JP6797252B2 - 砥粒品および形成方法 - Google Patents
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- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 title claims description 266
- 235000011868 grain product Nutrition 0.000 title claims description 163
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 43
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 356
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 280
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 176
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 176
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 145
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 84
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 84
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 32
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 31
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 230
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 92
- 239000002585 base Substances 0.000 description 77
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 54
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 50
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 46
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 40
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 31
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 28
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 25
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 24
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 8
- -1 for example Substances 0.000 description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 8
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 8
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 7
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 7
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 7
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 6
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 6
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 6
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000009661 fatigue test Methods 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- ASZZHBXPMOVHCU-UHFFFAOYSA-N 3,9-diazaspiro[5.5]undecane-2,4-dione Chemical compound C1C(=O)NC(=O)CC11CCNCC1 ASZZHBXPMOVHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710158075 Bucky ball Proteins 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015220 hamburgers Nutrition 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000011156 metal matrix composite Substances 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M sodium;hydron;difluoride Chemical compound F.[F-].[Na+] BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 1
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Description
め、加工対象物から材料を除去する汎用機能に関するさまざまな業界向けに開発されてい
る。エレクトロニクス業界に特に言及する場合、ウェーハを形成する材料の結晶インゴッ
トを薄切りするのに適した砥粒工具が、特に有用である。この業界が成熟していくにつれ
、インゴットはますます大口径化しており、歩留り、製造性、影響を受ける層、寸法から
くる制約、および他の要因のせいで、そうした作業向けに粘着性の薄い砥粒およびワイヤ
鋸を使用することが容認されるようになっている。
ヤを、高速で巻き取ることにより切削動作を生みだすことができる。円形の鋸は、切断深
さがブレードの半径未満に制限されるが、ワイヤ鋸には、より大きな柔軟性を持たせるこ
とができ、直線のまたは輪郭に沿った経路の切断が可能である。
ブル全面の鋼製ビーズを摺動させることによりこうした物品が製造されるが、この場合、
ビーズはスペーサによって切り離されている。これらのビーズは、電気メッキまたは焼結
によって一般に付着させた砥粒粒子によって覆われてもよい。しかし電気メッキと焼結の
操作は、時間、よってコストのかかる危険性があり、ワイヤ鋸砥粒工具の速やかな製造を
困難にする。こうしたワイヤ鋸のほとんどは、カーフ(kerf)損失がエレクトロニク
ス用途ほどには支配的でない用途、しばしば石すなわち大理石を切断するのに使用されて
きた。化学的な接合工程、例えばロウ接により砥粒粒子を付着させる試みが幾例かなされ
ているが、こうした作製方法では、ワイヤ鋸の抗張力が減少するので、高張力下での切断
応用時にワイヤ鋸が破損および早期故障しやすくなる。他のワイヤ鋸では、樹脂を使用し
て砥粒をワイヤに結合させることがある。残念なことに樹脂接合によるワイヤ鋸は、特に
固い材料を切断する場合には、急速に消耗し、砥粒粒子の耐用年数に達するかなり前に砥
粒が消失する傾向がある。
が常に必要とされている。
特徴を画定する複数の離散的な粘着領域であって、それら複数の離散的な粘着領域の少な
くとも一つが、450℃以下の融点を有する金属材料を含む粘着領域と、基材を被覆し複
数の離散的な粘着領域から離間した複数の離散的な形成物と、基材、複数の離散的な粘着
領域、および複数の離散的な形成物を被覆する接合層とを含む。
複数の離散的な粘着領域であって、それぞれの離散的な粘着領域が、別の離散的な粘着領
域から分離し、少なくとも一つの砥粒粒子が、それぞれの離散的な粘着領域と繋がってい
る粘着領域と、複数の離散的な粘着領域、少なくとも一つの砥粒粒子を被覆し、基材の少
なくとも一部分に直接接触している接合層とを含む。
粘着領域であって、それら複数の離散的な粘着領域のそれぞれの間に間隙領域を画定する
粘着領域と、複数の離散的な粘着領域を被覆する砥粒粒子と、基材を被覆し、複数の離散
的な粘着領域および砥粒粒子から離間した複数の離散的な形成物とを含む。
微粒子とを含む混合物に通して移送することと、砥粒粒子の少なくとも一部分と粉末材料
を基材に付着させることと、基材を処理して砥粒品プリフォームを形成することとを含み
、砥粒品プリフォームが、基材を被覆する複数の離散的な粘着領域であって、それら複数
の離散的な粘着領域のそれぞれの間に間隙領域を画定する粘着領域と、複数の離散的な粘
着領域を被覆する砥粒粒子と、基材を被覆し、複数の離散的な粘着領域および砥粒粒子か
ら離間した複数の離散的な形成物とを含む。
利点が当業者に明らかになるであろう。
のである。特定の実例では、本明細書における砥粒品はワイヤ鋸を形成することができ、
エレクトロニクス業界、光学業界、および他の関連業界において、傷つきやすい結晶性材
料の加工に使用することができる。
む。工程は、基材を提供することによりステップ101において開始することができる。
基材は、そこに砥粒材料を固着させるための表面を提供することにより、砥粒品の切削能
力を高めることができる。
むことができる。特定の実例では、この長尺体は、長さ:幅のアスペクト比が10:1以
上であってもよい。他の実施形態では、この長尺体は、約100:1以上、例えば100
0:1以上、またさらには約10,000:1以上のアスペクト比を有することができる
。基材の長さは、基材の長手方向の軸に沿って測定された最長寸法とすることができる。
幅は、長手方向の軸に対して垂直に測定された基材の2番目に長い(場合によっては最小
の)寸法とすることができる。
。実際、他の基材はさらに長くとることができ、約100メートル以上、例えば、約50
0メートル以上、約1,000メートル以上、またさらには約10,000メートル以上
の平均長さを有することができる。
下、例えば、約1mm以下、約0.8mm以下、またはさらには約0.5mm以下の平均
幅を有することができる。さらに基材は、約0.01mm以上、例えば、約0.03mm
以上の平均幅を有していてもよい。基材が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内
にある平均幅を有していてもよいことは、理解されよう。
るワイヤとすることができる。すなわち基材は、互いに絡み合った、一体に編みこまれた
、または他の物体、例えば中心のコアワイヤに固定された、多数のさらに小さいワイヤか
ら形成することができる。特定の設計では、基材用の好適な構造としてピアノ線を利用し
てもよい。例えば基材は、約3Gpa以上の破壊強度を有する高強度鋼線とすることがで
きる。基材破壊強度は、キャプスタン・グリップ(capstan grip)を用いて
金属性材料の張力試験用のASTM E−8により測定することができる。ワイヤは、特
定の材料の層、例えば、真鍮を含む金属の層で被覆されていてもよい。さらに他の実例で
は、ワイヤは、その外面上に被膜が本質的になくてもよい。
、円形断面の輪郭を有するようにすることができる。長尺体の長手方向の軸を横切って延
びる平面内で見て円形断面形状を有する長尺体を使用する場合である。
材料)、ならびにそれらの組み合わせを含むさまざまな材料から作製することができる。
好適な無機材料には、セラミックス、ガラス、金属、合金、サーメット、およびそれらの
組み合わせを挙げることができる。特定の実例では、長尺体は、金属または合金材料から
作製することができる。例えば長尺体は、遷移金属または遷移金属合金材料から作製して
もよく、鉄、ニッケル、コバルト、銅、クロム、モリブデン、バナジウム、タンタル、タ
ングステン、およびこれらの組み合わせである元素を含んでいてもよい。
硬化性樹脂、エラストマー、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。特に有用
なポリマーには、ポリイミド、ポリアミド、樹脂、ポリポリウレタン、ポリエステルなど
を挙げることができる。さらに、長尺体が天然有機材料、例えばゴムを含むことができる
ことは理解されよう。
きる。例えば基材は、Rotary Beam Fatigue TestまたはHun
ter Fatigue Testで測定した300,000サイクル以上の平均疲労寿
命を有することができる。この試験は、MPIF Std. 56とすることができる。
回転梁疲労試験では、指定された応力(例えば700MPa)、すなわち、一定応力にお
いて、または、106までの複数の反復サイクルを用いたサイクル疲労試験でワイヤが破
断しなかった応力(例えば、応力は疲労強度を表す)において、ワイヤ破断までのサイク
ル数を測定する。他の実施形態では、基材は、さらに高い疲労寿命、例えば、約400,
000サイクル以上、約450,000サイクル以上、約500,000サイクル以上、
またはさらには約540,000サイクル以上を示すことがある。さらに基材は、約2,
000,000サイクル以下の疲労寿命を有していてもよい。
でき、このステップは、砥粒粒子と、粘着材料を含む微粒子とを含む混合物に基材を通し
て移送することを含む。砥粒品の加工と形成を容易にするために、基材を巻き取り機構に
接続してもよい。例えばワイヤは、送りスプール(spool)と受容スプールの間で移
送することができる。送りスプールと受容スプール間でワイヤを移送することにより加工
が容易になり、例えば、ワイヤを送りスプールから受容スプールに移送している間に、所
望の形成工程に通して移送するようにして、最終的に形成される砥粒品の構成成分層を形
成するようにしてもよい。
ら受容スプールに基材を特定の速度で巻き取ることができることは理解されよう。例えば
基材は、約5m/分以上の速度で送りスプールから受容スプールに巻き取ることができる
。他の実施形態では、巻き取りの速度は、さらに大きくすることができ、例えば、約8m
/分以上、約10m/分以上、約12m/分以上、またはさらには約14m/分以上とす
ることができる。特定の実例では、巻き取り速度は、約500m/分以下、例えば200
m/分以下であってもよい。巻き取りの速度は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の
範囲内とすることができる。巻き取り速度が、最終的に形成される砥粒品を形成できる速
度を表し得ることは、理解されよう。
むことができる。一態様によればバリア層は、基材の外(すなわち、外周)面と直接接触
するように基材の外面を被覆することができ、より詳細には、基材の外面に直接接合され
るようにすることができる。一実施形態ではバリア層は、バリア層と基材との間の拡散接
合領域を画定するように基材の外面に接合することができ、この領域は、基材の少なくと
も一つの金属元素とバリア層の一つの元素との相互拡散によって特徴づけられる。特定の
一実施形態ではバリア層は、基材と、他の被覆層、例えば、粘着層、接合層、被膜層、1
種もしくは複数種の砥粒粒子の層、またはそれらの組み合わせを含む層との間に配置する
ことができる。
材およびバリア層構造の作製を含むことができる。バリア層は、例えば、堆積工程を含む
さまざまな技術によって形成することができる。いくつかの適切な堆積工程には、印刷、
噴霧、浸漬塗膜、ダイコーティング(die coating)、メッキ(例えば、電解
または無電解)、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。一実施形態によれば
、バリア層を形成する工程は、低温工程を含むことができる。例えば、バリア層を形成す
る工程は、約400℃以下、例えば約375℃以下、約350℃以下、約300℃以下、
またはさらには約250℃以下の温度で行うことができる。さらに、バリア層を形成した
後、例えば、洗浄、乾燥、硬化、固化、熱処理、およびそれらの組み合わせを含むさらな
る工程を行えることは理解されよう。バリア層は、引き続くメッキ工程において、さまざ
まな化学種(例えば水素)によるコア材料の化学含浸に対するバリアとして機能すること
ができる。さらにバリア層は、機械的耐久性を向上させやすくすることもある。
外周面を被覆する、連続的な被膜の形態をとることができる。バリア材料は、無機材料、
例えば金属または合金材料を含むことができる。バリア層に使用するのに適切ないくつか
の材料には遷移金属元素を挙げることができ、遷移金属元素には、スズ、銀、銅、亜鉛、
ニッケル、チタン、およびそれらの組み合わせを挙げることができるが、これらに限定さ
れない。別の実施形態においてはバリア層は、真鍮を含んでいてもよい。一実施形態では
バリア層は、本質的にスズからなる単一層の材料とすることができる。特定の一実例では
バリア層は、純度が99.99%以上であるスズの連続的な層を含有することができる。
特に、バリア層は、実質的に純粋な非合金材料とすることができる。すなわち、バリア層
は、単一の金属材料から作製された金属材料(例えば、スズ)とすることができる。
、例えば、スズと別の金属、例えば銅、銀などの遷移金属種との組み合わせを含む組成物
を含むことができる。いくつかの適切なスズ系合金には、銀を含むスズ系合金、詳細には
Sn96.5/Ag3.5、Sn96/Ag4、およびSn95/Ag5合金を挙げるこ
とができる。他の適切なスズ系合金は銅を含むことができ、詳細にはSn99.3/Cu
0.7およびSn97/Cu3合金を挙げることができる。さらに、特定のスズ系合金に
は、ある百分率の銅および銀を含むことができ、例えばSn99/Cu0.7/Ag0.
3、Sn97/Cu2.75/Ag0.25、およびSn95.5/Ag4/Cu0.5
合金を挙げることができる。さらに別の実施形態においてバリア層は、銅およびニッケル
の組み合わせを含む合金を含むことができ、より具体的には、本質的に銅およびニッケル
からなる合金を含んでいてもよい。
形成することができる。例えばバリア層は、内層と、内層を被覆する外層とを含むことが
できる。一実施形態によれば、内層および外層を互いに直接接触させて、外層が内層を直
接被覆して界面で結合するようにできる。したがって内層および外層は、基材の長さに沿
って延びる界面で結合することができる。
内層は、スズ、銅、ニッケル、またはそれらの組み合わせを含む材料の連続的な層を含む
ことができる。また、内層と外層は、互いに異なる材料から形成することができる。すな
わち、例えばそれらの層のうち一層に存在する1種以上の元素が、他の層内には存在しな
いようすることができる。特定の一実施形態では、外層は、内層内に存在しない元素を含
むことができる。
合金などの無機材料を含むように形成することができる。より詳細には外層は、遷移金属
元素を含むことができる。例えば、特定の一実施形態では外層は、ニッケルを含むことが
できる。別の実施形態では外層は、本質的にニッケルからなるように形成することができ
る。
る。しかしながら外層を、内層と同一の方法で形成する必要はない。一実施形態によれば
外層は、メッキ、噴霧、印刷、浸漬、ダイコーティング、堆積、およびそれらの組み合わ
せを含む堆積工程を通じて形成することができる。特定の実例ではバリア層の外層は、比
較的低い温度、例えば約400℃以下、約375℃以下、約350℃以下、約300℃以
下、またはさらには250℃以下の温度で形成することができる。特定の一工程によれば
外層は、非メッキ処理、例えばダイコーティングによって形成することができる。さらに
、外層を形成するのに使用される工程には、他の方法、例えば、加熱、硬化、乾燥、およ
びそれらの組み合わせを挙げてもよい。そのような方法で外層を形成することにより、不
要な化学種がコアおよび/または内層へ含浸するのを制限しやすくなる場合のあることは
理解されよう。
の平均厚さを有するように形成することができる。例えばバリア層は、約0.05ミクロ
ン以上、例えば、約0.1ミクロン以上、約0.2ミクロン以上、約0.3ミクロン以上
、またはさらには約0.5ミクロン以上の平均厚さを有することができる。さらに内層の
平均厚さは、約8ミクロン以下、例えば、約7ミクロン以下、約6ミクロン以下、約5ミ
クロン以下、またはさらには約4ミクロン以下であってもよい。内層が上記の最小値と最
大厚さのいずれかの間の範囲内にある平均厚さを有してもよいことは理解されよう。
態では、外層の平均厚さは、約0.05ミクロン以上、例えば、約0.1ミクロン以上、
約0.2ミクロン以上、約0.3ミクロン以上、またはさらには約0.5ミクロン以上と
することができる。さらに、特定の実施形態においては外層は、約12ミクロン以下、約
10ミクロン以下、約8ミクロン以下、約7ミクロン以下、約6ミクロン以下、約5ミク
ロン以下、約4ミクロン以下、またはさらには約3ミクロン以下の平均厚さを有すること
ができる。バリア層の外層が上記の最小厚さおよび最大厚さのいずれかの範囲内にある平
均厚さを有してもよいことは理解されよう。
厚さを有するように形成することができる。このような設計により、さらなる加工に好適
な接合構造も提供しつつ、特定の化学種に対する耐含侵性を向上させやすくなる場合があ
る。例えば、他の実施形態では、内層は、外層の平均厚さより大きい平均厚さを有するよ
うに形成することができる。しかし、代替の実施形態では内層は、外層の平均厚さよりも
小さくなるような平均厚さを有するように形成してもよい。
(t0)との厚さ比[ti:t0]が、約3:1と約1:3との範囲内とすることができ
る。他の実施形態では、厚さ比は、約2.5:1と約1:2.5との間の範囲内、例えば
、約2:1と約1:2の範囲内、約1.8:1と約1:1.8の間の範囲内、約1.5:
1と約1:1.5との間の範囲内、またはさらには約1.3:1と約1:1.3との間の
範囲内とすることができる。
さを有するように形成することができる。他の実施形態では、バリア層の平均厚さはそれ
より小さくてもよく、例えば約9ミクロン以下、約8ミクロン以下、約7ミクロン以下、
約6ミクロン以下、約5ミクロン以下、またはさらには3ミクロンであってもよい。さら
にバリア層の平均厚さは、約0.05ミクロン以上、例えば、0.1ミクロン以上、0.
2ミクロン以上、0.3ミクロン以上、または0.5ミクロン以上とすることができる。
バリア層が上記の最小厚さおよび最大厚さのいずれかの範囲内にある平均厚さを有しても
よいことは理解されよう。
んでいなくてもよい。例えば基材は、バリア層を本質的に含んでいなくともよく、基材は
本質的にバリア層を含まない。少なくとも一実施形態では基材は、混合物に基材を通して
移送する工程に先立って、被膜形成されていないワイヤとすることができ、混合物につい
ては、本明細書においてはステップ102に記載する。より詳細には基材は、ステップ1
02に記載の混合物にワイヤを通して移送する工程に先立って、外面上にいかなる被膜層
も本質的に含んでいない金属ワイヤとすることができる。
砥粒粒子と、粘着材料を含む微粒子材料とを含む混合物に基材を通して移送することを含
む。図2Aは、一実施形態に係る砥粒品を形成する工程の例示を含む。図2Bは、一実施
形態に係る砥粒品を形成する工程の一部分の例示を含む。例示のとおり、基材201は方
向202の向きに、混合物204を含む容器203内で移送することができる。基材20
1は、容器内で一つまたは複数のローラ205上で移送することにより、基材201の方
向の制御および適切な処理を行いやすくしてもよい。
を含むことができ、基材201は、砥粒粒子212と、本明細書における実施形態の特徴
を有する砥粒品を形成しやすくすることができる粘着材料を含む微粒子213とを含む混
合物204に通して移送される。特に、混合物204は、砥粒粒子212と微粒子213
とを含むことができるので、最終的に形成される砥粒品に、離散的な粘着領域と離散的な
形成物とが形成されやすくなる場合がある。さらに、本明細書に記載されるとおり、他の
従来方法とは異なり、混合物204は、微粒子213と砥粒粒子212とを含むことがで
き、したがって、砥粒粒子212と微粒子213の両方を基材201に同時に付着させや
すくなる。
たは第2の種類の砥粒粒子を含む、本明細書に記載の複数種類の砥粒粒子のいずれかを指
す。砥粒粒子には、酸化物、炭化物、窒化物、ホウ化物、酸窒化物、酸ホウ化物、ダイヤ
モンド、およびそれらの組み合わせなどの材料を挙げることができる。特定の実施形態に
おいては、砥粒粒子に超砥粒材料を組み込むことができる。例えば一つの適切な超砥粒材
料にはダイヤモンドが含まれる。特定の実例では、砥粒粒子は本質的にダイヤモンドから
なっていてもよい。本明細書で述べるように、混合物は、例えば第1の種類の砥粒粒子お
よび第2の種類の砥粒粒子を含む、複数種類の砥粒粒子を含むことができる。第1および
第2の種類の砥粒粒子は、互いに異なる少なくとも一つの砥粒特性を有していてもよく、
その砥粒特性は、組成、平均粒子サイズ、硬度、靭性、脆弱性、構造、形状、またはそれ
らの組み合せを含むことができる。さらに、混合物が2種類以上の砥粒粒子を含む特定の
実例では、異なる種類の砥粒粒子の含有量は、混合物中で異なっていてもよく、したがっ
て、最終的に形成される砥粒品中で異なっていてもよい。
むことができる。他の実例では、砥粒粒子は、約25GPa以上、例えば、約30GPa
以上、約40GPa以上、約50GPa以上、またはさらには約75GPa以上のVic
kers硬度を有することができる。さらに、少なくとも一つの非限定的な実施形態では
、砥粒粒子は、約200GPa以下、例えば、約150GPa以下、またはさらには約1
00GPa以下のVickers硬度を有することができる。砥粒粒子が上記の最小値と
最大値のいずれかの間の範囲内にあるVickers硬度を有してもよいことは理解され
よう。
角形の、不規則な形状を含む群から得られる形状を有することができる。また、特定の実
例では、砥粒粒子は、特定の結晶構造、例えば、多結晶、単結晶、多面体、立方体、六面
体、四面体、八面体、複雑な炭素構造(例えば、バッキーボール)、及びそれらの組み合
わせを有することができるが、これらには限定されない。
能な特定の粒度分布を有していてもよい。例えば砥粒粒子は、混合物中に、そして砥粒品
上に、正規またはガウス分布で存在することができる。さらに別の実例では、砥粒粒子は
、非ガウス分布、例えば多モード分布や広いグリットサイズ(grit size)分布
で混合物に存在することができる。広いグリットサイズ分布の場合、約1ミクロンから約
100ミクロンの間の平均粒子サイズの範囲にわたって、砥粒粒子の少なくとも80%が
、約30ミクロン以上の範囲内に含まれる平均粒子サイズを有することができる。一実施
形態では、広いグリットサイズ分布は2モード粒子サイズ分布をとることができ、この場
合、2モード粒子サイズ分布は、第1のメジアン粒子サイズ(M1)を定める第1のモー
ドと、第1のメジアン粒子サイズとは異なる第2のメジアン粒子サイズ(M2)を定める
第2のモードとを含む。特定の実施形態によれば、第1のメジアン粒子サイズおよび第2
のメジアン粒子サイズは、式((M1−M2)/M1)×100%に基づいて5%以上異
なる。さらに他の実施形態では、第1のメジアン粒子サイズおよび第2のメジアン粒子サ
イズは、約10%以上異なることができ、例えば約20%以上、約30%以上、約40%
以上、約50%以上、約60%以上、約70%以上、約80%以上、またはさらには約9
0%以上異なることができる。さらに、別の非限定的な実施形態においては、第1のメジ
アン粒子サイズは、第2のメジアン粒子サイズに対して、約99%以下異なっていてもよ
く、例えば約90%以下、約80%以下、約70%以下、約60%以下、約50%以下、
約40%以下、約30%以下、約20%以下、またはさらには約10%以下異なっていて
もよい。第1のメジアン粒子サイズと第2のメジアン粒子サイズとの間の差が上記の最小
百分率と最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
子は、本質的に凝集粒子からなっていてもよい。特定の実例では、混合物は、凝集砥粒粒
子と非凝集砥粒粒子の組み合わせを含んでいてもよい。一実施形態によれば、凝集粒子は
、接合剤材料によって互いに接合した砥粒粒子を含むことができる。接合剤材料のいくつ
かの適切な例には、無機材料、有機材料、およびそれらの組み合わせを挙げることができ
る。より詳細には、接合剤材料は、セラミック、金属、ガラス、ポリマー、樹脂、および
それらの組み合わせであってもよい。少なくとも一つの実施形態では、接合剤材料は、金
属または合金であってもよく、これは1種または複数種の遷移金属元素を含んでいてもよ
い。一実施形態によれば、接合剤材料は、砥粒品の構成成分層、例えば、バリア層、粘着
材料、接合層、またはそれらの組み合わせから得られる少なくとも1種の金属元素を含む
ことができる。より詳細な実施形態では、接合剤は、少なくとも一つの活性接合剤を含む
金属材料とすることができる。活性接合剤は、窒化物、炭化物、およびそれらの組み合わ
せを含む元素または組成物であってもよい。特定の例示的な一つの活性接合剤は、チタン
含有組成物、クロム含有組成物、ニッケル含有組成物、銅含有組成物、およびそれらの組
み合わせを含むことができる。別の実施形態では、接合剤材料は、砥粒品に接触する加工
対象物と化学反応するように構成された化学薬品を含むことができ、これにより、砥粒品
が機械的除去工程も同時に実行しつつ加工対象物の表面上の化学的除去工程を実行し易く
する場合がある。いくつかの適切な化学薬品には、酸化物、炭化物、窒化物、酸化剤、p
H調整剤、界面活性剤、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。
材料、および特定含有量の細孔を含むことができる。例えば、凝集粒子は、接合剤材料の
含有量より多量の砥粒粒子を含むことができる。または凝集粒子は、砥粒粒子の含有量よ
りも多量の接合剤材料を含むことができる。例えば、一実施形態では凝集粒子は、凝集粒
子の全体積に対して約5体積%以上の砥粒粒子を含むことができる。他の実例では、凝集
粒子の全体積に対する砥粒粒子の含有量はさらに多くてもよく、例えば約10体積%以上
、例えば、約20体積%以上、約30体積%以上、約40体積%以上、約50体積%以上
、約60体積%以上、約70体積%以上、約80体積%以上、またはさらには約90体積
%以上であってもよい。さらに、別の非限定的な実施形態では、凝集粒子の全体積に対し
て、凝集粒子中の砥粒粒子の含有量は、約95体積%以下、例えば、約90体積%以下、
約80体積%以下、約70体積%以下、約60体積%以下、約50体積%以下、約40体
積%以下、約30体積%以下、約20体積%以下、またはさらには約10体積%以下とす
ることができる。凝集粒子内の砥粒粒子の含有量が上記の最小百分率と最大百分率のいず
れかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
料を含むことができる。他の実例では、凝集粒子の全体積に対する接合剤材料の含有量は
さらに多くともよく、例えば約10体積%以上、約20体積%以上、約30体積%以上、
約40体積%以上、約50体積%以上、約60体積%以上、約70体積%以上、約80体
積%以上、またさらには約90体積%以上であってもよい。さらに、別の非限定的な実施
形態では、凝集粒子の全体積に対して、凝集粒子中の接合剤材料の含有量は、約95体積
%以下、例えば約90体積%以下、約80体積%以下、約70体積%以下、約60体積%
以下、約50体積%以下、約40体積%以下、約30体積%以下、約20体積%以下、ま
たさらには約10体積%以下であってもよい。凝集粒子内の接合剤材料の含有量が上記の
最小百分率と最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
粒子は、凝集粒子の全体積に対して、約1体積%以上の細孔を含むことができる。他の実
例では、凝集粒子の全体積に対して、細孔の含有量はさらに多くてもよく、例えば約5体
積%以上、約10体積%以上、約20体積%以上、約30体積%以上、約40体積%以上
、約50体積%以上、約60体積%以上、約70体積%以上、またはさらには約80体積
%以上であってもよい。さらに、他の非限定的実施形態では、凝集粒子の全体積に対して
、細孔の含有量は、約90体積%以下、約80体積%以下、約70体積%以下、約60体
積%以下、約50体積%以下、約40体積%以下、約30体積%以下、約20体積%以下
、またはさらには約10体積%以下であってもよい。凝集粒子内の細孔の含有量が上記の
最小百分率と最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
ってもよく、これは概して、凝集粒子の体積内で互いに離間した離散的な孔として定義さ
れる。少なくとも一つの実施形態では、凝集粒子内の細孔の大部分は、閉じた細孔であっ
てもよい。あるいは細孔は、開いた細孔であってもよく、これは、凝集粒子の体積を通じ
て延びる相互接続した通路のネットワークとして定義される。特定の実例では、細孔の大
部分が開いた細孔であってもよい。
って、凝集粒子を形成してもよい。凝集粒子を形成するのに好適な工程には、選別、混合
、乾燥、固化、無電解メッキ、電解メッキ、焼結、ロウ接、噴霧、印刷、およびそれらの
組み合わせが挙げられる。
できる。例えば、凝集粒子は、砥粒品の一つまたは複数の構成成分層を形成しつつ形成し
てもよい。凝集粒子を、砥粒品とともにその場形成するのに好適な工程には、堆積工程を
挙げることができる。特定の堆積工程には、メッキ、電気メッキ、浸漬、噴霧、印刷、被
膜形成、重力被覆、およびそれらの組み合わせを挙げることができるが、これらに限定さ
れない。少なくとも一つの特定の実施形態では、凝集粒子を形成する工程は、メッキ工程
を通じて接合層と凝集粒子とを同時に形成することを含む。
に、粒子被膜層は、砥粒粒子の外面を被覆することができ、より詳細には、砥粒粒子の外
面と直接接触していてもよい。粒子被膜層として使用するのに好適な材料には、金属また
は合金を挙げることができる。特定の一実施形態によれば、粒子被膜層は、遷移金属元素
、例えばチタン、バナジウム、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、
亜鉛、マンガン、タンタル、タングステン、およびそれらの組み合わせを含むことができ
る。一つの特定の粒子被膜層は、ニッケル、例えばニッケル合金、そしてさらには、第1
の粒子被膜層内に存在する他の種と比較して、重量パーセントで測定してニッケルが主要
な含有量を占める合金を含むことができる。より詳細な実例では粒子被膜層は、単一の金
属種を含むことができる。例えば第1の粒子被膜層は、本質的にニッケルからなっていて
もよい。粒子被膜層はメッキ層とすることができ、電解メッキ層および非電解メッキ層と
してもよい。
きる。例えば粒子被膜層は、砥粒粒子の外表面積の約50%以上を被覆していてもよい。
他の実施形態では、粒子被膜層の被覆率はさらに大きくすることができ、例えば、約75
%以上、約80%以上、約90%以上、約95%以上、またはさらには本質的に砥粒粒子
の全外面とすることができる。
含有量を有するように形成されてもよい。例えば粒子被膜層は、砥粒粒子それぞれの全重
量の約5%以上とすることができる。他の実例では、砥粒粒子それぞれの全重量に対する
粒子被膜層の相対含有量はもっと多くすることができ、例えば約10%以上、約20%以
上、約30%以上、約40%以上、約50%以上、約60%以上、約70%以上、または
さらには約80%以上とすることができる。さらに、別の非限定的な実施形態では、砥粒
粒子の全重量に対する粒子被膜層の相対含有量は約99%以下、例えば、約90%以下、
約80%以下、約70%以下、約60%以下、約50%以下、約40%以下、約30%以
下、約20%以下、またはさらには約10%以下であってもよい。砥粒粒子の全重量に対
する粒子被膜層の相対含有量が上記の最小百分率と最大百分率のいずれかの間の範囲内に
あってもよいことは理解されよう。
ように形成することができる。例えば粒子被膜層は、約5ミクロン以下、例えば約4ミク
ロン以下、約3ミクロン以下、またはさらには約2ミクロン以下の平均厚さを有すること
ができる。さらに、非限定的な一実施形態によれば、粒子被膜層は、約0.01ミクロン
以上、0.05ミクロン、約0.1ミクロン以上、またはさらには約0.2ミクロン以上
の平均厚さを有することができる。粒子被膜層の平均厚さが上記の最小値と最大値のいず
れかの範囲内にあってもよいことは理解されよう。
ることができる。例えば粒子被膜層は、砥粒粒子を被覆する第1の粒子膜層と、第1の粒
子膜層を被覆し第1の粒子膜層とは異なる第2の粒子膜層とを含んでいてもよい。第1の
粒子膜層は、砥粒粒子の外面に直接接触していてもよく、第2の粒子膜層は、第1の粒子
膜層に直接接触していてもよい。第1の粒子膜層および第2の粒子膜層は、少なくとも一
つの材料パラメータ、例えば平均厚さ、組成、融点、またはそれらの組み合わせに基づい
て、互いに異なるものとすることができる。
させやすくする特定のサイズを有していてもよい。例えば、砥粒粒子212は、500ミ
クロン以下、例えば、300ミクロン以下、200ミクロン以下、150ミクロン以下、
100ミクロン以下、80ミクロン以下、70ミクロン以下、60ミクロン以下、50ミ
クロン以下、40ミクロン以下、30ミクロン以下、またはさらには20ミクロン以下の
平均粒子サイズ(PSa)を有することができる。さらに、非限定的な実施形態では、砥
粒粒子212は、約0.1ミクロン以上、例えば約0.5ミクロン以上、約1ミクロン以
上、約2ミクロン以上、約5ミクロン以上、またはさらには約8ミクロン以上の平均粒子
サイズ(PSa)を有していてもよい。平均粒子サイズが、例えば1ミクロン以上かつ1
00ミクロン以下、または2ミクロン以上かつ80ミクロン以下を含め、上記の最小百分
率と最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
の製造および/または性能を向上させやすくなることもある。例えば混合物204は、混
合物の全重量に対して5重量%以上の砥粒粒子を含んでいてもよい。さらに、他の実例で
は、混合物204中の砥粒粒子212の含有量はさらに多くすることができ、混合物の全
重量に対して、例えば、8重量%以上、または10重量%以上、または12重量%以上、
または14重量%以上、または16重量%以上、または18重量%以上、または20重量
%以上、または22重量%以上、または24重量%以上、または26重量%以上、または
28重量%以上、または30重量%以上、または32重量%以上、または34重量%以上
、または36重量%以上、または38重量%以上、または40重量%以上、または42重
量%以上、または44重量%以上、または46重量%以上、または48重量%以上、また
は50重量%以上とすることができる。さらに、少なくとも一つの非限定的な実施形態で
は、混合物204中の砥粒粒子212の含有量は、混合物の全重量の重量に対して、80
重量%以下、例えば、75重量%以下、または70重量%以下、または65重量%以下、
または60重量%以下、または55重量%以下、または50重量%以下、または45重量
%以下、または40重量%以下、または30重量%以下、または25重量%以下、または
20重量%とすることができる。混合物204が上記の最小百分率と最大百分率のいずれ
かを含む範囲内にある含有量の砥粒粒子212を含むことができるのは理解されよう。さ
らに、混合物204中の砥粒粒子212の含有量を、基材のサイズ(例えば、幅または直
径)、砥粒粒子の平均粒子サイズ、および最終的に形成される砥粒品中の基材上に存在す
る砥粒粒子の所望の濃度に応じて制御し修正することができる。
もよく、この微粒子は粘着材料を含むことができる。微粒子213は、粉末材料、例えば
、本明細書の実施形態に記載されるような、離散的な粘着領域および離散的な形成物を形
成するのに適した原料粉末であってもよい。微粒子213は、本質的に粘着材料からなっ
ていてもよい。さらなる加工、例えば接合層の塗布であってもよいが、この加工を完了さ
せて基材201に砥粒粒子を永久に固定できるようになるまで、微粒子213によって基
材201に砥粒粒子212を暫定的に接合させやすくしてもよい。
らの組み合わせから形成することができる。特定の一実施形態では粘着材料は、遷移金属
元素を含む材料から形成することができる。例えば粘着材料は、遷移金属元素を含む合金
とすることができる。いくつかの適切な遷移金属元素には、鉛、銀、銅、亜鉛、インジウ
ム、スズ、チタン、モリブデン、クロム、鉄、マンガン、コバルト、ニオブ、タンタル、
タングステン、パラジウム、白金、金、ルテニウム、およびそれらの組み合わせを挙げる
ことができる。特定の一実施形態によれば、粘着材料は、スズおよび鉛を含む合金から形
成することができる。スズおよび鉛のそうした合金は特に、鉛と比較して、含まれるスズ
が主要な含有量を占めていてもよく、約60/40以上のスズ/鉛組成物が挙げられるが
これに限定されない。
きる。実際、特定の砥粒品では、粘着材料は、本質的にスズからなっていてもよい。単体
のまたはハンダ中のスズは、約99%以上、例えば約99.1%以上、約99.2%以上
、約99.3%以上、約99.4%以上、約99.5以上、約99.6%以上、約99.
7%以上、約99.8%以上、またはさらには約99.9%以上の純度を有することがで
きる。別の態様では、スズは、約99.99%以上の純度を有することができる。特定の
一実例では、粘着材料はマットスズ材料を含むことができる。粘着材料は、メッキされた
材料(すなわち粘着層)の全重量に対して約0.5重量%以下の有機物含有量を有してい
てもよい。
の融点、例えば約450℃以下の融点を有する材料を含んでいてもよいことは理解されよ
う。ハンダ材料は、ロウ接材料とは異なっており、ロウ接材料は概して、ハンダ材料より
もかなり高い融点、例えば450℃以上、より典型的には500℃以上の融点を有する。
さらに、ロウ接材料は、異なる組成を有していてもよい。一実施形態によれば、本明細書
における実施形態の粘着材料は、約400℃以下、例えば、約375℃以下、約350℃
以下、約300℃以下、またはさらには約250℃以下の融点を有する材料から形成して
もよい。さらに粘着材料は、約100℃以上、例えば、約125℃以上、約150℃以上
、またはさらには約175℃以上の融点を有していてもよい。粘着材料が上記の最小温度
と最高温度のいずれかの間の範囲内にある融点を有していてもよいことは理解されよう。
て、バリア層と粘着材の組成物は、少なくとも1種の元素が共通するようにしてもよい。
さらに別の実施形態では、バリア層および粘着材料は全く異なる材料とすることができる
。
または性能を向上させやすくする特定の粒子サイズを有していてもよい。例えば、微粒子
213は、50ミクロン以下、例えば40ミクロン以下、30ミクロン以下、25ミクロ
ン以下、20ミクロン以下、18ミクロン以下、15ミクロン以下、12ミクロン以下、
10ミクロン以下、8ミクロン以下、5ミクロン以下、またはさらには3ミクロン以下の
平均粒子サイズ(PSp)を有することができる。さらに、非限定的な実施形態では、微
粒子213は、約0.01ミクロン以上、例えば、約0.05ミクロン以上、約0.1ミ
クロン以上、約0.22ミクロン以上、約0.5ミクロン以上、またはさらには約1ミク
ロン以上の平均粒子サイズ(PSp)を有していてもよい。平均粒子サイズが、例えば、
0.01ミクロン以上かつ50ミクロン以下、0.1ミクロン以上かつ10ミクロン以下
、またはさらには0.5ミクロン以上かつ7ミクロン以下を含め、上記の最小百分率と最
大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
より、砥粒品の製造および/または性能を向上させやすくなる場合がある。例えば混合物
204は、混合物の全重量に対して0.1重量%以上の微粒子を含んでいてもよい。さら
に、他の実例では、混合物204中の微粒子213の含有量はさらに多くすることができ
、混合物の全重量に対して、例えば、0.2重量%以上、または0.3重量%以上、また
は0.4重量%以上、または0.5重量%以上、または0.8重量%以上、または1重量
%以上、または1.2重量%以上、または1.5重量%以上、または1.8重量%以上、
または2重量%以上、または2.2重量%以上、または2.5重量%以上、または2.8
重量%以上、または3重量%以上、または4重量%以上、または5重量%以上、または6
重量%以上、または7重量%以上、または8重量%以上、または9重量%以上、または1
0重量%以上とすることができる。さらに、少なくとも一つの非限定的な実施形態では、
粘着材料を含む微粒子213の、混合物204中の含有量は、混合物の全重量に対して、
25重量%以下、または22重量%以下、または20重量%以下、または18重量以下、
15重量%以下、12重量%以下、10重量%以下、または9重量%以下、または8重量
%以下、または7重量%以下、または6重量%以下5重量%以下、または4重量%以下、
または3重量%以下とすることができる。混合物204が、0.2重量%以上かつ20重
量%以下、またはさらには0.5重量%以上かつ10重量%以下を含め、上述した最小百
分率と最大百分率のいずれかの範囲内にある含有量の、粘着材料を含む微粒子213を含
んでいてもよいことは理解されよう。さらに、混合物204中の微粒子の含有量を、基材
のサイズ(例えば、幅または直径)と、砥粒粒子の平均粒子サイズと、最終的に形成され
る砥粒品中の基材上に存在する砥粒粒子の所望の濃度とに応じて制御し修正することがで
きる。
平均粒子サイズが、砥粒品の製造および/または性能を向上させやすくする特定の関係を
とるようにすることができる。例えば、混合物204は、平均粒子サイズ(PSa)を有
する砥粒粒子212と、平均粒子サイズ(PSp)を有する微粒子とを含むことができ、
この場合、混合物204は、比(PSp/Psa)が1以下となるように形成することが
できる。他の実例では、比(PSp/PSa)はもっと小さくすることができ、例えば0
.9以下、または0.8以下、または0.7以下、または0.6以下、または0.5以下
、または0.4以下、または0.3以下、または0.2以下、または0.18以下、また
は0.16以下、または0.15以下、または0.014以下、または0.13以下、ま
たは0.12以下、または0.11以下、または0.1以下、または0.09以下、また
は0.08以下、または0.07以下、または0.06以下、または0.05以下、また
は0.04以下、または0.03以下、または0.02以下とすることができる。さらに
、少なくとも一つの非限定的な実施形態では、混合物204は、比(PSp/PSa)が
0.01以上、例えば、0.02以上、または0.03以上、または0.04以上、また
は0.05以上、または0.06以上、または0.07以上、または0.08以上、また
は0.09以上、または0.1以上、または0.11以上、または0.12以上、または
0.13以上、または0.14以上、または0.15以上、または0.16以上、または
0.17以上、または0.18以上、または0.19以上、または0.2以上、または0
.3以上、または0.4以上、または0.5以上、または0.6以上、または0.7以上
、または0.8以上、または0.9以上となるように形成することができる。混合物20
4は、比(PSp/PSa)が、例えば、0.01以上かつ1以下、0.01以上かつ0
.5以下、またはさらには約0.025以上かつ約0.25以下を含め、上記の最小値と
最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。さらには、比(PS
p/PSa)を、基材のサイズ(例えば、幅または直径)、および最終的に形成される砥
粒品中の基材上に存在する砥粒粒子の所望の濃度に応じて制御し修正してもよい。
212および微粒子213の、混合物中でのそれぞれの含有量が、砥粒品の製造および/
または性能を向上させやすくすることができる特定の関係をとるようすることができる。
例えば、混合物204は、砥粒粒子の含有量(Cap)および微粒子の含有量(Cp)を
有し、混合物204は、比(Cp/Cap)が10以下となるように形成することができ
る。他の実例では、比(Cp/Cap)は、もっと小さくすることができ、例えば、5以
下、または3以下、または2以下、または1以下、または0.9以下、または0.8以下
、または0.7以下、または0.6以下、または0.5以下、または0.4以下、または
0.3以下、または0.2以下、または0.18以下、または0.16以下、または0.
15以下、または0.014以下、または0.13以下、または0.12以下、または0
.11以下、または0.1以下、または0.09以下、または0.08以下、または0.
07以下、または0.06以下、または0.05以下、または0.04以下、または0.
03以下、または0.02以下とすることができる。さらには、少なくとも一つの非制限
的実施形態では、混合物204は、比(Cp/Cap)が0.001以上、または0.0
025以上、または0.004以上、または0.006以上、または0.008以上、ま
たは0.01以上、または0.02以上、または0.03以上、または0.04以上、ま
たは0.05以上、または0.06以上、または0.07以上、または0.08以上、ま
たは0.09以上、または0.1以上、または0.11以上、または0.12以上、また
は0.13以上、または0.14以上、または0.15以上、または0.16以上、また
は0.17以上、または0.18以上、または0.19以上、または0.2以上、または
0.3以上、または0.4以上、または0.5以上、または0.6以上、または0.7以
上、または0.8以上、または0.9以上となるように形成することができる。混合物2
04は、比(Cp/Cap)が、例えば、0.001以上かつ1以下、さらには0.01
以上かつ0.5以下、またはさらには0.025以上かつ0.25以下を含め、上記の最
小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。さらに、比(
Cp/Cap)は、基材のサイズ(例えば幅または直径)および最終的に形成される砥粒
品中の基材上に存在する砥粒粒子の所望の濃度に応じて制御し修正してもよい。
添加剤とを懸濁させるための担体を含むことができる。一実施形態によれば担体は水を含
むことができ、混合物は水性スラリーとなる。
04は、フラックス材料211を含むことができ、この材料は、基材201を混合物20
4に通して移送する際に、この基材に塗布してもよい。特定の一実施形態によれば、加工
時にはフラックス材料211は、基材201が移送され混合物204から脱出する際に、
基材上に概して連続的でコンフォーマル(conformal)な被膜を形成してもよく
、これにより、砥粒粒子212と微粒子213を基材201上に適切に結合させやすくす
ることができる。フラックス材料211は、液体またはペーストの形態をとることができ
る。例示的な少なくとも一つの実施形態では、フラックス材料211は、塩化物、酸、界
面活性剤、溶媒、有機物、水、およびそれらの組み合わせなどの材料を含むことができる
。特定の一実施形態では、フラックス材料211は、塩酸塩、塩化亜鉛、およびそれらの
組み合わせを含むことができる。
212、微粒子213、およびフラックス211の少なくとも一部分が基材201に付着
するようにすることができる。特に、基材201が混合物204から脱出するさいに、フ
ラックス材料211と、砥粒粒子212と、粘着材料を含む微粒子213とを含む材料の
層を、基材201に同時に付着させることができる。混合物204のレオロジーおよび基
材201の移送速度を制御して、フラックス材料211、砥粒粒子212、および微粒子
213を基材201に適切に塗布しやすくしてもよいことは理解されよう。特に、フラッ
クス材料211、砥粒粒子212、および微粒子213を基材201に付着させる工程は
、1℃以上かつ300℃以下を含む範囲内の温度で実行することができる。特にこの温度
範囲では、微粒子材料が、液(例えば溶融した)相とは反対の固相にあることが保証され
る場合があるので、本明細書における実施形態の特徴を有する砥粒品を形成しやすくする
ことができる。特に、混合物204中の微粒子213は、基材201に最初に付着したと
きに固体の形態および固体の形態をとることができる。その後の工程、例えば処理の工程
中に、微粒子213の相を固相から液相に変化させてもよい。
てもよい。一実施形態によれば、混合物204は、25℃の温度、1 1/sのせん断速
度での粘度が、0.1mPa・s以上かつ1Pa・s以下であるニュートン流体であって
もよい。また、混合物204は、その粘度が、25℃の温度での測定、10 1/sのせ
ん断速度で、1mPa・s以上かつ100Pa・s、またはさらには約10Pa・s以下
である非ニュートン流体であってもよい。粘度は、TA InstrumentsのAR
−G2回転レオメーターを用い、25mmの平行平板、約2mmの間隙、25℃の温度で
0.1〜10 1/sのせん断速度を用いて測定することができる。一つまたは複数の粘
度調整剤を、混合物204への添加剤として添加してもよい。例えば、混合物204は少
量の添加剤を含んでいてもよく、その中に粘度調整剤が含まれていてもよい。いくつかの
好適な粘度調整剤には、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの
有機材料を挙げることができる。
を処理して砥粒品プリフォームに形成することによりステップ103を続行することがで
きる。一実施形態によれば処理は、100℃以上かつ450℃以下の範囲内の温度にプリ
フォームを加熱することを含む。処理工程は、微粒子213の少なくとも一部分を融解さ
せて流体または半流動状態にしやすくしてもよく、これにより、微粒子213の少なくと
も一部分が、砥粒粒子の少なくとも一部分に接触して、砥粒粒子212を基材212の表
面に暫定的に接合させる。さらに、処理工程は、基材201の表面上の微粒子材料につい
てのみ、その特定の部分を蓄積しやすくして、特定の離散的な形成物が形成されるようし
てもよい。処理は、基材201をヒーター206に通して移送することを含んでいてもよ
く、これにより、離散的な粘着領域において基材201の表面に暫定的に接合した砥粒粒
子212を有する砥粒品プリフォームの加熱と形成、そしてまた、本明細書において以下
に記載する離散的な形成物の形成が行いやすくなる。また本開示に照らして理解されるよ
うに、基材201の表面に、砥粒粒子212、微粒子213、およびフラックス材料21
1を付着させこの物品を処理する工程により、基材201の表面上に粘着材料の不連続な
被膜が形成されやすくなる場合がある。
ックスと他の不要な材料を除去してもよい。一実施形態によれば、洗浄工程は、水、酸、
塩基、界面活性剤、触媒、溶媒、およびそれらの組み合わせの一つまたは組み合わせを利
用してもよい。特定の一実施形態では、洗浄工程は、段階的工程とすることができ、概し
て中性の材料、例えば水または脱イオン水を用いた砥粒品のすすぎから始める。水は、室
温、または熱くて約40℃以上の温度を有していてもよい。すすぎ操作の後、洗浄工程は
アルカリ処理を含んでいてもよく、この場合、砥粒品は特定のアルカリ度を有する浴に通
され、この浴はアルカリ性材料を含んでいてもよい。アルカリ処理は、室温、または高温
で行ってもよい。例えば、アルカリ処理の浴は、その温度が約40℃以上、例えば、約5
0℃以上、またはさらには約70℃以上、かつ約200℃以下であってもよい。砥粒品を
、アルカリ処理の後にすすいでもよい。
媒、界面活性剤、およびそれらの組み合わせを含む、特定の元素または化合物を有する浴
に、砥粒品を通すことを含んでいてもよい。特定の一実施形態では、活性化処理は、酸、
例えば強酸、より詳細には、塩酸、硫酸、およびそれらの組み合わせを含むことができる
。いくつかの実例では、活性化処理は、ハロゲン化物またはハロゲン化物含有材料を含ん
でいてもよい触媒を含むことができる。触媒のいくつかの適切な例には、フッ化水素カリ
ウム、重フッ化アンモニウム、二フッ化ナトリウムなどを挙げることができる。
度が、約40℃以上、しかし約200℃以下であってもよい。砥粒品は、活性化処理後に
すすいでもよい。
成後に露出面を有する砥粒品を形成しやすくしてもよい。例えば、一実施形態では、砥粒
粒子上の粒子被膜層の少なくとも一部分を選択的に除去する随意の工程を利用してもよい
。この選択的除去工程は、粒子被膜層の材料が除去される一方で、砥粒品の他の材料、例
えば、粘着層はそれほど影響されない、または本質的に影響されないように行なってもよ
い。特定の実施形態によれば、この選択的除去の工程は、エッチングを含む。いくつかの
適切なエッチング工程には、ウェットエッチング、ドライエッチング、およびそれらの組
み合わせを挙げることができる。特定の実例では、砥粒粒子の粒子被膜層の材料を選択的
に除去し粘着層をそのまま残すように構成された特定のエッチング剤を使用してもよい。
いくつかの適切なエッチング剤には、硝酸、硫酸、塩酸塩の酸、有機酸、硝酸塩、硫酸塩
、塩化物の塩、アルカリ性シアン化物系溶液、およびそれらの組み合わせを挙げることが
できる。
接合層の形成を続行してもよい。接合層の形成により、耐摩耗性および粒子保持性を含む
がこれらに限定されない性能を向上させた砥粒品を、形成しやすくすることができる。一
実施形態によれば、接合層は、砥粒粒子、粘着材料の部分、および基材の部分に直接接合
させることができる。
キ(電解または無電解)、噴霧、浸漬、印刷、被膜形成、およびそれらの組み合わせが挙
げられる。特定の一実施形態によれば、接合層はメッキ工程によって形成することができ
る。少なくとも一つの特定の実施形態では、メッキ工程は電解メッキ工程とすることがで
きる。別の実施形態では、メッキ工程は、無電解メッキ工程を含むことができる。
定の例では、接合層は、基材の外面および砥粒粒子の外面の大部分を被覆していてもよい
。特定の実施形態では接合層は、砥粒品プリフォームおよび最終的に形成される砥粒品の
外面の90%以上を被覆するように形成することができる。他の実施形態では、接合層の
被覆率はもっと大きくすることができ、例えば、砥粒品プリフォームおよび最終的に形成
される砥粒品全体の約92%以上、約95%以上、またはさらには約97%以上を被覆す
るようにすることができる。特定の一実施形態では、接合層は、砥粒品の外面の本質的に
すべてを被覆するように形成することができる。さらに別の実施形態では、接合層を選択
的に配置して、露出領域を砥粒品上に形成できるようにすることができる。
することができる。いくつかの適切な有機材料には、UV硬化性ポリマー、熱硬化性樹脂
、熱可塑性樹脂、およびそれらの組み合わせなどのポリマーを挙げることができる。他の
いくつかの好適なポリマー材料には、ウレタン、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ア
クリレート、ポリビニル、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。
材料、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。一つの特定の実例では、接合層
は、少なくとも1種の遷移金属元素を有する材料、より詳細には、遷移金属元素を含む合
金から形成することができる。接合層に使用するいくつかの適切な遷移金属元素には、ニ
ッケル、鉛、銀、銅、亜鉛、スズ、チタン、モリブデン、クロム、鉄、マンガン、コバル
ト、ニオブ、タンタル、タングステン、パラジウム、白金、金、ルテニウム、またはそれ
らの組み合せを挙げることができる。特定の実例では、接合層は、ニッケルを含むことが
でき、ニッケルを含む合金、またはさらにはニッケル系合金であってもよい。さらに他の
実施形態では、接合層は本質的にニッケルからなっていてもよい。
などの材料から形成することができる。例えば接合層は、式((Hb−Ht)/Hb)×
100%の絶対値に基づいて、そのVickers硬度を粘着材料のVickers硬度
より約5%以上硬くすることができ、ここで、Hbは接合層の硬度を表し、Htは粘着層
の硬度を表す。一実施形態では接合層は、粘着層の硬度よりも約10%以上硬くすること
ができ、例えば、約20%以上、約30%以上、約40%以上、約50%以上、約75%
以上、約90%以上、またはさらには約99%以上硬くすることができる。さらに、別の
非限定的な実施形態では、接合層は、粘着材料の硬度よりも約99%以下硬くてもよく、
例えば、約90%以下、約80%以下、約70%以下、約60%以下、約50%以下、約
40%以下、約30%以下、約20%以下、約10%以下硬くてもよい。接合層と粘着材
料の硬度の間の差が上記の最小百分率と最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってもよ
いことは理解されよう。
法によって測定されたその破壊靭性(K1c)を粘着材料の平均破壊靱性より約5%以上
大きくすることができ、ここでTbは接合層の破壊靭性を表し、Ttは粘着材料の破壊靭
性を表す。一実施形態では接合層は、その破壊靭性を、粘着材料の破壊靭性よりも約8%
以上大きくすることができ、例えば約10%以上、約15%以上、約20%以上、約25
%以上、約30%以上、またはさらには約40%以上大きくすることができる。さらに、
他の非限定的な実施形態では、接合層の破壊靭性は、粘着材料の破壊靭性の約90%以下
大きくともよく、例えば、約80%以下、約70%以下、約60%以下、約50%以下、
約40%以下、約30%以下、約20%以下、またはさらには約10%以下大きくともよ
い。接合層の破壊靭性と粘着材料の破壊靭性との間の差異が上記の最小百分率と最大百分
率のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
の性能特性を向上させるのに適したさまざまな材料とすることができる。いくつかの適切
な充填材料には、砥粒粒子、中空球などの細孔形成材、ガラス球、発泡アルミナ、殻およ
び/または繊維などの天然素材、金属粒子、黒鉛、潤滑性材料、ならびにそれらの組み合
わせを挙げることができる。
特性を有する接合層を生成するために一つまたは複数の添加剤、例えば湿潤剤、硬化剤、
応力低減剤、およびレベリング剤がメッキ液に含まれていてもよく、これにより、砥粒品
の性能が向上することもある。例えば、イオウ、または最終的に形成される層にイオウを
形成する材料を含有する添加剤をメッキ液に含ませることにより、硬度および引張応力を
制御するためのイオウを含む接合層を製造することができる。そのような添加剤のいくつ
かの適切な例には、サッカリン、メタベンゼンジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ナトリ
ウムなどを挙げることができる。接合層は、特定含有量のイオウ、例えば接合層の全重量
に対して50ppm以上のイオウを含んでいてもよい。さらに他の実例では、接合層中の
イオウの含有量は、もっと大きくすることができ、接合層の全重量に対して、例えば60
ppm以上、または70ppm以上、または80ppm以上、または90ppm以上、ま
たは100ppm以上、または120ppm以上、または140ppm以上、または16
0ppm以上、または180ppm以上、または200ppm以上、または250ppm
以上、または300ppm以上、または350ppm以上、または400ppm以上とす
ることができる。さらには、少なくとも一つの非限定的な実施形態では、接合層中のイオ
ウの含有量は、接合層の全重量に対して2000ppm以下とすることができ、例えば、
1500ppm以下、1000ppm以下、900ppm以下、800ppm以下、70
0ppm以下、600ppm以下、500ppm以下とすることができる。接合層中のイ
オウの含有量が上記の最小百分率と最大百分率のいずれかを含む範囲内にあることは理解
されよう。
粒子は、混合物に含まれ基材201に付着する砥粒粒子212と同一でも異なっていても
よい。砥粒粒子充填材は、特にサイズに関して、砥粒粒子212と顕著に異なっていても
よく、これにより特定の実例では、砥粒粒子充填剤が、砥粒粒子212の平均粒子サイズ
よりも実質的に小さい平均粒子サイズ有するようにすることができる。例えば、砥粒粒子
充填材は、砥粒粒子212の平均粒子サイズの少なくとも約2分の1の平均グレインサイ
ズを有することができる。実際、砥粒充填材は、その平均粒子サイズがさらに小さくても
よく、例えば、砥粒粒子212の平均粒子サイズの、少なくとも3分の1の程度、例えば
少なくとも約5分の1、少なくとも約10分の1の程度、特に約2分の1から約10分の
1の範囲内にあってもよい。
モンド、ホウ化物、窒化物、酸化物、酸窒化物、酸ホウ化物、およびそれらの組み合わせ
などの材料から作製することができる。特定の実例では、砥粒グレイン充填材は、ダイヤ
モンド、立方晶窒化ホウ素、またはその組み合わせなどの超砥粒材料とすることができる
。
を形成することを含んでいてもよい。少なくとも一つの実例では、被膜層は、接合層の少
なくとも一部分と直接接触するように形成することができる。被膜層の成形は、堆積工程
を含むことができる。いくつかの適切な堆積工程には、メッキ(電解または無電解)、噴
霧、浸漬、印刷、被膜形成、およびそれらの組み合わせを挙げることができる。
様によれば、被膜層は、金属、合金、サーメット、セラミック、有機物、ガラス、および
それらの組み合わせなどの材料を含むことができる。より詳細には被膜層は、遷移金属元
素、例えば、チタン、バナジウム、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、
銀、亜鉛、マンガン、タンタル、タングステン、及びそれらの組み合わせの群から得られ
る金属を含むことができる。特定の実施形態では、被膜層は、ニッケルが主要な含有量を
占めることができ、実際に、ニッケルから本質的になっていてもよい。あるいは、被膜層
は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、およびそれらの組み合わせを含むことができる。一実
例では被膜層は樹脂材料を含んでおり、溶媒は本質的に含まなくてもよい。
材料であってもよい。特定の実施形態では、被膜層充填材料は、砥粒粒子の形態をとって
いてもよく、この粒子は、基材201上に付着した砥粒粒子212と同一であっても異な
っていてもよい。被膜層充填材料として使用される砥粒粒子の特定の好適な種類には、炭
化物、炭素系材料(例えば、ダイヤモンド)、ホウ化物、窒化物、酸化物、及びそれらの
組み合わせを挙げることができる。いくつかの代替充填材料には、中空球などの細孔形成
材、ガラス球、発泡アルミナ、殻および/または繊維などの天然素材、金属粒子、ならび
にそれらの組み合わせを挙げることができる。
定の実例では、被膜層充填材料は、その平均粒子サイズが、実質的に砥粒粒子212の平
均粒子サイズ未満となるようにすることができる。例えば、被膜層充填材料は、その平均
粒子サイズが砥粒粒子212の平均粒子サイズの少なくとも約2分の1とすることができ
る。実際、被膜層充填材料は、その平均粒子サイズがさらに小さくともよく、砥粒粒子2
12の平均粒子サイズの、例えば少なくとも3分の1、例えば、少なくとも約5分の1、
少なくとも約10分の1、特に約2分の1から約10分の1の範囲内にあってもよい。
示のように、砥粒品300は、長尺体、例えばワイヤの形態をとる基材201を含むこと
ができる。さらに例示のように、砥粒品300は、基材201の外面を被覆する複数の離
散的な粘着領域303を含むことができる。砥粒品300はさらに、砥粒粒子212を含
むことができ、これらの粒子は、離散的な粘着領域303において基材201に接合する
ことができる。砥粒品300はさらに、基材201を被覆することができる離散的な形成
物305を含むことができる。さらに、砥粒品300は、基材201と、砥粒粒子212
と、離散的な粘着領域303と、離散的な形成物305とを被覆する接合層301を含む
ことができる。例示にはないが、砥粒品が、本明細書に記載の他の構成成分層、例えばバ
リア層、被膜層などを含んでいてもよいことは理解されよう。
って画定することができ、この粘着材料が砥粒粒子212に接合して、加工中に砥粒粒子
212を基材201に暫定的に接合させる場合がある。加工方法に起因して、処理中に砥
粒粒子に最も近い微粒子材料が、砥粒粒子の周りに優先的に集まることがあり、これによ
り、粘着材料304の連続的なそしてコンフォーマルな被膜とは反対の、離散的な粘着領
域が形成される。したがって、離散的な粘着領域303は、粘着材料304を含むことが
でき、粘着材料は、本明細書に記載された粘着材料の特徴のいずれかを有する。例えば、
例示のように、離散的な粘着領域303は、基材を被覆する粘着材料304の部分のよう
な、不連続な分布の特徴とすることができる。特定の実例では、少なくとも一つの離散的
な粘着領域を別の離散的な粘着領域から分離し離間させることにより、離散的な粘着領域
どうしの間の領域が、粘着材料304を本質的に含まないようにすることができる。した
がって、基材201の表面上の粘着材料304は不連続層を画定して、開口部または間隙
を画定し、この場合には基材201の上面は、粘着材料304を本質的に含まないものと
することができる。離散的な粘着領域303は、基材201に直接接合することができる
。一実施形態では本質的に、砥粒品全体は、離散的な粘着領域303を含むことができ、
砥粒品303は、粘着材料304の連続的な層を本質的に含まないものとすることができ
る。
すことができ、これらの間隙領域は、接合層301を被覆する粘着材料304が存在しな
い砥粒品の部分を画定する。したがって接合層301は、間隙領域307において、基材
201に直接接触し直接接合することができる。特定の実例では砥粒品300は、離散的
な粘着領域303の含有量と比較して、砥粒品300の表面上の間隙領域307の含有量
が(面積で測定して)さらに大きくてもよい。さらに他の実施形態では砥粒品300は、
間隙領域307の含有量と比較して、砥粒品300の表面上の離散的な粘着領域303の
含有量が(面積で測定して)さらに大きくてもよい。
規則に分布することができる。したがって、離散的な粘着領域303のサイズおよび配置
は、不規則であってもよい。さらに、間隙領域307のサイズおよび配置も不規則であっ
てもよい。
直接接合する離散的な形成物305を含む。離散的な形成物305のそれぞれは、基材2
01に直接接合することができる。一実施形態によれば、少なくとも一つの離散的な形成
物305は、金属材料を含むことができる。より詳細には、離散的な形成物305のぞれ
ぞれは、粘着材料304のような金属材料を含むことができる。少なくとも一つの実施形
態では、離散的な形成物305は、本質的に粘着材料304からなるものとすることがで
き、離散的な粘着領域304の粘着材料304と本質的に同一の組成を有していてもよい
。離散的な形成物305は、粘着材料304を含むことができ、本明細書における実施形
態に記載されている、粘着材料304の特徴のいずれかを有することができる。例えば、
離散的な形成物は、ハンダ材料を含むことができ、スズを含んでいてもよく、より詳細に
は、本質的にスズからなっていてもよい。離散的な粘着領域304、および離散的な形成
物305は、本質的に金属間化合物を含まない材料を含んでいてもよい。
していてもよい。したがって、離散的な形成物305のサイズおよび配置は、不規則であ
ってもよい。さらには、間隙領域307のサイズおよび配置も、不規則であってもよい。
さらに例示されるように、離散的な形成物305は、互いにサイズおよび形状が異なって
いてもよい。
他の離散的な形成物から切り離すことができる。すなわち、間隙領域307が、2つ以上
の離散的な形成物305の間に延びてこれらを切り離すことができ、これにより、離散的
な形成物305のそれぞれを形成する材料中に間隙が存在し、この間隙が接合層301で
充填される。さらに、少なくとも一つの離散的な形成物305は、間隙領域によって、離
散的な粘着領域303から切り離すことができる。同様に、間隙領域307が、離散的な
形成物305と離散的な粘着領域303の間に延びてこれらを切り離すことができ、これ
により、離散的な形成物305と離散的な粘着領域303を形成する材料中に間隙が存在
し、この間隙が接合層301で充填される。少なくとも一つの実施形態では、離散的な形
成物305は、砥粒粒子212を本質的に含まなくてもよい。
は上から見て、概して丸い形状を有することができる。離散的な形成物305は、砥粒粒
子の近傍には存在しなかったものの加工条件のせいで基材201の表面上の場所に蓄積さ
れる微粒子から、加工中に形成されることもある。したがって、離散的な形成物305は
、砥粒粒子から離間させることができ、その特徴を、基材201の表面上の領域であって
砥粒粒子に接合していない、またはそれと繋がっていないものとしてよい。対照的に、離
散的な粘着領域303は、基材201の表面上の離散的なまたは分離した領域であり、そ
の領域と繋がった、そしてその領域内に接合した少なくとも一つの砥粒粒子を有する。
とにより、これが、接合層内で開始する可能性のあるあらゆる亀裂に対して、砥粒品の処
理中の亀裂停止材として作用する場合がある。材料の連続的な被膜とは異なり、離散的な
粘着領域303および離散的な形成物305を特徴とする粘着材料の不連続な被膜により
、亀裂停止が改善し砥粒品の砥粒能力が改善することもある。
着領域303、および離散的な形成物305を被覆することができる。特定の実例では、
接合層301は、基材201、砥粒粒子212、離散的な粘着領域303、および離散的
な形成物305に直接接触し直接接合することができる。
を複数の離散的な粘着領域303および複数の離散的な形成物305の中に含んでいても
よく、この金属材料により、製造および/または性能を向上させやすくなることがある。
例えば、砥粒品300は、複数の離散的な粘着領域303および複数の離散的な形成物3
05の中に2g/km以下の含有量(Cmm)の金属を含むことができ、ここでCmmは
、砥粒品300の長さ1キロメートルあたりの金属材料のグラム数として測定される。さ
らに別の実施形態では、金属材料の含有量(Cmm)は、1g/km以下、または0.8
g/km以下、または0.6g/km以下、または0.4g/km以下、または0.2g
/km以下、または0.1g/km以下、または0.08g/km以下、または0.06
g/km以下、または0.04g/km以下、または0.02g/km以下、またはさら
には0.01g/km以下とすることができる。さらに、別の非制限的な実施形態では、
複数の離散的な粘着領域303および複数の離散的な形成物305における金属材料の含
有量(Cmm)は、0.001g/km以上とすることができ、例えば、0.002g/
km以上、または0.004g/km以上、または0.006g/km以上、または0.
008g/km以上、または0.01g/km以上、または0.02g/km以上、また
は0.04g/km以上、または0.06g/km以上、または0.08g/km以上、
または0.01g/km以上とすることができる。複数の離散的な粘着領域303および
複数の離散的な形成物305における金属材料の含有量(Cmm)が上述の最小値と最大
値のいずれかを含む範囲内にあってもよいことは理解されよう。
る砥粒粒子212の含有量との間に特定の関係を有するように形成してもよく、ここでC
apは、砥粒品300の長さ1キロメートルあたりの砥粒粒子212のグラム数として定
義される。砥粒品300のCmmおよびCapは、誘導結合プラズマ質量分光法などのい
ずれかの標準的な分析方法によって計算してもよい。特に、次の方法を使用して、砥粒品
のCmmとCapを計算してもよい。1)取付け長さの砥粒品300を熱酸に溶解させて
もよい。2)砥粒グレインをろ過によって取得し、それらの重量を決定してもよい。3)
酸溶液中の金属(すなわち、粘着材料)の重量を、誘導結合プラズマ分光法を使用して決
定してもよい。4)砥粒品300の単位取付け長さあたりのCmmおよびCapを計算し
てもよい。一実施形態によれば、砥粒品は、1以下、例えば、0.9以下、または0.8
以下、または0.7以下、または0.6以下、または0.5以下、または0.4以下、ま
たは0.3以下、または0.2以下、または0.18以下、または0.16以下、または
0.15以下、または0.014以下、または0.13以下、または0.12以下、また
は0.11以下、または0.1以下、または0.09以下、または0.08以下、または
0.07以下、または0.06以下、または0.05以下、または0.04以下、または
0.03以下、またはさらには0.02以下である特定の比(Cmm/Cap)を有する
ように形成することができる。さらに別の非限定的な実施形態では、砥粒品300は、0
.002以上、例えば、0.004以上、0.006以上、または0.008以上、また
は0.01以上、または0.02以上、または0.03以上、または0.04以上、また
は0.05以上、または0.06以上、または0.07以上、または0.08以上、また
は0.09以上、または0.1以上、または0.12以上、または0.14以上、または
0.16以上、または0.18以上、または0.2以上、または0.3以上、または0.
4以上、または0.5以上、または0.6以上、または0.7以上、または0.8以上、
または0.9以上である比(Cmm/Cap)を有するように形成してもよい。比(Cm
m/Cap)が、例えば、0.002以上かつ1以下、さらには0.01以上かつ0.5
以下、またはさらには0.025以上かつ0.25以下を含め、上記の最小値と最大値の
いずれかを含む範囲内にあってもよいことは理解されよう。
に形成してもよく、この被覆率は、粘着材料で覆われている基材表面の百分率として定義
される。砥粒品300のTMcは、砥粒品300の試料断面を作製し、この断面の画像を
走査型電子顕微鏡またはエネルギー分散型X線分光法により400Xの倍率で撮影するこ
とによって決定してもよい。基材、粘着材料、および被膜材料は、画像上で異なる色で示
されることになる。TMcの計算は、式TMc=((TSC/SC)*100)に基づい
ており、ここでScは、400Xの倍率の断面画像上で、画像解析ソフトウェア(例えば
ImageJ画像解析ソフトウェア)を用いて測定した基材の外周であり、TScは、4
00Xの倍率の断面画像上で、画像解析ソフトウェア(例えばImageJ画像解析ソフ
トウェア)を用いて測定した、粘着材料で覆われている基材の外周のあらゆる部分の長さ
の総和である。砥粒品のTMcは、砥粒品300の長さに沿って異なる場所における、統
計的に意味のある試料サイズの断面画像の平均TMcとして測定されるものとする。一実
施形態によれば、砥粒品300は、約50%以下、例えば約45%以下、約40%以下、
約35%以下、約30%、約25%以下、約20%以下、約15%以下、約10%以下、
またはさらには約5%以下である特定のTMcを有するように形成してもよい。さらに別
の実施形態によれば、砥粒品300は、約0.01%以上、例えば約0.1%以上、また
はさらには約1%以上である特定のTMcを有するように形成してもよい。砥粒品300
のTMcが上記の最小値および最大値のいずれかを含む範囲内にあってもよいことは理解
されよう。
イズに対する厚さに関して特定の関係を有していてもよい。例えば、接合層301は、砥
粒粒子212の平均粒子サイズの約5%以上の平均厚さを有することができる。平均粒子
サイズに対する接合層301の相対平均厚さは、式(Tb/Tp)×100%の絶対値に
よって計算することができ、ここでTpは平均粒子サイズを表し、Tbは接合層301の
平均厚さを表す。他の実施形態では、接合層301の平均厚さは、さらに大きくすること
ができ、例えば、約8%以上、約10%以上、約15%以上、またはさらには約20%以
上とすることができる。さらに別の非限定的な実施形態では、接合層301の平均厚さは
限定することができ、砥粒粒子212の平均粒子サイズの約50%以下、約40%以下、
約30%以下、またさらには約20%となるようにすることができる。接合層301が上
記の最小百分率と最大百分率のいずれかを含む範囲内の平均厚さを有してもよいことは理
解されよう。
することができる。他の砥粒品の場合、接合層205は、さらに大きな、例えば、約2ミ
クロン以上、約3ミクロン以上、約4ミクロン以上、約5ミクロン以上、約7ミクロン以
上、またはさらには約10ミクロン以上である平均厚さを有することができる。特定の砥
粒品は、約60ミクロン以下、例えば、約50ミクロン以下、例えば、約40ミクロン以
下、約30ミクロン以下、またはさらには約20ミクロン以下である平均厚さを有する接
合層205を有することができる。接合層205が上記の最小値と最大値のいずれかの間
の範囲内にある平均厚さを有してもよいことは理解されよう。
ことができ、これにより砥粒品の性能が向上しやすくなることがある。一実施形態によれ
ば砥粒品300は、基材1mmあたり10個以上、例えば、基材1mmあたり20個以上
、または基材1mmあたり30個以上、または基材1mm当たり40個以上の砥粒粒子濃
度を有することができる。さらに別の非限定的な実施形態では、砥粒粒子濃度を、基材1
mmあたり800個以下、例えば、基材1mmあたり700個以下、または基材1mmあ
たり600個以下、または基材1mmあたり500個以下、または基材1mmあたり40
0個以下、または基材1mmあたり300個以下、または基材1mmあたり200個以下
とすることができる。砥粒粒子濃度が上記の最小値と最大値のいずれかを含む範囲内にあ
ってもよいことは理解されよう。
形成することができ、これにより、砥粒品の性能が向上しやすくなることがある。一実施
形態によれば、砥粒品300は、砥粒品1キロメートル当たり0.5カラット以上、例え
ば、1キロメートル当たり1.0カラット以上、砥粒品1キロメートル当たり約1.5カ
ラット以上、1キロメートル当たり5カラット以上、砥粒品1キロメートル当たり約10
カラット以上、1キロメートル当たり15カラット以上、砥粒品1キロメートル当たり約
20カラット以上である砥粒粒子濃度を有することができる。さらに別の非制限的な実施
形態では、砥粒粒子濃度は、1キロメートル当たり30カラット以下、例えば1キロメー
トル当たり25カラット以下、または1キロメートル当たり20カラット以下、または1
キロメートル当たり18カラット以下、または1キロメートル当たり16カラット以下、
または1キロメートル当たり14カラット以下、または1キロメートル当たり12カラッ
ト以下、または1キロメートル当たり10カラット以下、または1キロメートル当たり8
カラット以下、またはさらには1キロメートル当たり6カラット以下とすることができる
。砥粒粒子濃度が上記の最小値と最大値のいずれかを含む範囲内にあってもよいことは理
解されよう。
ように形成してもよい。APsaは、100個以上の砥粒粒子212が付着した基材の部
分の表面を目視検査することによって計算してもよい。目視検査は、400Xの倍率の下
で実行するものとする。APsaの計算は、式APsa=((TAP/TP)*100)
に基づくが、ここでTPは、目視検査した表面上の砥粒粒子の全数(すなわち100個以
上の砥粒粒子)であり、TAPは、目視検査した表面上の凝集粒子の全数である。凝集砥
粒粒子は、基材の目視検査した表面上のあらゆる砥粒粒子212として定義され、ここで
砥粒粒子212を被覆する接合層205は、少なくとも一つの他の砥粒粒子212を被覆
する接合層205に直接接触している。例示を目的として、図12は、400Xの倍率下
での砥粒品300の一部分の画像を含む。本明細書で定義されるように、砥粒粒子212
aは、砥粒品300の表面上の、凝集砥粒粒子ではない砥粒粒子の例であり、砥粒粒子2
12bは、砥粒品300の表面上の、凝集砥粒粒子である砥粒粒子の例である。一実施形
態では砥粒品300は、約60%以下、例えば、約50%以下、約40%以下、約30%
以下、約20%以下、またはさらには約10%以下である特定のAPsaを有するように
形成してもよい。APsaが上記の値のいずれかを含む範囲内にあってもよいことは理解
されよう。
分の断面画像を含む。図6は、図4の砥粒品の一部分の断面画像を含む。例示のように、
砥粒品400は、基材401と、離散的な粘着領域403において基材401に付着した
砥粒粒子412とを含むことができる。さらに例示のように、砥粒品400は複数の離散
的な形成物405を含むことができ、これらの構造は、基材401の表面に直接結合する
ことができ、そしてさらには間隙領域420によって、互いから、そして離散的な粘着領
域403から離間することができる。したがって、砥粒品400は、不連続な粘着層を含
んでおり、この粘着層は、砥粒粒子412と繋がった、そしてこれらに接合した複数の離
散的な粘着領域403を含み、さらには砥粒粒子412と離散的な粘着領域403とから
離間した離散的な形成物405を含む。
接着する砥粒粒子412の長さと実質的に同一である平均長さを有していてもよい。対照
的に、離散的な形成物403は、それらの形状およびサイズがさらに多様であってもよく
、離散的な粘着領域403、および砥粒粒子412の平均粒子サイズより大きくても小さ
くてもよい。
の直接接触の界面を含むことができる。さらに、離散的な粘着領域403の周辺では、砥
粒品400は、接合層407と、基材401と、離散的な粘着領域403の粘着材料との
間の直接接触を含む三重点境界も含む。さらに、離散的な形成物405の周辺では、砥粒
品400は、接合層407と、基材401と、離散的な形成物405の材料(例えば、粘
着材料)との間の直接接触を含む三重点境界を有することができる。
てもよい。加工対象物には、セラミック、半導体材料、絶縁体材料、ガラス、天然素材(
例えば、石)、有機材料、およびそれらの組み合わせを含むがそれらには限定されないさ
まざまな材料を挙げることができる。より詳細には、加工対象物には、酸化物、炭化物、
窒化物、鉱物、岩石、単結晶材料、多結晶材料、およびそれらの組み合わせを挙げること
ができる。少なくとも一つの実施形態では、本明細書における実施形態の砥粒品は、サフ
ァイア、石英、シリコンカーバイド、およびそれらの組み合わせの加工対象物を薄切りす
るのに適していることもある。
ることができ、従来品と比較して、向上したそして予想外の結果をもたらす特定の動作条
件で使用してもよい。特定の理論に拘束されることを望むものではないが、これら実施形
態の特徴の間にいくつかの相乗効果が存在する可能性が考えられる。
より、切断、薄切り、レンガ形状への切り出し、正方形状への切り出し、または他のいか
なる操作も実行することができる。加工対象物に対する砥粒品のさまざまな種類や向きを
利用することにより、加工対象物を、ウェーハ、レンガ形状、長方形の棒、角柱状断面な
どに分割するようにしてもよい。
もよく、この場合、移動には、第1の位置と第2の位置との間でワイヤ鋸を往復させるこ
とが含まれる。特定の実例では、第1の位置と第2の位置の間での砥粒品の移動には、直
線経路に沿って砥粒品を前後に移動させることが含まれる。ワイヤが往復運動している間
、加工対象物も動かしてもよく、例えば、加工対象物を回転させてもよい。
してもよい。振動機械の使用には、加工対象物に対して砥粒品を第1の位置と第2の位置
の間で移動させることが含まれる。加工対象物は、移動、例えば回転させてもよく、さら
に加工対象物とワイヤを両方とも互いに対して同時に移動させることができる。振動機械
は、加工対象物に対するワイヤ・ガイド(wire guide)の前後の動きを利用す
る場合もあるが、この場合、リール・ツー・リール機械は必ずしもそのような動きを利用
するとは限らない。
界面に冷却剤を提供することを含んでいてもよい。いくつかの適切な冷却剤には、水性材
料、油性材料、合成材料、およびそれらの組み合わせが挙げられる。
作は、第1のサイクルの間ワイヤと加工対象物を互いに対して相対的に移動させ、第2の
サイクルの間ワイヤと加工対象物を互いに対して相対的に移動させることを含んでいても
よい。特に、第1のサイクルと第2のサイクルは同一であっても異なっていてもよい。例
えば、第1のサイクルは、第1の位置から第2の位置に砥粒品を移送することを含んでい
てもよく、これは特に、前方および逆方向のサイクルを通じて砥粒品を移送することを含
んでいてもよい。第2のサイクルは、第3の位置から第4の位置に砥粒品を移送すること
を含んでいてもよく、これはまた、前方および逆方向のサイクルを通じて砥粒品を移送す
ることを含んでいてもよい。第1のサイクルの第1の位置は、第2のサイクルの第3の位
置と同一とすることができ、あるいは第1の位置と第3の位置が異なっていてもよい。第
1のサイクルの第2の位置は、第2のサイクルの第4の位置と同一とすることができ、あ
るいは第2の位置と第4の位置が異なっていてもよい。
作において使用するということには、第1のサイクルが含まれていてもよく、このサイク
ルは、砥粒品を、開始位置から第1の方向(例えば、前方)に一時的な位置まで、そして
この一時的な位置から第2の方向(例えば後方)に移送して、同一の開始位置、または開
始位置の近くに戻すのにかかる実行時間を含むものである。そうしたサイクルは、ワイヤ
を前方に0m/sから設定ワイヤスピードまで加速するための継続時間と、ワイヤを設定
ワイヤスピードで前方に移動させるための実行時間と、ワイヤを設定ワイヤスピードから
0m/sまで前方に減速させるための実行時間と、ワイヤを0m/sから設定ワイヤスピ
ードまで後方に加速させるための実行時間と、ワイヤを設定ワイヤスピードで後方に移動
させるための実行時間と、ワイヤを設定ワイヤスピードから0m/sまで後方に減速させ
るための実行時間とを含むことができる。
またはさらには約90秒以上とすることができる。さらに、非限定的な一実施形態では、
第1のサイクルは約10分以下とすることができる。第1のサイクルが上記の最小値と最
大値のいずれかの間の範囲内にある継続時間を有していてもよいことは理解されよう。
たはさらには約90秒以上とすることができる。さらに、非限定的な一実施形態では、第
2のサイクルは約10分以下とすることができる。第2のサイクルが上記の最小値と最大
値のいずれかの間の範囲内にある継続時間を有していてもよいことは理解されよう。
以上、またはさらには約50サイクル以上とすることができる。特定の実例では、サイク
ルの数は約3000サイクル以下であってもよく、またさらには約2000サイクル以下
であってもよい。切断操作は、約1時間以上、またはさらには約2時間以上の継続時間だ
け続けてもよい。さらには、操作に応じて、切断工程はさらに長くてもよく、例えば約1
0時間以上、またはさらには20時間の連続的な切断であってもよい。
度での操作に対して特に適している場合がある。例えば、薄切り操作は、約0.05mm
/分以上、約0.1mm/分以上、約0.5mm/分以上、約1mm/分以上、またはさ
らには約2mm/分以上の送り速度で実行することができる。さらに、非限定的な一実施
形態では、送り速度は約20mm/分以下であってもよい。送り速度が上記の最小値と最
大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
定のワイヤ張力での操作対して特に適している場合がある。例えば、薄切り操作は、ワイ
ヤ破断負荷の約30%以上、例えば、ワイヤ破断負荷の約50%以上、またはさらにはワ
イヤ破断負荷の約60%以上のワイヤ張力で実行することができる。さらに、非限定的な
一実施形態では、ワイヤ張力は、破断負荷の約98%以下であってもよい。ワイヤ張力が
上記の最小百分率と最大百分率のいずれかの範囲内にあってもよいことは理解されよう。
ることができる。VWSRは可変ワイヤスピード比であって、概して式t2/(t1+t
3)で記述することができ、ここでt2は、砥粒ワイヤが前方または後方に設定ワイヤス
ピードで移動する実行時間であり、t1は、砥粒ワイヤが前方または後方に0ワイヤスピ
ードから設定ワイヤスピードまで移動する実行時間であり、t3は、砥粒ワイヤが前方ま
たは後方に一定のワイヤスピードから0ワイヤスピードまで移動する実行時間である。例
えば、本明細書における一実施形態に係るワイヤ鋸のVWSRの範囲は、約1以上、約2
以上、約4以上、またはさらには約8以上とすることができる。さらに、非限定的な一実
施形態では、VWSR率は、約75以下、またはさらには約20以下であってもよい。V
WSR率が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解され
よう。一実施形態では、可変ワイヤスピード比の切断操作向けの例示的な機械はMeye
r Burger DS265 DW Wire Sawマシンとすることができる。
晶シリコンまたは多結晶シリコンとすることができる。一実施形態によれば、一実施形態
に係る砥粒品の使用で、約8m2/km以上、例えば、約10m2/km以上、約12m
2/km以上、またはさらには約15m2/km以上の寿命が実証されている。ワイヤ寿
命は、使用される砥粒ワイヤ1キロメートル当たりに生じるウェーハ面積に基づいたもの
とすることができ、生じるウェーハ面積は、ウェーハ表面の一方の側に基づいて計算され
る。こうした実例では砥粒品は、例えば、基材1キロメートル当たり約0.5カラット以
上、基材1キロメートル当たり約1.0カラット以上、基材1キロメートル当たり約1.
5カラット以上、またはさらには基材1キロメートル当たり約2.0カラット以上の特定
の砥粒粒子濃度を有していてもよい。さらにこの濃度は、基材1キロメートルあたり約2
0カラット以下、またはさらには基材1キロメートルあたり約10カラット以下であって
もよい。砥粒粒子の平均粒子サイズは約20ミクロン未満とすることができる。砥粒粒子
濃度が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう
。薄切り操作は、本明細書に開示される送り速度で実行してもよい。
、一実施形態に係る砥粒品を用いて薄切りすることができ、この砥粒品は、約0.5m2
/km以上、例えば、約1m2/km以上、またはさらには約1.5m2/km以上の寿
命を有することができる。そうした実例では砥粒品は、例えば、基材1キロメートル当た
り約0.5カラット以上、基材1キロメートル当たり約1カラット以上、基材1キロメー
トル当たり少なくとも約2カラット以上、基材1キロメートル当たり少なくとも約3カラ
ット以上の特定の砥粒粒子濃度を有していてもよい。さらにその濃度は、基材1キロメー
トルあたり約30カラット以下、またはさらには基材1キロメートルあたり約15カラッ
ト以下であってもよい。砥粒粒子の平均粒子サイズは約20ミクロン未満とすることがで
きる。砥粒粒子濃度が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいこと
は理解されよう。
m/分以上の送り速度で実行してもよい。さらに非限定的な一実施形態では、送り速度は
約20mm/分以下であってもよい。送り速度が上記最小値と最大値のいずれかの間の範
囲内にあってもよいことは理解されよう。
使用して薄切りすることができる。サファイア加工対象物は、c面サファイア、a面サフ
ァイア、またはr面サファイア材料を含んでいてもよい。少なくとも一つの実施形態につ
いては、砥粒品は、サファイア加工対象物を薄切りすることができ、約0.1m2/km
以上、例えば、約0.2m2/km以上、約0.3m2/km以上、約0.4m2/km
以上、またはさらには約0.5m2/km以上の寿命を示すことができる。こうした実例
では砥粒品は、例えば基材1キロメートル当たり約5カラット以上、基材1キロメートル
当たり10カラット以上、基材1キロメートル当たり約20カラット以上、基材1キロメ
ートル当たり40カラット以上である特定の砥粒粒子濃度を有していてもよい。さらにそ
の濃度は、基材1キロメートルあたり約300カラット以下、またはさらには基材1キロ
メートルあたり約150カラット以下であってもよい。砥粒粒子の平均粒子サイズは約2
0ミクロンより大きくてもよい。砥粒粒子濃度が上記の最小値と最大値のいずれかの間の
範囲内にあってもよいことは理解されよう。
ば、約0.1mm/分以上、またはさらには約0.15mm/分以上の送り速度で実行し
てもよい。さらに非限定的な一実施形態では、送り速度は約2mm/分以下であってもよ
い。送り速度が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解
されよう。
バイドを含む加工対象物を薄切りするのに使用してもよい。少なくとも一実施形態の場合
には砥粒品は、シリコンカーバイドの加工対象物を薄切りすることができ、約0.1m2
/km以上、例えば、約0.2m2/km以上、約0.3m2/km以上、約0.4m2
/km以上、またはさらには約0.5m2/km以上の寿命を示すことができる。こうし
た実例では砥粒品は、例えば、基材1キロメートル当たり約1カラット以上、基材1キロ
メートル当たり2カラット以上、基材1キロメートル当たり約3カラット以上、基材1キ
ロメートル当たり4カラット以上である特定の砥粒粒子濃度を有していてもよい。さらに
その濃度は、基材1キロメートルあたり約50カラット以下、またはさらには基材1キロ
メートルあたり約30カラット以下であってもよい。砥粒粒子濃度が上記の最小値と最大
値のいずれかの間の範囲内にあってもよいことは理解されよう。
上、例えば約0.10mm/分以上、またはさらには約0.15mm/分以上の送り速度
で実行してもよい。さらには非限定的な一実施形態では、送り速度は約2mm/分以下で
あってもよい。送り速度が上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内にあってもよい
ことは理解されよう。
速度で製造してもよい。本明細書に記載される砥粒品の実施形態の製造速度は、1分あた
りの基材のメートル数で表した、砥粒品形成のスピードであってもよく、砥粒品は、長尺
体を有する基材と、基材を被覆する粘着層と、粘着層を被覆し第1の砥粒粒子濃度を基材
1mmあたり約10個以上の粒子と定めた砥粒粒子と、接合層の構造とを含む。特定の実
施形態では製造速度は、毎分約10メートル以上、例えば、毎分約12メートル以上、毎
分約14メートル以上、毎分約16メートル以上、毎分約18メートル以上、毎分約20
メートル以上、毎分約25メートル以上、毎分約30メートル以上、毎分約40メートル
以上、またはさらには毎分約60メートル以上であってもよい。
鋸を効率的に製造しやすくすることができる。例えば、上記特徴的な砥粒粒子濃度のいず
れかを有する、本明細書における実施形態の砥粒品を、前述のいずれかの製造速度で形成
するとともに、この業界の諸性能パラメータを維持するまたはこれらを凌駕することがで
きる。特定の理論に拘束されるのを望むものではないが、理論的には、粘着工程および接
合工程を別々に使用することにより、従来の電気メッキ工程など、単一ステップの付着お
よび接合工程よりも製造速度を向上させやすくすることができると言える。
一つを伴わない従来の砥粒ワイヤ鋸と比較して、使用中の砥粒粒子の保持性が向上してい
ることを実証した。例えばこの砥粒品は、一つまたは複数の従来試料に対して、砥粒粒子
の保持性が約2%以上向上している。さらに他の実例では、砥粒粒子の保持性の向上は、
約4%以上、約6%以上、約8%以上、約10%以上、約12%以上、約14%以上、約
16%以上、約18%以上、約20%以上、約24%以上、約28%以上、約30%以上
、約34%以上、約38%以上、約40%以上、約44%以上、約48%以上、またはさ
らには約50%以上とすることができる。さらに、非限定的な一実施形態では、砥粒粒子
の保持性の向上は、約100%以下、例えば、約95%以下、約90%以下、またはさら
には約80%以下とすることができる。
伴わない従来の砥粒ワイヤ鋸と比較して、砥粒粒子の保持性が向上していることを実証し
、さらに使用寿命の向上を実証した。例えば、本明細書の砥粒品は、一つまたは複数の従
来試料と比較して、使用寿命を約2%以上増加させることができる。さらに他の実例では
、本明細書における実施形態の砥粒品の使用寿命の増加は、従来品と比較して、約4%以
上、約6%以上、約8%以上、約10%以上、約12%以上、約14%以上、約16%以
上、約18%以上、約20%以上、約24%以上、約28%以上、約30%以上、約34
%以上、約38%以上、約40%以上、約44%以上、約48%以上、またはさらに約5
0%以上とすることができる。さらに、非限定的な一実施形態では、使用寿命の向上は、
約100%以下、例えば、約95%以下、約90%以下、またはさらには約80%以下と
することができる。
くつかは、本明細書で説明されている。当業者は本明細書の読了時に、それらの態様およ
び実施形態が単なる例示であり、本発明の範囲を限定するものではないことを理解するで
あろう。実施形態は、以下に列挙される実施形態のいずれか一つまたは複数にしたがうも
のであってもよい。
前記基材を被覆する不連続な分布の特徴を画定する複数の離散的な粘着領域であって
、前記複数の離散的な粘着領域の少なくとも一つが、450℃以下の融点を有する金属材
料を含む粘着領域と;
前記基材を被覆し、前記複数の離散的な粘着領域から離間した複数の離散的な形成物
と;
前記基材、複数の離散的な粘着領域、および複数の離散的な形成物を被覆する接合層
とを含む、砥粒品。
前記基材を被覆する金属材料を含む複数の離散的な粘着領域であって、少なくとも一
つの離散的な粘着領域が、別の離散的な粘着領域から分離し、少なくとも一つの砥粒粒子
が、少なくとも一つの離散的な粘着領域と繋がっている粘着領域と、
前記複数の離散的な粘着領域、前記少なくとも一つの砥粒粒子を被覆し、前記基材の
少なくとも一部分に直接接触している接合層とを含む、砥粒品。
前記基材を被覆する複数の離散的な粘着領域であって、前記複数の離散的な粘着領域
のそれぞれの間に間隙領域を画定する粘着領域と;
前記複数の離散的な粘着領域を被覆する砥粒粒子と;
前記基材を被覆し、前記複数の離散的な粘着領域および前記砥粒粒子から離間した複
数の離散的な形成物とを含む、砥粒品。
含む、実施形態2および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
含む、実施形態1および4のいずれか一つに記載の砥粒品。
領域が、遷移金属元素の合金を含む金属材料を含み、少なくとも一つの前記離散的な粘着
領域がさらに、鉛、銀、銅、亜鉛、チタン、モリブデン、クロム、鉄、マンガン、コバル
ト、ニオブ、タンタル、タングステン、パラジウム、白金、金、ルテニウム、及びそれら
の組み合わせからなる金属の群から選択される金属を含み、少なくとも一つの前記離散的
な粘着領域がハンダ材料を含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒
品。
的な形成物をさらに含む、実施形態2に記載の砥粒品。
物が金属材料を含む、実施形態1、3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物が、100℃以上かつ450℃以下の融点を有する金属材料を含む、実施形態1、3
、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物がハンダ材料を含む、実施形態1、3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物がスズを含む、実施形態1、3および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物がハンダ材料を含む、実施形態1、3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物が、前記複数の離散的な粘着領域の材料と実質的に同一の材料を含む、実施形態1、
3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
形態1、3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
いる、実施形態1、3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
成物を互いから切り離し、さらには前記複数の離散的な形成物を前記複数の離散的な粘着
領域から切り離す間隙領域をさらに含む、実施形態1、3、および9のいずれか一つに記
載の砥粒品。
3、および9のいずれか一つに記載の砥粒品。
のいずれか一つに記載の砥粒品。
および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
に含まない、実施形態1、2、および3のいずれかに記載の砥粒品。
とも一つのバリア層を有し、前記バリア層が、銅、真鍮、ニッケル、またはそれらの組み
合わせの群から選択される金属を含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載
の砥粒品。
ている、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
形態1および2のいずれか一つに記載の砥粒品。
ホウ化物、ダイヤモンド、及びそれらの組み合わせの群から選択される材料を含む、実施
形態3および25のいずれか一つに記載の砥粒品。
一つに記載の砥粒品。
か一つに記載の砥粒品。
料を含む、実施形態3および25のいずれか一つに記載の砥粒品。
態3に記載の砥粒品。
形態1、2、および30のいずれか一つに記載の砥粒品。
数の離散的な形成物との間の前記間隙領域において、前記基材に直接接合している、実施
形態1、2、および30のいずれか一つに記載の砥粒品。
数の離散的な形成物とに直接接合している、実施形態1、2、および30のいずれか一つ
に記載の砥粒品。
およびこれらの組み合わせからなる材料の群から選択される材料を含み、前記接合層は遷
移金属元素を含み、前記接合層は遷移金属元素の合金を含み、前記接合層は、鉛、銀、銅
、亜鉛、スズ、チタン、モリブデン、クロム、鉄、マンガン、コバルト、ニオブ、タンタ
ル、タングステン、パラジウム、パラジウム、白金、金、ルテニウム、およびそれらの組
み合わせからなる金属の群から選択される金属を含み、前記接合層はニッケルを含み、前
記接合層は本質的にニッケルからなる、実施形態1、2、および30のいずれか一つに記
載の砥粒品。
g/km以下、1g/km以下、0.8g/km以下、0.6g/km以下、0.4g/
km以下、0.2g/km以下、0.1g/km以下、0.08g/km以下、0.06
g/km以下、0.04g/km以下、0.02g/km以下、0.01g/km以下で
ある、前記複数の離散的な粘着領域および複数の離散的な形成物における金属材料の含有
量(Cmm)をさらに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
.001g/km以上、または0.002g/km以上、または0.004g/km以上
、または0.006g/km以上、または0.008g/km以上、または0.01g/
km以上、または0.02g/km以上、または0.04g/km以上、または0.06
g/km以上、または0.08g/km以上、または0.01g/km以上である、前記
複数の離散的な粘着領域および複数の離散的な形成物における金属材料の含有量(Cmm
)をさらに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
粒子の含有量(Cap)と、前記基材の長さ1キロメートル当たりのグラム数で測定した
、前記複数の離散的な粘着領域および複数の離散的な形成物における金属材料の含有量(
Cmm)とをさらに含み、1以下、または0.9以下、または0.8以下、または0.7
以下、または0.6以下、または0.5以下、または0.4以下、または0.3以下、ま
たは0.2以下、または0.18以下、または0.16以下、または0.15以下、また
は0.014以下、または0.13以下、または0.12以下、または0.11以下、ま
たは0.1以下、または0.09以下、または0.08以下、または0.07以下、また
は0.06以下、または0.05以下、または0.04以下、または0.03以下、また
0.02以下である比(Cmm/Cap)をさらに含む、実施形態1、2、および3のい
ずれか一つに記載の砥粒品。
粒子の含有量(Cap)と、前記基材の長さ1キロメートル当たりのグラム数で測定した
、前記複数の離散的な粘着領域および複数の離散的な形成物における金属材料の含有量(
Cmm)とをさらに含み、0.002以上、または0.004以上、または0.006以
上、または0.008以上、または0.01以上、または0.02以上、または0.03
以上、または0.04以上、または0.05以上、または0.06以上、または0.07
以上、または0.08以上、または0.09以上、または0.1以上、または0.12以
上、または0.14以上、または0.16以上、または0.18以上、または0.2以上
、または0.3以上、または0.4以上、または0.5以上、または0.6以上、または
0.7以上、または0.8以上、または0.9以上である比(Cmm/Cap)をさらに
含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
mm当たり30個以上、かつ基材1mm当たり800個以下の砥粒粒子濃度をさらに含む
、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
ートル当たり約1.0カラット以上、基材1キロメートル当たり約1.5カラット以上、
かつ基材1キロメートル当たり約30.0カラット以下の砥粒粒子濃度をさらに含む、実
施形態1、2、および3のいずれかに記載の砥粒品。
混合物に通して移送することと;
前記砥粒粒子および微粒子の少なくとも一部分を前記基材に付着させることと;
前記基材を処理して砥粒品プリフォームを形成することとを含む、砥粒品を形成する
方法であって、
砥粒品プリフォームが、前記基材を被覆する複数の離散的な粘着領域であって、それ
ぞれの前記離散的な粘着領域の間に間隙領域を画定する粘着領域と;
前記複数の離散的な粘着領域を被覆する砥粒粒子と;
前記基材を被覆し、前記複数の離散的な粘着領域および前記砥粒粒子から離間した複
数の離散的な形成物とを含む、砥粒品を形成する方法。
量%以下の前記砥粒粒子を含む、実施形態41に記載の方法。
、前記混合物の全重量に対して0.2重量%以上かつ20重量%以下である、実施形態4
1に記載の方法。
にある平均粒子サイズ(PSa)を有する、実施形態41に記載の方法。
囲内にある平均粒子サイズ(PSp)を含む、実施形態41に記載の方法。
粒子サイズ(PSp)を含み、前記混合物が、1以下、または0.9以下、または0.8
以下、または0.7以下、または0.6以下、または0.5以下、または0.4以下、ま
たは0.3以下、または0.2以下、または0.18以下、または0.16以下、または
0.15以下、または0.014以下、または0.13以下、または0.12以下、また
は0.11以下、または0.1以下、または0.09以下、または0.08以下、または
0.07以下、または0.06以下、または0.05以下、または0.04以下、または
0.03以下、または0.02以下である比(PSp/PSa)を含む、実施形態41に
記載の方法。
粒子サイズ(PSp)を含み、前記混合物が、0.01以上、または0.02以上、また
は0.03以上、または0.04以上、または0.05以上、または0.06以上、また
は0.07以上、または0.08以上、または0.09以上、または0.1以上、または
0.11以上、または0.12以上、または0.13以上、または0.14以上、または
0.15以上、または0.16以上、または0.17以上、または0.18以上、または
0.19以上、または0.2以上、または0.3以上、または0.4以上、または0.5
以上、または0.6以上、または0.7以上、または0.8以上、または0.9以上であ
る比(PSp/PSa)を含む、実施形態41に記載の方法。
リフォームを加熱することを含む、実施形態41の方法。
ラリーであって、前記担体が水を含む、実施形態41に記載の方法。
に含み、前記接合層が堆積工程により形成され、前記堆積工程が、メッキ、電気メッキ、
浸漬、噴霧、印刷、被膜形成、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、実
施形態41に記載の方法。
混合物から前記砥粒粒子と前記微粒子を付着させることを含む、実施形態41に記載の方
法。
さらに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
らに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
5以上かつ0.25以下である比(Cmm/Cap)をさらに含む、実施形態1、2、お
よび3のいずれか一つに記載の砥粒品。
%以下、約25%以下、約20%以下、約15%以下、約10%以下、約5%以下である
TMcをさらに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
をさらに含む、実施形態1、2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
約20%以下、またはさらには約10%以下であるAPsaをさらに含む、実施態様1、
2、および3のいずれか一つに記載の砥粒品。
よび約175ミクロンの平均径を有する。このワイヤを混合物に通して移送するが、混合
物は、ABC Warren Superabrasives製の20%Ni被覆ミクロ
ンダイヤモンドとして市販され約35マイクロメートルの平均粒子サイズを有する約40
重量%のダイヤモンドと、Atlantic Equipment Engineers
製のSN−101スズ粉末として市販され1〜5マイクロメートルの平均粒子サイズを有
する約2重量%のスズ微粒子材料と、ZnClフラックスを含む約10重量%の添加剤と
を含む。混合物はまた、粘度調整剤の形態で添加剤を含んでおり、この粘度調整剤は、混
合物が室温で3〜5センチポアズの粘度を示すようにするには十分な量で存在した。ワイ
ヤは、約20〜30m/分の速度で移送する。
クスをワイヤに付着させ、この構造を摂氏220〜280℃の範囲の温度で0.2〜0.
5秒の継続時間の間、加熱して、砥粒品プリフォームを形成する。
ぐ。すすいだ物品にニッケルを電気メッキして、砥粒粒子と基材の一部分とに直接接触し
て被覆する接合層を形成する。図4〜6は、実施例1の工程から形成された砥粒品の画像
を含む。
S1用に、ある長さの高強度炭素鋼線を基材として取得した。30ミクロンから50ミク
ロンの間の平均粒子サイズを有するダイヤモンドグレインを、離散的なSn粘着領域(す
なわち、ワイヤ表面の粘着材料の不連続な分布)を使用し、本明細書に記載の実施形態に
したがって、ワイヤに付着させた。ダイヤモンドグレイン、離散的なSn粘着領域、およ
び露出したワイヤ表面を洗浄し、10ミクロンの厚さを有するNi接合層の被膜を形成し
た。図7Aは、試料砥粒ワイヤS1の断面画像を含む。
用に、ある長さの高強度炭素鋼線を基材として取得した。30ミクロンから50ミクロン
の間の平均粒子サイズを有するダイヤモンドグレインを、Sn粘着材料の連続的な層を使
用してワイヤに付着させた。ダイヤモンドグレインおよびSn粘着層を洗浄し、10ミク
ロンの厚さを有するNi接合層の被膜を形成した。図7Bは、試料砥粒ワイヤS1の断面
画像を含む。
料砥粒ワイヤ800(例えば、試料砥粒ワイヤS1またはCS1)を、顎面815を有す
る2つの締め具810に通して引く。顎面815は角度が付いていて、それらの上縁が試
料砥粒ワイヤ800に接触するようになっている。その後、試料砥粒ワイヤ800上のN
i接合の密着強度を評価するため、試料砥粒ワイヤ800を2つの締め具810に通して
引っ張るさいに、空気圧コントローラを使用して締め付け圧を系統的に増加させる。
の表面からはずれた。図9Aは、密着試験後の比較試料砥粒ワイヤCS1の画像を含み、
Ni接合がワイヤの表面からはずれているのを示すものである。
たままであった。図9Bは、密着試験後の試料砥粒ワイヤS1の画像を含み、Ni接合層
は無傷で、被膜表面上に小さなひっかき傷しかないのを示すものである。図9Aおよび図
9Bの比較を通じて示されたように、砥粒ワイヤ試料S1上のNi接合は、砥粒ワイヤ試
料CS1上のNi接合と比較して、基材へのより良好な密着性を有していた。
イヤS2用に、ある長さの高強度炭素鋼線を基材として取得する。8ミクロンから12ミ
クロンまでの平均粒子サイズを有するダイヤモンドグレインを、離散的なSn粘着領域(
すなわち、ワイヤ表面の粘着材料の不連続な分布)を使用し、本明細書に記載の実施形態
にしたがって、ワイヤに付着させた。ダイヤモンドグレイン、離散的なSn粘着領域、お
よび露出したワイヤ表面を洗浄し、4ミクロンの厚さを有するニッケル接合層の被膜を形
成した。
用に、ある長さの高強度炭素鋼線を基材として取得する。8ミクロンから12ミクロンの
間の平均粒子サイズを有するダイヤモンドグレインを、連続的な層のSn粘着材料を使用
してワイヤに付着させた。ダイヤモンドグレインおよびSn粘着層を洗浄し、4ミクロン
の厚さを有するNi接合層の被膜を形成した。
試験条件を、以下の表1に列挙する。
mシリコン・インゴット全体の4箇所の異なる場所で測定した。図10は、4箇所の測定
場所における試料砥粒ワイヤS2と比較試料砥粒ワイヤCS2の定常状態でのワイヤたわ
みのプロットを含む。概して、ワイヤ鋸の性能において、定常状態でのワイヤたわみは小
さい方が好ましいが、それは、作業材料上での切断がさらに効果的になると考えられるか
らである。図10に示すように、試料砥粒ワイヤS2は、加工対象物全体の4箇所すべて
の測定箇所で、生じた定常状態でのワイヤたわみが比較試料砥粒ワイヤCS2よりも小さ
かった。
した。このワイヤを6%塩酸塩溶液で前処理して、ワイヤの表面上の過剰な酸化物を除去
した。次いでコアワイヤを、スラリー混合物に通して浸漬塗膜したが、この混合物は、2
〜5ミクロンのSn粉末5グラム、8〜16ミクロンのダイヤモンドグレイン100グラ
ム、塩酸塩、塩化亜鉛、グリセリン、および水であった。次いで、被膜形成したワイヤを
加熱して、ダイヤモンドグレインをワイヤに付着させ、熱酸および水浴を用いて洗浄した
。次いで、被膜形成したワイヤに、4ミクロンの厚さを有するニッケル接合層を電気メッ
キした。
たダイヤモンドグレインは最低限であり、このため、このワイヤは最終的に使用不可能に
なった。
した。このワイヤを6%塩酸塩溶液で前処理して、ワイヤの表面上の過剰な酸化物を除去
した。次いでコアワイヤを、スラリー混合物に通して浸漬塗膜したが、この混合物は、2
〜5ミクロンのSn粉末40グラム、8〜16ミクロンのダイヤモンドグレイン100グ
ラム、塩酸塩、塩化亜鉛、グリセリン、および水であった。次いで、被膜形成したワイヤ
を加熱して、ダイヤモンドグレインをワイヤに付着させ、熱酸および水浴を用いて洗浄し
た。次いで、被膜形成したワイヤに、4ミクロンの厚さを有するニッケル接合層を電気メ
ッキした。
し、電気メッキされたニッケルの被膜が形成されているのが示された。図11Aは、試料
砥粒ワイヤS4の表面SEM画像を含む。図11Aに示すように、ダイヤモンドグレイン
の凝集物が観測された。特定の理論に拘束されるのを好むものではないが、ダイヤモンド
グレインの凝集は、Sn粉末の粒子サイズが最適でないこととスラリー中のSn粉末濃度
が最適でないことに起因して発生したと考えられる。
ワイヤを6%塩酸塩溶液で前処理して、ワイヤの表面上の過剰な酸化物を除去した。次い
でコアワイヤを、スラリー混合物に通して浸漬塗膜したが、この混合物は、1〜2ミクロ
ンのSn粉末10グラム、8〜16ミクロンのダイヤモンドグレイン100グラム、塩酸
塩、塩化亜鉛、グリセリン、および水であった。次いで、被膜形成したワイヤを加熱して
、ダイヤモンドグレインをワイヤに付着させ、熱酸および水浴を用いて洗浄した。次いで
、被膜形成したワイヤに、4ミクロンの厚さを有するニッケル接合層を電気メッキした。
し、電気メッキされたニッケルの被膜が形成されているのが示された。図11Bは、試料
砥粒ワイヤS4の表面SEM画像を含む。図11Bに示すように、ダイヤモンドグレイン
は、ワイヤの表面上に一様に分布しており、凝集はわずかであった。
およびAPsaを、試料砥粒ワイヤS4およびS5について本明細書に記載の手順にした
がって測定し計算した。試料砥粒ワイヤS4およびS5のこれらの測定結果を、以下の表
2に要約する。
明が属する技術分野の当業者によって一般に理解されているものと同一の意味を有する。
材料、方法、および例は、例示的なものに過ぎず、制限を意図するものではない。ここに
記載のない限りでは、特定の材料および加工動作に関する詳細の多くは従来のものであり
、本構造に関する技術および対応する製造技術を範囲とする参考書籍および他の情報源に
見出される場合がある。
あり、添付の「特許請求の範囲」は、本発明の真の範囲内に収まるそうした変更、強化、
およびその他の実施形態すべてを網羅することを意図したものである。したがって本発明
の範囲は、以下の「特許請求の範囲」およびその均等物の最大限許容できる解釈によって
、法律で認められる最大限広く決定されるものであって、前述の詳細な記載によって限定
または制限されないものとする。
囲を解釈または制限するために使用されるものではないとの理解のもとで提示される。さ
らに、前記の「図面の詳細な説明」では、さまざまな特徴は、開示を効率的にすることを
目的として、ひとつにまとめてもよいし、単一の実施形態として記載してもよい。特許請
求された実施形態には各請求項に明示的に記載されている以上の特徴が要求されていると
する意図を、この開示が反映しているとは解釈されないものとする。むしろ、以下の特許
請求の範囲に反映されているとおり、進歩性のある主題は、開示されたいずれかの実施形
態の全特徴未満となるよう指示される場合がある。したがって、以下の特許請求の範囲は
、各特許請求の範囲が、特許請求された主題を個別に定めるものとしてそれ自体で独立し
つつ、「図面の詳細な説明」に取り込まれている。
Claims (9)
- 長尺体を含む基材と;
前記基材を被覆し、複数の離散的な粘着領域の前記離散的な粘着領域のそれぞれの間に間隙領域を画定する前記複数の離散的な粘着領域と;
前記複数の離散的な粘着領域を被覆する砥粒粒子と;
前記基材を被覆し、前記複数の離散的な粘着領域および前記砥粒粒子から離間し、砥粒粒子を含まない複数の離散的な形成物とを含む、砥粒品。 - 前記複数の離散的な粘着領域が、450℃以下の融点を有する金属材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 前記複数の離散的な粘着領域が、少なくとも100℃の融点を有する金属材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 前記複数の離散的な粘着領域のうちの少なくとも一つの前記離散的な粘着領域が、遷移金属元素の合金を含む金属材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 少なくとも一つの前記離散的な粘着領域がハンダ材料を含み、前記ハンダ材料がスズを含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 前記ハンダ材料がスズから本質的になる、請求項5に記載の砥粒品。
- 前記複数の離散的な形成物のうちの少なくとも一つの前記離散的な形成物が金属材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 前記複数の離散的な形成物のうちの少なくとも一つの前記離散的な形成物が、少なくとも100℃で、450℃以下の融点を有する金属材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
- 前記複数の離散的な形成物のうちの少なくとも一つの前記離散的な形成物が、ハンダ材料を含む、請求項1に記載の砥粒品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562186225P | 2015-06-29 | 2015-06-29 | |
US62/186,225 | 2015-06-29 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017566395A Division JP6564474B2 (ja) | 2015-06-29 | 2016-06-28 | 砥粒品および形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019206079A JP2019206079A (ja) | 2019-12-05 |
JP6797252B2 true JP6797252B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=57601775
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017566395A Expired - Fee Related JP6564474B2 (ja) | 2015-06-29 | 2016-06-28 | 砥粒品および形成方法 |
JP2019138046A Expired - Fee Related JP6797252B2 (ja) | 2015-06-29 | 2019-07-26 | 砥粒品および形成方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017566395A Expired - Fee Related JP6564474B2 (ja) | 2015-06-29 | 2016-06-28 | 砥粒品および形成方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9878382B2 (ja) |
EP (1) | EP3313615B1 (ja) |
JP (2) | JP6564474B2 (ja) |
KR (2) | KR102017468B1 (ja) |
CN (1) | CN107921608B (ja) |
BR (1) | BR112017027420A2 (ja) |
MX (1) | MX2017016807A (ja) |
MY (1) | MY180497A (ja) |
RU (1) | RU2685839C1 (ja) |
TW (2) | TWI621505B (ja) |
WO (1) | WO2017004037A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8425640B2 (en) | 2009-08-14 | 2013-04-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body |
TW201402274A (zh) | 2012-06-29 | 2014-01-16 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TW201404527A (zh) | 2012-06-29 | 2014-02-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
FR3018711B1 (fr) * | 2014-03-24 | 2016-03-11 | Thermocompact Sa | Procede de fabrication d'une boucle fermee de fil de decoupe |
TWI621505B (zh) | 2015-06-29 | 2018-04-21 | 聖高拜磨料有限公司 | 研磨物品及形成方法 |
JP6249319B1 (ja) * | 2017-03-30 | 2017-12-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ソーワイヤー及び切断装置 |
WO2019108112A1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Husqvarna Ab | Wire for a wire saw, a wire saw, a method and device for manufacturing a wire saw |
JP6751900B2 (ja) * | 2018-01-29 | 2020-09-09 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 金属線及びソーワイヤー |
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US8707944B2 (en) | 2010-06-15 | 2014-04-29 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Saw wire |
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TWI466990B (zh) | 2010-12-30 | 2015-01-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 磨料物品及形成方法 |
TW201300199A (zh) | 2011-06-30 | 2013-01-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 磨料物品及製造方法 |
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WO2013049204A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated substrate body having a barrier layer, and methods of forming thereof |
WO2013147892A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive article and method of forming |
TWI477343B (zh) | 2012-06-29 | 2015-03-21 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TW201404528A (zh) | 2012-06-29 | 2014-02-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TWI483803B (zh) | 2012-06-29 | 2015-05-11 | Saint Gobain Abrasives Inc | 在工件上進行切割操作之方法 |
TW201402274A (zh) | 2012-06-29 | 2014-01-16 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TWI474889B (zh) | 2012-06-29 | 2015-03-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
TW201404527A (zh) * | 2012-06-29 | 2014-02-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨物品及形成方法 |
JP2014058014A (ja) * | 2012-09-18 | 2014-04-03 | Nakamura Choko:Kk | ワイヤソー |
CN102896373B (zh) | 2012-09-21 | 2016-08-24 | 南京航空航天大学 | 超硬磨料线锯磨料有序排布设备与方法 |
TW201441355A (zh) | 2013-04-19 | 2014-11-01 | Saint Gobain Abrasives Inc | 研磨製品及其形成方法 |
TWI621505B (zh) | 2015-06-29 | 2018-04-21 | 聖高拜磨料有限公司 | 研磨物品及形成方法 |
-
2016
- 2016-06-24 TW TW105120000A patent/TWI621505B/zh active
- 2016-06-24 TW TW106141769A patent/TWI664057B/zh active
- 2016-06-28 MX MX2017016807A patent/MX2017016807A/es unknown
- 2016-06-28 CN CN201680046609.XA patent/CN107921608B/zh active Active
- 2016-06-28 JP JP2017566395A patent/JP6564474B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2016-06-28 EP EP16818594.0A patent/EP3313615B1/en active Active
- 2016-06-28 WO PCT/US2016/039810 patent/WO2017004037A1/en active Application Filing
- 2016-06-28 BR BR112017027420-5A patent/BR112017027420A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2016-06-28 MY MYPI2017704980A patent/MY180497A/en unknown
- 2016-06-28 KR KR1020187001640A patent/KR102017468B1/ko active IP Right Grant
- 2016-06-28 US US15/195,236 patent/US9878382B2/en active Active
- 2016-06-28 RU RU2018102390A patent/RU2685839C1/ru not_active IP Right Cessation
- 2016-06-28 KR KR1020197025084A patent/KR20190104427A/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-12-13 US US15/840,003 patent/US10137514B2/en active Active
-
2018
- 2018-10-12 US US16/158,457 patent/US10583506B2/en active Active
-
2019
- 2019-07-26 JP JP2019138046A patent/JP6797252B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10137514B2 (en) | 2018-11-27 |
MY180497A (en) | 2020-11-30 |
KR20190104427A (ko) | 2019-09-09 |
EP3313615A4 (en) | 2019-02-27 |
RU2685839C1 (ru) | 2019-04-23 |
US9878382B2 (en) | 2018-01-30 |
KR20180009816A (ko) | 2018-01-29 |
JP2018521866A (ja) | 2018-08-09 |
US20190084062A1 (en) | 2019-03-21 |
JP2019206079A (ja) | 2019-12-05 |
TW201808537A (zh) | 2018-03-16 |
US20160375514A1 (en) | 2016-12-29 |
WO2017004037A1 (en) | 2017-01-05 |
CN107921608B (zh) | 2020-06-05 |
EP3313615A1 (en) | 2018-05-02 |
TW201700219A (zh) | 2017-01-01 |
US10583506B2 (en) | 2020-03-10 |
US20180161895A1 (en) | 2018-06-14 |
JP6564474B2 (ja) | 2019-08-21 |
MX2017016807A (es) | 2018-04-24 |
EP3313615B1 (en) | 2023-05-24 |
CN107921608A (zh) | 2018-04-17 |
KR102017468B1 (ko) | 2019-10-21 |
BR112017027420A2 (pt) | 2018-08-28 |
TWI621505B (zh) | 2018-04-21 |
TWI664057B (zh) | 2019-07-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190731 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |