의 산화를 일으킬 수 있는 어떠한 효소성 계도 없는 조성물.
제 1 항에 있어서, 케라틴 섬유가 인간의 케라틴 섬유인 산화 염색용 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피라졸로[1,5-a]피리미딘이 하기 화학식 5의 화합물, 및 그것의 산 또는 염기와의 부가염으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

[화학식 5]

(식 중,

- R₃₃, R₃₄, R₃₅및 R₃₆은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, 아릴 라디칼, C₁- C₄히드록시알킬 라디칼, C₂- C₄폴리히드록시알킬 라디칼, (C₁- C₄)알콕시(C₁- C₄)알킬 라디칼, C₁- C₄아미노알킬 라디칼(아민이 아세틸, 우레이도 또는 술포닐 라디칼로 보호될 수 있음), (C₁- C₄)알킬아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 디[(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼(디알킬이 5- 또는 6-원 지방족 또는 헤테로시클릭 환을 형성할 수 있음), 히드록시(C₁- C₄)알킬- 또는 디[히드록시-(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼을 나타내고;

- 라디칼 R들은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, 아릴 라디칼, C₁- C₄히드록시알킬 라디칼, C₂- C₄폴리히드록시알킬 라디칼, C₁- C₄아미노알킬 라디칼, (C₁- C₄)알킬아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 디[(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼(디알킬이 5- 또는 6-원 지방족 또는 헤테로시클릭 환을 형성할 수 있음), 히드록시(C₁- C₄)알킬- 또는 디[히드록시(C₁- C₄)알킬]아미노(C₁- C₄)알킬 라디칼, 아미노 라디칼, (C₁- C₄)알킬- 또는 디[(C₁- C₄)알킬]아미노 라디칼; 할로겐 원자, 카르복실산 기 또는 술폰산 기를 나타내고;

- i는 0, 1, 2 또는 3 이고;

- p는 0 또는 1 이고;

- q는 0 또는 1 이고;

- n는 0 또는 1 이며;

단,

- (ⅰ) 합 p + q 는 0이 아니고;

- (ⅱ) p + q가 2이면, n은 0이고 NR₃₃R₃₄및 NR₃₅R₃₆기는 (2,3); (5,6); (6,7); (3,5) 또는 (3,7) 위치를 차지하며;

- (ⅲ)p + q가 1이면, n은 1이고 NR₃₃R₃₄(또는 NR₃₅R₃₆) 기 및 OH 기는 (2,3); (5,6); (6,7); (3,5) 또는 (3,7) 위치를 차지한다).
제 3 항에 있어서, 화학식 5의 피라졸로[1,5-a]피리미딘이 하기의 것들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

- 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민;

- 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민;

- 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올;

- 3-아미노-5-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올;

- 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올;

- 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올;

- 3-아미노-7-β-히드록시에틸아미노-5-메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘;

- 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올;

- 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)-2-(히드록시에틸)아미노]에탄올;

- 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일)-2-(히드록시에틸)아미노]에탄올;

- 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 2,5, N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민;

- 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노 피라졸로[1,5-a]피리미딘; 및

- 그것들의 산 또는 염기와의 부가염.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료(들)가 양이온성 아미노안트라퀴논, 양이온성 모노- 또는 디아조 화합물 및 양이온성 나프토퀴논으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 5 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 [8-[(p-아미노페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드, 3-[(4-아미노-6-브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-2-나프틸)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드와 3-[(2,6-디브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-3-나프틸)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드의 조합물, 7-히드록시-8-[(2-메톡시-페닐)아조]-N,N,N-트리메틸-2-나프탈렌아미늄 클로라이드, [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드, [8-[(4-아미노-3-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드와 [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로라이드의 조합물, 3-[(4,5-디히드로-3-메틸-5-옥소-1-페닐-1H-피라졸-4-일)아조]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로라이드, 1-(γ-아미노프로필)아미노안트라퀴논 히드로클로라이드, 1-N-(메틸모르폴리늄프로필)아미노-4-히드록시안트라퀴논 메틸 술페이트 및 Basic Orange 69으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료(들)가 하기 화학식 1, 2, 3a, 3b 및 4의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

a) 화학식 1의 화합물:

[화학식 1]

[식 중,

- D는 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

- R₁및 R₂는, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자; -CN, -OH 또는 - NH₂라디칼로 치환될 수 있거나, 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 산소 또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리(하나 이상의 C₁- C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있음)을 형성할 수 있는 C₁- C₄알킬 라디칼; 4′-아미노페닐 라디칼을 나타내고

- R₃및 R′₃은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, 또는 시아노, C₁- C₄알콕시 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내며,

- X^-는 바람직하게는 염소, 메틸 설페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온이고,

- A는 하기의 구조 A₁내지 A₁₉으로부터 선택되는 기를 나타내고;

(식 중, R₄는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고, R₅는 C₁- C₄알콕시 라디칼을 나타낸다);

단, D가 -CH를 나타내면, A는 A₄또는 A₁₃을 나타내고, R₃는 알콕시 라디칼 이외의 것이며, R₁및 R₂는 동시에 수소 원자를 나타내지는 않는다];

b) 화학식 2의 화합물:

[화학식 2]

[식 중;

- R₆는 수소 원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼이고,

- R₇은 수소 원자: -CN 라디칼 또는 아미노 기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼; 4′-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, 또는 R₆와 함께,산소 또는 질소, 또는 산소 및 질소를 함유할 수 있고, C₁- C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있는 헤테로고리를 형성하고,

- R₈및 R₉는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 할로겐 원자, 예컨대 브롬, 염소, 요오드 또는 불소, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼, 또는 -CN 라디칼을 나타내고,

- X^-는 바람직하게는 염소, 메틸 설페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온이고,

- B는 하기 구조 B1 내지 B6으로부터 선택되는 기를 나타낸다;

(식 중, R₁₀은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타낸다)];

c) 화학식 3a 및 3b의 화합물:

[화학식 3a]

[화학식 3b]

[식 중,

- R₁₃은 수소 원자, C₁- C₄알콕시 라디칼, 할로겐 원자 예컨대 브롬, 염소, 요오드 또는 불소, 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₁₄는 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내거나, 또는 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께,산소를 함유할 수 있거나 하나 이상의 C ₁ - C ₄ 알킬기로 치환된 헤테로고리를 형성하고; 또는 산소를 함유하고 하나 이상의 C ₁ - C ₄ 알킬기로 치환된 헤테로고리를 형성하고,

- R₁₅는 수소 원자 또는 할로겐 원자, 예컨대 브롬, 염소, 요오드 또는 불소를 나타내고,

- R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이할 수 있고, 수소원자 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- D₁및 D₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

- m = 0 또는 1이며,

(R₁₃이 비치환된 아미노기일 때, D₁및 D₂가 동시에 -CH기를 나타내고, m = 0인 것으로 이해한다)

- X^-는 바람직하게는 염소, 메틸 설페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온이고,

- E는 하기 구조 E1 내지 E8로부터 선택되는 기를 나타내고;

(식 중, R′은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타냄);

m =0 이고 D₁이 질소 원자를 나타내면, E는 하기 구조 E9의 기를 나타낼 수도 있다;

(식 중, R′은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타냄)];

d) 화학식 4의 화합물;

[화학식 4]

[식 중;

- G는 하기 구조 G₁내지 G₃으로부터 선택되는 기를 나타내고;

(식 중,

- R₁₈은 C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼, C₁- C₄알킬 라디칼로 치환된 페닐 라디칼, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자를 나타내고;

- R₁₉는 C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내고;

- R₂₀및 R₂₁은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁- C₄알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 또는 둘이 함께, G₁에서는 하나 이상의 C₁- C₄알킬, C₁- C₄알콕시 또는 N0₂라디칼로 치환된 벤젠 고리를, 또는 G₂에서는 하나 이상의 C₁- C₄알킬, C₁- C₄알콕시 또는 N0₂라디칼로 임의치환된 벤젠 고리를 형성하고; 또한 R₂₀은 수소 원자를 나타낼 수 있고;

- Z는 산소 또는 황 원자 또는 -NR₁₉기를 나타내고;

- M은 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

- K는 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

- P는 -CH, -CR″(R″은 C₁- C₄알킬을 나타냄) 또는 -NR₂₂(X^-)_r기를 나타내고;

(r은 0 또는 1을 나타냄)

- R₂₂는 O^-원자, C₁- C₄알콕시 라디칼 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고;

- R₂₃및 R₂₄는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼 또는 -NO₂라디칼을 나타내고;

- X^-는 바람직하게는 염소, 요오드, 메틸 설페이트, 에틸 설페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트로부터 선택된 음이온이다;

단;

- R₂₂가 O^-를 나타내면, r은 0을 나타내고;

- K 또는 P 또는 M이 -N-(C₁-C₄)알킬 X^-기를 나타내면, 라디칼 R₂₃및 R₂₄중 하나 이상이 수소 원자 이외의 것이고;

- K가 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, M = P = -CH 또는 -CR″;

- M이 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, K = P = -CH 또는 -CR″;

- P가 -NR₂₂(X^-)_r를 나타내면, K = M 이고 -CH 또는 -CR을 나타내고;

- Z가 황 원자를 나타내고 R₂₁은 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내면, R₂₀은 수소 원자 이외의 것이고;

- Z가 -NR₂₂를 나타내고 R₁₉는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내면, 구조 G₂의 기들 중 라디칼 R₁₈, R₁₉, 또는 R₂₀중의 하나 이상이 C₁- C₄알킬 라디칼 이외의 것이다);

- J는 하기를 나타낸다;

하기 구조 J₁의 기;

(식 중;

- R₂₅는 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼, 라디칼 -OH, -NO₂, -NHR₂₈, -NR₂₉R₃₀, -NHCO(C₁- C₄)알킬을 나타내거나, 또는 R₂₆과 함께, 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있거나 함유하지 않을 수 있는 5- 또는 6-원 고리를 형성하고;

- R₂₆은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C₁- C₄알킬 또는 C₁- C₄알콕시 라디칼을 나타내거나, 또는 R₂₇또는 R₂₈과 함께, 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있거나 함유하지 않을 수 있는 5- 또는 6-원 고리를 형성하고;

- R₂₇은 수소 원자, -OH 라디칼, -NHR₂₈라디칼 또는 -NR₂₉R₃₀라디칼을 나타내고;

- R₂₈은 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼, C₁- C₄모노히드록시알킬 라디칼, C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;

- R₂₉및 R₃₀은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁- C₄알킬 라디칼, C₁- C₄모노히드록시알킬 라디칼 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);

또는, 다른 헤테로 원자 및/또는 카르보닐기를 함유할 수 있고, 하나 이상의 C₁- C₄알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는, 질소를 함유하는 5- 또는 6-원의 헤테로시클릭 기, 특히 하기 구조 J₂의 기;

(식 중;

- R₃₁및 R₃₂는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁- C₄알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;

- Y는 -C0- 라디칼 또는 하기의 라디칼을 나타내고;

- n = 0 또는 1이며, 이때 n = 1 이면, U는 -C0- 라디칼을 나타내는 것으로 이해한다)].
제 7 항에 있어서, 화학식 1의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 1-1 내지 1-52에 해당되는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

.
제 7 항에 있어서, 화학식 2의 양이온성 직접 염료가 하기 2-1 내지 2-12 구조에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

.
제 7 항에 있어서, 화학식 3a의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 3a-1 내지 3a-18에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

.
제 7 항에 있어서, 화학식 3b의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 3b-1 내지 3b-3에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

.
제 7 항에 있어서, 화학식 4의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 4-1 내지 4-77에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물;

.

.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피라졸로[1,5-a]피리미딘(들),또는그것들의 산 또는 염기와의 부가염이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0005 내지 12 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 13 항에 있어서, 피라졸로[1,5-a]피리미딘(들),또는그것들의 산 또는 염기와의 부가염이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 6 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료(들)가 염료 조성물의총 중량에 대해 0.001 내지 10 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 15 항에 있어서, 양이온성 직접 염료(들)가 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 5 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로시클릭 커플링제, 예를 들어, 인돌 유도체, 인돌린 유도체, 피리딘 유도체 및 피라졸론, 및 그것들의 산과의 부가염으로부터 선택된 하나 이상의 커플링제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,피라졸로[1,5-a]피리미딘 이외에 하나 이상의 부가적 산화 염기, 또는 하나 이상의 비양이온성 직접 염료를 함유하거나 또는 피라졸로[1,5-a]피리미딘 이외에 하나 이상의 부가적 산화 염기 및 하나 이상의 비양이온성 직접 염료를 함유하는것을 특징으로 하는 조성물.
제 18 항에 있어서, 부가적 산화 염기(들)가 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로시클릭 염기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 산과의 부가염이 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 황산염, 시트르산염, 숙신산염, 타르타르산염, 락트산염 및 아세트산염으로부터 선택되고, 염기와의 부가염이 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수성 암모니아 또는 아민으로 수득된 것들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
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