JP4429603B2 - 電界効果トランジスタ及び電界効果トランジスタの生産方法 - Google Patents

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Description

発明の背景
本発明は、電界効果トランジスタ(FET)ならびにそれらを製造するための材料および方法に関する。
従来のFETは、ドレインおよびソースとよばれる2種の電極の間の電流を、ゲートとよばれる第三の電極に電圧を印加することにより調整することができる、電子デバイスである。電流は、ドレインとソースの間の半導体チャネル中の電荷キャリアを蓄積または消耗することにより調整される。従来のFETでは、SiまたはGaAsなどの無機半導体がチャネル材料に用いられてきた。今のところ、FETの使用は、多くの適用、例えば大面積ディスプレー用のアクティブ駆動マトリックス(active drive matrix)において、見いだされている。しかしながら、無機材料を用いるFETでは、大面積の全体にわたり均一なデバイスを得るために高温加工条件および真空が必要とされるため、しばしば製造が難しく高価である。
現在、無機材料を、より安価な有機化合物で代替することに大きな関心が持たれている(J.Mater.Chem.,1997,7(3),369−376および1999,9,1895−1904)。多くの有機π−共役材料がFETの活性層として用いられている(Current Opinion in Solid State & Materials Science,1997,2,455−561およびChemical Physics,1998,227,253−262);しかしながら、これらの材料は、電気的性能に劣り、大規模製造における加工が難しく、または、大気中の酸素および水分による攻撃に対し十分な堅牢性を示さず、その結果デバイスの寿命が短いため、実際の適用に関し完全に満足できるものではないことが見いだされている。例えば、ペンタセンは、非常に高い電界効果移動度をもたらすと報告されているが、これは高真空条件下で蒸着した場合に限られる(Synth.Metals,41−43,1991,1127)。ペンタセンについては、液体加工を可能にする可溶性前駆体経路も報告されているが、この材料では次に、活性層を形成させるために、これに続く真空中、比較的高温(140℃〜180℃)での加熱が必要とされる(Synth.Metals,1997,88,37−55)。このプロセスを用いて形成されるFETの最終的性能は、基板および転化条件の影響を非常に受けやすく、実際の製造プロセスという点での有用性は非常に限定的である。α−セキシチオフェンなどの共役オリゴマー(Synth.Metals,54,1993,435およびScience,1994,265,1684)も高いFET移動度を有することが報告されているが、これは高真空条件下で蒸着した場合に限られる。ポリ(3−ヘキシルチオフェン)など一部の半導体ポリマー(Applied Physics Letters,1988,53,195)を溶液相から蒸着することができるが、これは実際の適用に関し満足できるものではないことが見いだされている。Borsenberger et al.,(J.Appl.Phys.,34,1995,Pt2,No12A,L1597−L1598)は、一連の熱可塑性ポリマー中にドープされたビス(ジ−トリルアミノフェニル(tolyaminophenyl))シクロヘキサンを含む高移動度ドープポリマーについて記載しており、これは外観上、ゼログラフィーの光受容体における輸送層として使用可能である。しかしながら、この論文には、そのような材料のFETにおける有用性が示されていない。
有機材料の混合物を電子デバイスに使用するための他のアプローチが知られている。EP0910100A2(Xerox)には、導電性コーティング用の組成物であって、ポリマーバインダー、電荷輸送分子および酸化剤から構成される組成物について記載されている。酸化剤は、キャリア濃度を高めるために用いられる。そのようなコーティングは、電子デバイス用の導電性電極、例えばトランジスタ(ゲート、ドレインおよびソース接点またはそれらの間の導電性トラックなど)として、予想することができる。しかしながら、その開示内容は、FET用の半導体チャネル材料に関連していない。米国特許第5500537号(Mitsubishi)では、少なくとも2種の異なる有機チャネル材料を有するFETについて請求されている。その材料はともに半導体で、一方の化合物が他方より高い導電率を有し、チャネル内でキャリアを供給するのに用いられており、これにより、より良好な電流の調整が達成されている。その出願ではまた、他の“電気絶縁材料”を混入していてもよいと述べられているが、そのような材料は何であることができるか、またはそれをどのように適用するかについては、言及されていない。第1の材料のキャリア供給機能はまた、それが第2の材料に近接する層を形成するときに、達成されうる。
EP0478380A1(Toshiba)には、供与体および受容体様の材料の混合物を用いた混合積層型電荷移動(CT)錯体からなる有機薄膜素子について記載されている。その錯体膜は電界印加により作用を受けて、その状態を中性からイオン性に変化させることができる。FETに用いる場合、その転移はチャネル中のキャリア密度に急激な変化をもたらす。多層積層チャネルについても、CT錯体層のいくつかの二重層と、これに続く絶縁性ポリフッ化ビニリデン(PVDF)層を用いて記載されている。そのようなデバイスにより、多段スイッチングが得られる。絶縁性PVDFは、チャネル中のバインダーとしては用いられない。
EP0528662A1(Toshiba)では、FETチャネルを構成する第1の有機層と、異なるキャリア濃度を有する第2の隣接層とを有するFETについて開示されている。第2の層の役割は、ゲートに圧力が印加されたときにキャリアをチャネル中に送ることである。一処理(arrangement)において、第2の有機層を、発光(photogeneration)層および電荷輸送層からなる光受容体として作製することができる。電荷輸送層は、バインダーポリマー中の電荷輸送材料からなっていてもよい。電荷発生層に光を照射すると、キャリアが電荷輸送層および続いて第1の有機層中に送られ、これによりチャネルが形成される。このようにして、感光性スイッチング素子が得られる。本発明では、そのような電荷発生層/電荷輸送層を、過剰なキャリアを第1の有機層(チャネル)中に供給する第2の層としてのみ使用し、バインダー組成物を活性チャネル層それ自体としては用いないことを提案する。
EP0981165A1(Lucent)には、反転構造(inverted structure)を有する薄膜トランジスタ集積回路について記載されている。その文書では、用いられる半導体材料が、ポリマーマトリックス中の4,4’−ジアミノビスフェニル類であってもよいことが言及されている。米国特許第5625199号(Lucent)には、p型およびn型有機トランジスタを有する補完回路が開示されている。その中では、p−チャネル素子が、ポリマーマトリックス中のp,p’−ジアミノビスフェニル製であってもよいことも、言及されている。しかしながら、どちらの文書でも、ポリマーマトリックスが何であることができるかについて教示されておらず、p,p’−ジアミノビスフェニル類以外の化合物について十分に検討されていない。
米国特許第3963498号(Eastman Kodak)には、有用な半導体として線状ポリアニリン化合物のアミン塩が開示されている。その中では、そのアミン塩に有機バインダーを加えてもよいことも、言及されている。しかしながら、その開示内容は、ポリアニリン塩の使用を超える範囲には及んでいない。われわれの同時係属PCT特許出願WO99/32537において、われわれは、とりわけ電界効果トランジスタの作製に用いることができる、末端がキャップされているトリアリールアミンポリマー溶液について開示している。これまでに、われわれは、良好な性能特性を有するトランジスタを、本明細書中に記載されているバインダーを用いることにより好都合に生産できることを、見いだしている。
本発明によれば、連続半導体層が、
a)有機半導体;および、
b)10−6Scm−1未満の固有導電率と1000Hzにおいて3.3未満の誘電率εとを有する有機バインダー、
を含む、電界効果トランジスタが提供される。有機バインダーは、好ましくは少なくとも95%、より好ましくは少なくとも98%、および特にすべての原子が、水素、フッ素および炭素原子であるバインダーである。
好ましいバインダーは、低誘電率の材料である。有機バインダーは、1000Hzにおいて、好ましくは3.0未満、より好ましくは2.8未満でありかつ好ましくは1.7を超える誘電率、特に2.0〜2.8の誘電率を有する。
有機バインダーがポリスチレンのホモポリマーである場合、その分子量は、好ましくは20000ドルトン未満、より好ましくは15000ドルトン未満であり、かつ特に1000ドルトンより大きい。
好ましい態様において、有機半導体は、10−5cm−1−1を超える電界効果移動度および10−6Scm−1未満の固有(すなわち、電場に暴露されていないとき)導電率を有する。
電界効果トランジスタの好ましいサブグループは、10−5cm−1−1を超える電界効果移動度および10−6Scm−1未満の固有(すなわち、電場に暴露されていないとき)導電率を有する連続半導体層を含み、ここで該層は、
a)10−6Scm−1未満の固有導電率および好ましくは10−5cm−1−1を超える電界効果移動度を有する有機半導体、ならびに
b)10−6Scm−1未満の固有導電率と、1000Hzにおいて3未満およびより好ましくは2.8未満でありかつ好ましくは1.7を超え、特に2.0〜2.8である誘電率とを有する有機バインダー、ただし、該バインダーがポリスチレンのホモポリマーである場合、その分子量は20000ドルトン未満および好ましくは15000ドルトン未満であり、かつ好ましくは1000ドルトンより大きいという条件が付く、
を含む。
電界効果トランジスタのさらに好ましいサブグループは、
a)有機半導体、ならびに、
b)少なくとも95%、好ましくは少なくとも98%、および好ましくはすべての原子が、水素、フッ素および炭素原子であるバインダー、ただし、該炭化水素バインダーがポリスチレンのホモポリマーである場合、その分子量は20000ドルトン未満および好ましくは15000ドルトン未満であり、かつ好ましくは1000ドルトンより大きいという条件が付く、
を含む連続半導体層を含む。半導体は、n型またはp型であることができる。
有機半導体は、少なくとも3個の芳香環を含有する共役芳香族分子であることができる。好ましい有機半導体は5、6または7員芳香環を含有し、特に好ましい有機半導体は5または6員芳香環を含有する。
芳香環のそれぞれは、所望により、Se、Te、P、Si、B、As、N、OまたはS、好ましくはN、OまたはSから選択される1個以上のヘテロ原子を含有していてもよい。
その環は、所望により、アルキル、アルコキシ、ポリアルコキシ、チオアルキル、アシル、アリールもしくは置換アリール基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、または所望により置換されている第二級もしくは第三級アルキルアミンもしくはアリールアミン−N(R)(R)[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、H;所望により置換されているアルキル;所望により置換されているアリール;アルコキシ;またはポリアルコキシ基である]で、置換されていてもよい。アルキルおよびアリール基は、所望によりフッ素化されていてもよい。
その環は、所望により縮合していてもよく、または−C(T)=C(T)−、−C≡C−、−N(R’)−、−N=N−、(R’)=N−、−N=C(R’)−などの共役連結基と連結していてもよい。TおよびTは、それぞれ独立して、H、Cl、F、−C≡Nまたは低級アルキル基、詳細にはC1−4アルキル基を表し;R’は、H、所望により置換されているアルキル、または所望により置換されているアリールを表す。アルキルおよびアリール基は、所望によりフッ素化されていてもよい。
本発明に用いることができる他の有機半導体材料には、可溶性化合物および以下のリストの化合物の可溶性誘導体が含まれる:
共役炭化水素ポリマー、例えば、ポリアセン、ポリフェニレン、ポリ(フェニレンビニレン)、ポリフルオレンと、そのような共役炭化水素ポリマーのオリゴマー;縮合芳香族炭化水素、例えば、テトラセン、クリセン、ペンタセン、ピレン、ペリレン、コロネン;パラ位が置換されているオリゴマー状フェニレン、例えば、p−クアテルフェニル(p−4P)、p−キンクフェニル(p−5P)、p−セキシフェニル(p−6P);共役ヘテロ環式ポリマー、例えば、ポリ(3−置換チオフェン)、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、ポリベンゾチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリ(N−置換ピロール)、ポリ(3−置換ピロール)、ポリ(3,4−二置換ピロール)、ポリフラン、ポリピリジン、ポリ−1,3,4−オキサジアゾール、ポリイソチアナフテン、ポリ(N−置換アニリン)、ポリ(2−置換アニリン)、ポリ(3−置換アニリン)、ポリ(2,3−二置換アニリン)、ポリアズレン、ポリピレン;ピラゾリン化合物;ポリセレノフェン;ポリベンゾフラン;ポリインドール;ポリピリダジン;ベンジジン化合物;スチルベン化合物;トリアジン;置換されている金属ポルフィリンもしくは金属を含まないポルフィリンか、フタロシアニンか、またはナフタロシアニン;C60およびC70フラーレン;N,N’−ジアルキル、置換ジアルキル、ジアリールまたは置換ジアリール−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド;N,N’−ジアルキル、置換ジアルキル、ジアリールまたは置換ジアリール3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸ジイミド;バトフェナントロリン;ジフェノキノン;1,3,4−オキサジアゾール;11,11,12,12−テトラシアノナフト−2,6−キノジメタン;α,α’−ビス(ジチエノ[3,2−b2’3’−d]チオフェン);2,8−ジアルキル、置換ジアルキル、ジアリールまたは置換ジアリールアントラジチオフェン;2,2’−ビベンゾ[1,2−b:4,5−b’]ジチオフェン。半導体の好ましいクラスは、式1の反復単位を有する:
Figure 0004429603
[式中、各Yは、独立して、P、S、As、NおよびSeから選択され、好ましくはYはNであり;ArおよびArは芳香族基であり、Arは、YがN、PまたはAsである場合にのみ存在し、その場合は同様に芳香族基である]。Ar、ArおよびArは、同一または異なっていることができ、異なる反復単位にある場合は独立して、少なくとも1個の所望により置換されているC1−40カルビル誘導基および/または少なくとも1個の他の所望による置換基で所望により置換されている多価(好ましくは二価)芳香族基(好ましくは単核であるが所望により多核)を表し、そしてArは、異なる反復単位にある場合は独立して、少なくとも1個の所望により置換されているC1−40カルビル誘導基および/または少なくとも1個の他の所望による置換基で所望により置換されている一価または多価(好ましくは二価)芳香族基(好ましくは単核であるが所望により多核)を表す。ここで、少なくとも1個の末端基は、ポリマー鎖をキャップしてポリマーのさらなる生長を防止するように、ポリマー中でポリマー鎖末端に位置するAr、Arおよび所望によりAr基に付着しており、そして少なくとも1個の末端基は、前記ポリマー状材料を形成させるための重合において、その分子量を制御するために用いられる少なくとも1種の末端キャッピング剤から誘導される。
WO99/32537は本出願人の特許出願であり、式1の反復単位を有する特定の新規オリゴマーおよびポリマーについて記載されている。その発明では、このタイプのポリマーを、末端キャッピング剤を添加して、最終ポリマーの分子量、したがってその電荷輸送材料としての望ましい特性を制御することにより調製する。これらの材料は本発明における半導体としてとりわけ有用なので、この出願の開示内容を本明細書中で参考として援用する。
本発明において、1分子につき存在することができる式1の反復単位の数は、2〜1000、好ましくは3〜100、より好ましくは3〜20(20を含む)であることができる。
好ましいポリマー状材料は、ポリマー鎖のさらなる生長を実質的に低減するに足る量で少なくとも1種の末端キャッピング剤を加えることによって制御された重合により、得ることができる。
式1においてArおよびArから延長している星印は、これらの基が多価(式1に示されているような二価を含む)であってもよいことを示すものである。
本発明において有用であることができる他のアミン材料は、テトラキス(N,N’−アリール)ビアリールジアミン、ビス(N,N’−[置換フェニル])、ビス(N,N’−フェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミンと、それらの4−メチル、2,4−ジメチルおよび/または3−メチル誘導体;トリフェニルアミンとそのアルキルおよびアリール誘導体ならびにポリ(N−フェニル−1,4−フェニレンアミン);N−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−イリデン−N’,N’−ジ−p−トリル−ベンゼン−1,4−ジアミン、(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−ジ−p−トリル−アミンおよびそれらの誘導体である。本発明に同様に用いてもよい関連材料が、特許DE3610649、EP0669654−A(=米国特許第5681664号)、EP0765106−A、WO97−33193、WO98−06773、米国特許第5677096号および米国特許第5279916号に記載されている。
共役オリゴマー状およびポリマー状ヘテロ環式半導体は、式2に示されているような、所望により置換されている五員環の反復単位と末端基AおよびAとを含むことができる:
Figure 0004429603
[式中、XはSe、Teまたは好ましくはO、Sもしくは−N(R)−であることができ、ここでRは、H、所望により置換されているアルキルまたは所望により置換されているアリールを表し;R、R、AおよびAは、独立して、H、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、アシル、アリールもしくは置換アリール、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、または所望により置換されている第二級もしくは第三級アルキルアミンもしくはアリールアミン−N(R)(R)であることができ、ここでRおよびRは、先に定義したとおりである]。R、R、R、R、AおよびAで表されるアルキルおよびアリール基は、所望によりフッ素化されていてもよい。式2の共役オリゴマー中の繰り返し単位の数は整数nで表され、ここでnは好ましくは2〜14である。好ましいオリゴマーは、X=S、RおよびR=H、ならびにAおよびA=所望により置換されているC1−12アルキル基を有し、特に好ましい化合物の例では、AおよびA=n−ヘキシルであり、n=4の場合はα−ω−n−ヘキシルクアテルチエニレン(α−ω4T)、n=5の場合はα−ω−n−ヘキシルペンタチエニレン(α−ω−5T)、n=6の場合はα−ω−n−ヘキシルヘキサチエニレン(α−ω−6T)、n=7の場合はα−ω−n−ヘキシルヘプタチエニレン(α−ω−7T)、n=8の場合はα−ω−n−ヘキシルオクタチエニレン(α−ω−8T)、およびn=9の場合はα−ω−n−ヘキシルノナチエニレン(α−ω−9T)である。共役連結基を含有するオリゴマーは、式3により表すことができる:
Figure 0004429603
[式中、XはSe、Teまたは好ましくはO、Sもしくは−N(R)−であることができ、Rは先に定義したとおりであり;R、R、AおよびAは、式2について先に定義したとおりである]。連結基Lは、−C(T)=C(T)−、−C≡C−、−N(R’)−、−N=N−、(R’)=N−、−NC(R’)−を表し、TおよびTは上記のように定義される。
ポリマーは、一般式4の反復単位を有する:
Figure 0004429603
[式中、X、RおよびRは、上記のように定義される]。サブ単位を、式4〜6に示されているような反復単位を含む位置規則性または位置不規則性ポリマーが生じるように、重合してもよい:
Figure 0004429603
ポリマーは、一般式7の反復単位を有していてもよい:
Figure 0004429603
式中、Xは先に定義したとおりであり、架橋基Aは所望によりフッ素化されているC1−6アルキルであり、例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシ)チオフェン−2,5−ジイルおよびポリ(3,4−トリメチルジオキシ)チオフェン−2,5−ジイルである。
ポリマーは、一般式8の反復単位を有していてもよい:
Figure 0004429603
[式中、X、RおよびRは、上記のように定義される]。具体例は、RまたはRの一方が一般式C2n+1O−のアルコキシドで、RまたはRの他方がHである場合であり、ポリ(?’−ドデシルオキシ−α,α’−α,α’’テルチエニル)、すなわちポリDOTである。
ポリマーは、一般式9の反復単位を有していてもよい:
Figure 0004429603
[式中、Xは先に定義したとおりであり;RおよびRは、独立して、H、アルキル、アリールまたは置換アリールであることができる]。アルキルおよびアリール基は、所望によりフッ素化されていてもよい。
ポリマーは、一般式10の反復単位を有していてもよく、ここでRおよびRは、式9で定義したとおりである:
Figure 0004429603
先に記載したような反復単位に加えて、2種以上の反復単位を含む他の反復単位も含むコポリマーを、用いてもよい。
バインダーは、通常、共役結合、特に共役二重結合および/または芳香環を含有していることが好ましい。それは、好ましくは膜、より好ましくは軟質膜を形成すべきである。スチレンとαメチルスチレンのコポリマー、例えば、スチレン、αメチルスチレンおよびブタジエンのコポリマーを好適に用いることができる。
低誘電率のバインダー材料は、永久双極子をほとんど有さない。さもなければ、分子の部位エネルギー(site energy)にランダムなゆらぎ(random fluctuation)がもたらされる可能性がある。誘電率(誘電定数)は、ASTM D150試験法により決定することができる。
材料の誘電率は、周波数への依存度が小さいことが望ましい。これは、無極性材料の特徴である。ポリマーおよび/またはコポリマーは、それらの置換基の誘電率に基づき選択することができる。本発明での使用に適した低極性ポリマーのリストを、表1にあげる(これらの例に限定されるわけではない):
Figure 0004429603
その他のポリマーには、ポリ(4−メチルスチレン)、ポリ(1,3−ブタジエン)またはポリフェニレンが含まれる。上記ポリマーの反復単位を含有するコポリマーも適切である。コポリマーは、有機半導体との相溶性を改善する可能性を提供して、最終組成物の形態およびガラス転移温度を改変する。上記表において、一部の材料は、一般に用いられている溶媒に不溶であることがわかるであろう。これらの場合、類似体をコポリマーとして用いることができる。コポリマーのいくつかの例を、表2にあげる(これらの例に限定されるわけではない)。ランダムコポリマーまたはブロックコポリマーの両方を用いることができる。組成物全体が低い極性を維持する限り、より極性の高いモノマー成分を若干加えてもよい。
Figure 0004429603
その他のコポリマーには、分枝または非分枝のポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン、ポリスチレン−ブロック(ポリエチレン−ran−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン、ポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン−ブロック−ポリスチレン、ポリスチレン−(エチレン−プロピレン)−ジブロック−コポリマー(例えば、KRATON(登録商標)−G1701E、Shell)、ポリ(プロピレン−co−エチレン)およびポリ(スチレン−co−メタクリル酸メチル)が含まれていてもよい。
p−チャネルFETの場合、バインダー材料が半導体より高いイオン化電位を有すべきであることが望ましい。さもなければ、バインダーが正孔トラップを形成する可能性がある。n−チャネル材料では、バインダーは、電子捕獲を回避するためにn−型半導体より小さい電子親和力を有すべきである。
バインダーは、液体モノマー、オリゴマーまたは架橋性ポリマー中に半導体を溶解し、その溶液を、例えばそれを浸漬、噴霧、塗装または印刷することにより、基板上に蒸着して膜を形成させた後、前記液体モノマー、オリゴマーまたは架橋性ポリマーを、例えば放射線、熱または電子ビームに暴露することによって硬化して固体層を作製することにより、in situで形成させることができる。
予備形成させたバインダーを用いる場合、それを適切な溶媒中で半導体と一緒に溶解し、その溶液を、例えばそれを浸漬、噴霧、塗装または印刷することにより、基板上に蒸着して膜を形成させた後、溶媒を除去して、固体層を残すことができる。適切な溶媒は、バインダーと有機半導体の両方に対し良好な溶媒であり、溶液ブレンドからの蒸発して干渉性欠陥(coherent defect)のない膜をもたらすようなクラスから選択する。その樹脂または有機半導体に適した溶媒は、混合物が利用される濃度において、ASTM法D3132に記載されているように材料に関する等高線図を作製することにより、決定することができる。その材料を、ASTM法に記載されているような多種多様な溶媒に加える。検討することができる有機溶媒の例は:CHCl、CHCl、モノクロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、テトラヒドロフラン、アニソール、モルホリン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、1,4−ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラリン、デカリンおよび/またはそれらの混合物である。適切な混合およびエージングの後、溶液を、以下の部類の1種として評価する:完全溶液、境界的溶液(borderline solution)または不溶物。等高線を描いて、溶解性パラメーター(溶解性と不溶性を分類する水素結合限界(hydrogen bonding limits))の概略を示す。溶解性の範囲に含まれる‘完全’溶媒は、“Crowley,J.D.,Teague,G.S.JrおよびLowe,J.W.Jr.,Journal of Paint Technology,38,No 496,296(1966)”に公表されているような文献値から選択することができる。溶媒のブレンドを使用してもよく、これは“Solvents,W.H.Ellis,Federation of Societies for Coatings Technology,p9−10,1986”に記載されているように同定することができる。そのような手順の結果が、‘非’溶媒のブレンドで、バインダーと有機半導体の両方を溶解するものであってもよいが、ブレンド中に少なくとも1種の真溶媒を有することが望ましい。
バインダーと半導体の割合は、好ましくは20:1〜1:20、より好ましくは10:1〜1:10、特に5:1〜1:5である。
本発明の他の特徴に従って、電界効果トランジスタの生産方法であって、基板を、有機半導体、バインダーおよび溶媒を含むか、または有機半導体および反応してバインダーを形成することができる材料を含む液層で、コーティングし、そして該液層を、溶媒を蒸発させるか、または場合によっては該材料を反応させてバインダーを形成させることにより、半導体およびバインダーを含む固体層に転化する工程を含む方法を提供する。ここで、バインダーは、少なくとも95%、好ましくは少なくとも98%、および好ましくはすべての原子が、水素、フッ素および炭素原子である膜形成性バインダーであるか、あるいは、10−6S/cm未満の固有導電率と、3.3未満、好ましくは3未満およびより好ましくは2.8未満でありかつ好ましくは1.7を超え、例えば2.0〜2.8である誘電率とを有する有機バインダーであり、ただし、該炭化水素バインダーがポリスチレンのホモポリマーである場合、その分子量は20000ドルトン未満および好ましくは15000ドルトン未満であり、かつ好ましくは1000ドルトンより大きいという条件が付く。
現代のミクロ電子工学では、コストを削減し(より多くのデバイス/単位面積)電力消費量を低減させるために、小さな構造体を生成させることが望ましい。パターニングは、フォトリソグラフィーまたは電子ビームリソグラフィーにより実施することができる。有機電界効果トランジスタの液体コーティングは、真空蒸着技術より望ましい。本発明の半導体組成物により、多くの液体コーティング技術を用いることが可能になる。有機半導体層を、浸漬コーティング、スピンコーティング、インクジェット印刷、凸版印刷、スクリーン印刷、ドクターブレードコーティング;ローラー印刷、リバースローラー印刷;オフセットリソグラフィー印刷、フレキソ印刷、ウェブ印刷、スプレーコーティング、ブラシコーティングまたはパッド印刷により、最終デバイス構造体中に組み込むことができる。
本発明の選択された組成物を、予備製造したトランジスタ基板に、インクジェット印刷またはマイクロディスペンシング(microdispensing)により適用してもよい。好ましくは、有機半導体層を適用するために、工業的圧電印刷ヘッド、例えば、Aprion、Hitachi−Koki、InkJet Technology、On Target Technology、Picojet、Spectra、Trident、Xaarにより供給されるものを用いるが、これに限定されない。これに加えて、半工業的ヘッド、例えば、Brother、Epson、Konica、Seiko Instruments、Toshiba TECにより製造されているものか、または単一ノズルのマイクロディスペンサー、例えば、MicrodropおよびMicrofabにより生産されているものを、用いてもよい。
インクジェット印刷またはマイクロディスペンシングにより適用するためには、組成物を、最初に適切な溶媒中に溶解しなければならない。溶媒は、本文書中で上記した必要条件を満たすものでなければならず、選択した印刷ヘッドに対し有害作用を有していてはならない。これに加えて、溶媒は、印刷ヘッド内部で溶液が乾固することにより引き起こされる操作性の問題を防ぐために、>100℃、より好ましくは>150℃の沸点を有すべきである。適切な溶媒には、置換および非置換キシレン誘導体;ジ−C1−2−アルキルホルムアミド;置換および非置換アニソールおよび他のフェノールエーテル誘導体;置換ヘテロ環、例えば、置換されているピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピロリジノン;置換および非置換N,N−ジ−C1−2−アルキルアニリン;ならびに他のフッ素化または塩素化芳香族が含まれる。
有機半導体組成物中にポリマー性バインダーを混入すると、コーティング溶液の粘度を、特定の印刷ヘッドの必要条件を満たすように変えることができる。インクジェット印刷に好ましい粘度は1〜25mPa、より好ましくは8〜15mPa、特に3〜15mPaである。
半導体デバイスの特徴を形成させるための直接パターニング(印刷)では、液体コーティングを用いることができる。これは、フォトリソグラフィーなどの減色法に比べて容易であり、無駄が少ない。高品質な微細構造体を作製するための適切な非リソグラフィー技術の概要を、以下の表3(これらの例に限定されない)に列挙する(Angew.Chem.Int.Ed.,1998,37,550−575)。
Figure 0004429603
基板、絶縁タイプおよび電極は従来タイプのものであってもよいが、トランジスタは、物理的応力に対し堅牢性および抵抗性を示すように、軟質有機材料で作製されるべきである。
トランジスタの膜は、好適には連続単分子層であるが、より厚くてもよく、好ましくは最大50ミクロン、より好ましくは最大1ミクロンの厚みであってもよい。
トランジスタは、従来の設計のものであることができる。
ゲート電圧が印加されていないとき(オフ状態)にソースとドレインの間に流れる電流と、ゲート電圧が印加されているとき(オン状態)に流れる電流との比は、好ましくは少なくとも1:10、より好ましくは1:1000であることが好ましい。
膜は非晶質であることが好ましい。それは、単相、分離した二連続相(bicontinuous, phase separated)、または他の成分(1以上)中の1種以上の成分(1以上)の分散系であることができる。それは、それぞれがそれ自体連続相になるように互いにしみ込むことができる、1種以上の相からなっていてもよい。第1の成分a)は、米国特許第5500537号に記載されているような半導体の混合物であることができ、第2の成分b)は、バインダーの混合物であることができる。
本発明のトランジスタは、より複雑なデバイスに構成部品として組み入れてもよい。
実施例
すべての合成的調製を、乾燥した脱酸素化二窒素(deoxygenated dinitrogen)雰囲気下で実施した。反応生成物の精製には、適切な溶媒(例えば:ヘキサン、トルエンなど)を溶離剤として用いて、乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーを使用した。必要な場合、許容しうる電気的特質の材料を得るために、このプロセスを繰り返した。
GPC分析は、PL混合Dゲルカラム;THF溶離剤;およびポリスチレン標準物質を用いて実施した。あげてある数字は、100ドルトンに近似した正確さの重量平均分子量であり、二重注入に基づく信頼限界は+/−5%である。
半導体の調製
実施例1 末端がキャップされている2,4−ジメチルポリマー(式12)の調製
Figure 0004429603
この材料を、WO99/32537に記載されている手順を用いて調製すると、灰色がかった白色の固体が得られた(20.2g)。(M=3100)。
実施例2 2,4−ジメチルポリマー(式13)の調製
Figure 0004429603
塩化ニッケル(II)(0.97g)、亜鉛粉末(59.1g)、トリフェニルホスフィン(39.3g)、2,2’ビピリジル(1.76g)および無水N,N−ジメチルアセトアミド(1000mL)を2Lフラスコに入れ、撹拌しながら80℃に加熱すると、触媒形成の特徴である深紅/褐色の溶液が生じた。
80℃で30分後、ビス(N−4−クロロフェニル)−2,4−ジメチルフェニルアミン(100g)を加えた。オリゴマー化の後、HPLCに付した。さらに105分後、反応混合物を室温に冷却した。その後、反応混合物を、トルエン(250mL)と一緒に5リットルのビーカー中に注ぎ入れた。その後、残留亜鉛を、撹拌混合物に濃塩酸を徐々に加えることにより破壊した。有機層を分離して取り出し、水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、そして最後に水で洗浄した。その後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。濾液を濃縮すると、黄色固体が得られた。これを乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製すると、淡黄色固体が得られた(80.9g)。(M=7700)。
上記で調製した材料の一部を、以下の手順を用いて還元した。
10% Pd/C(12.5g)および蒸留水(145mL)を、2Lフラスコに入れた。その混合物を十分に撹拌すると、懸濁液が得られた。その後、ギ酸アンモニウム(100g)と、これに続いて上記で調製した材料の一部[トルエン(425mL)中に26g溶解したもの]を加えた。このトルエン溶液の約1/2を加えた後、フラスコおよび内容物を70℃に加熱した(発泡した)。その後、残りのトルエン溶液を30分かけて加えた。温度は、60〜70℃で24時間維持した。室温に冷却後、混合物を濾過し、トルエン溶液を分離して取り出し、3×500mLの水で洗浄し、濃縮した。得られた固体をテトラヒドロフラン(150mL)に溶解し、撹拌メタノール(600mL)中に沈殿させた。固体を濾過により取り出した後、それらをメタノールで洗浄し、真空オーブンで乾燥した。その後、粗生成物を乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製すると、最終生成物が淡黄色粉末(23.8g)の試料Aとして得られた。
分析:Cl含量<50ppm(M=7400)
2,4−ジメチルポリマー(式13)の分別。
上記で調製した最終生成物(試料A)を、以下のように分別した:それをテトラヒドロフラン(THF)(1部)中に溶解し、撹拌メタノール(2部)中に滴下して加え、沈殿を濾過により取り出し、濾液を濃縮すると、画分1が得られた。画分2および3を、同様に、最初の沈殿をTHF(1部)中に溶解し、メタノール(それぞれ1.5部および1部)中に沈殿させることにより得た。
3種の沈殿の後に残留する固体を十分に乾燥した後、トルエンに溶解した。ヘキサンを、撹拌トルエン溶液に、少量の沈殿が生じるまで滴下して加えた。この沈殿を濾過により収集し、ヘキサンで洗浄し、乾燥した。さらに少量のヘキサンを溶液に加え、沈殿を除去し、沈殿固体を乾燥することにより、さらに9種の画分が得られた。最終画分は、残留溶液をロータリーエバポレーターで蒸発させることにより得られた。
合計13種の画分が、M=700〜M=10000で得られた。すべての画分は、<50ppmのClを含有していることがわかった。
Figure 0004429603
実施例3 フルオレンポリマー(式14)の調製
i)2−ブロモ−9,9−ジメチル−9H−フルオレンの調製
Figure 0004429603
1L丸底フラスコに、2−ブロモフルオレン(50.0g)、カリウムtert−ブトキシド(68.8g)および無水ジメチルスルオキシド(DMSO)(210mL)を入れた。反応混合物は、直ちに色において明るい赤色になり、発熱が観察された。反応混合物を30分間撹拌し、次に水浴で40℃に加温した後、ヨードメタン(69.5g、31mL)を、温度が45℃を超えて上昇しないような速度で3時間かけて滴下して加えた。この時点で明るい紫色になっている反応混合物を、45℃でさらに40分間維持した後、反応は完了したと考えた。反応混合物を放置して室温に冷却し、蒸留水(500mL)を含有するビーカー中に注ぎ入れた後、ジクロロメタン(DCM)(4×300mL)で抽出した。水性画分を廃棄し、有機溶液を蒸留水(4×300mL)、塩酸(2M、300mL)および蒸留水(300mL)で連続的に洗浄した。有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮すると、赤色オイルが得られた。これを乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、黄色オイルが得られた。バルブからバルブへの蒸留(bulb-to-bulb distillation)(200〜215℃、1.5mmHg)では未知の不純物を除去することができなかったので、不純な表題化合物を黄緑色オイルとして収集した(49.5g、HPLCでの測定による90面積%の純度)。
ii)(4’−クロロフェニル)−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−アミンの調製
Figure 0004429603
500mL五頸反応フラスコに、2−ブロモ−9,9−ジメチル−9H−フルオレン(25.0g)(上記で調製したもの)、4−クロロアニリン(12.9g)、ナトリウムtert−ブトキシド(12.3g)、rac−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(rac−BINAP)(0.4g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)−ジパラジウム(0)(Pd(dba))(0.2g)および1,4−ジオキサン(180mL)を入れた。この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、この温度で66時間保持した後、反応は、TLC分析により示されるものとして、完了したと考えた。反応混合物を放置して室温に冷却した後、ヘキサン(1L)を含有するビーカー中に注ぎ入れた。残留固体を濾過により取り出し、濾過ケーキをヘキサン(300mL)で洗浄した。有機濾液と洗液を合わせたものを濃縮すると、黒色/褐色オイルが得られ、これを乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製した。表題アミンを、赤色/褐色の粘性オイルとして単離した(12.8g)。
iii)N,N−ビス(4−クロロフェニル)−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−アミンの調製
Figure 0004429603
Dean−Stark装置を装備する250mL五頸反応フラスコに、1−クロロ−4−ヨードベンゼン(14.4g)、(4’−クロロフェニル)−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−アミン(12.8g)、1,10−フェナントロリン(1.5g)およびo−キシレン(80mL)を入れた。反応混合物を撹拌しながら急速に100℃に加熱した後、塩化銅(I)(0.8g)および水酸化カリウム薄片(18.0g)を加えた。得られた混合物を135℃に加熱し、この温度で2時間保持した。その混合物を放置して室温に冷却し、トルエン(100mL)および蒸留水(100mL)を含有するビーカー中に注ぎ入れた。この混合物を濾過し、濾過ケーキをトルエン(100mL)で洗浄した。有機濾液と洗液を合わせたものを分離し、蒸留水(100mL)および飽和塩化ナトリウム水溶液(100mL)で洗浄した。水性洗液を合わせたものをトルエン(100mL)で逆抽出した後、有機抽出物を合わせたものを無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、緑色の粘性オイルが得られた。これを乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製すると、表題アミンが白色結晶質粉末として得られた(13.8g)。
iv)フッ素ポリマー(式14)の調製
Figure 0004429603
500mL五頸反応フラスコに、塩化ニッケル(II)(0.1g)、亜鉛粉末(6.0g)、2,2’−ビピリジル(0.2g)、トリフェニルホスフィン(3.9g)および無水N,N−ジメチルアセトアミド(120mL)を入れた。反応混合物を70℃に加熱すると、40分後に、触媒形成の特徴である深紅/褐色の溶液が観察された。アミンモノマーおよびビス(N−4’−クロロフェニル)−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−アミン(12.6g)を加え、ボール紙のような褐色の得られた混合物を撹拌し、75〜80℃で3.5時間維持した。1−クロロ−3−メチルベンゼン(9.0g)を加え、HPLC分析により示されるものとして、ポリマー末端が効果的にキャップされたことを確実にするために、得られた混合物をさらに45時間撹拌した。反応混合物を放置して室温に冷却し、トルエン(150mL)で希釈し、0℃に冷却した。濃塩酸(30mL)を混合物に慎重に加えて、過剰な亜鉛を破壊した。その2相混合物を分離し、水性画分を廃棄した。有機画分を、蒸留水(100mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mL)および飽和塩化ナトリウム水溶液(100mL)で連続的に洗浄した。その後、有機画分を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、濃縮すると、粘性の緑黄色オイルが得られた。そのオイルをテトラヒドロフラン(THF)(150mL)に溶解し、メタノール(600mL)に加えた。得られた沈殿を収集し、さらにメタノール(100mL)で洗浄し、減圧乾燥した。粗生成物を乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、生成物が黄色粉末として得られた(7.8g)。M=3700。Cl含量0.4%w/w。
Figure 0004429603
実施例4 フルオレンコポリマー(式15)の調製
i)2,7−ジブロモ−9,9−ジ−n−オクチル−9H−フルオレンの調製
Figure 0004429603
1L五頸反応フラスコに、2,7−ジブロモフルオレン(100.0g)、無水DMSO(200mL)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(3.9g)および50重量%の水酸化ナトリウム水溶液100mLを入れた。反応混合物は、直ちに色において明るい橙色になった。1−ブロモオクタン(179.0g、160mL)を、30分にわたり滴下して加えた。添加により、穏やかな発熱が起こった。添加終了後、混合物を90℃に加熱し、この温度で2日間保持した。その後、混合物をさらに4日間還流した後、反応は完了したと考えた。その後、反応混合物を、蒸留水(300mL)を含有するビーカー中に注ぎ入れ、ジエチルエーテル(400mL)で抽出した。有機抽出物を、飽和塩化ナトリウム水溶液(100mL)および蒸留水(2×100mL)で連続的に洗浄した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮すると、黄色シロップが得られ、これは静置すると凝固した。その固体をアセトンとメタノールの混合物から結晶化すると、生成物が得られた(109.0g)。
ii)2,7−(9,9−ジ−n−オクチル−9H−フルオレン−2−イル)−ビス[1,3,2]ジオキサボロランの調製
Figure 0004429603
500mL五頸反応フラスコに、2,7−ジブロモ−9,9−ジ−n−オクチル−9H−フルオレン(20.0g)および無水THF(200mL)を入れた。その混合物を−78℃に冷却し、ヘキサン中のn−ブチルリチウムの2.5M溶液(29mL)を10分間にわたり滴下して加えた。橙色沈殿が形成し、得られたスラリーを−78℃で2時間撹拌した。ホウ酸トリイソプロピル(34mL)と、これに続きTHF(50mL)を加えた。得られた混合物を−78℃でさらに1.5時間撹拌した後、これを放置して室温に温め、さらに18時間撹拌した。その後、反応混合物を、塩酸(2M、540mL)を含有するビーカー中に−5℃で注ぎ入れ、1時間撹拌した。その後、反応混合物をジエチルエーテル(500mL)で抽出した。有機抽出物を分離し、飽和塩化ナトリウム水溶液(250mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その溶液を濃縮すると、ゼラチン状の残渣が得られた(19.2g)。これをトルエン(250mL)中に懸濁させ、オーバーヘッドスターラー(overhead stirrer)と還流冷却器付きDean−Stark装置とを装備した500mL五頸反応フラスコに移した。エタンジオール(エチレングリコール)(6.8g)を加え、得られた混合物を3時間還流した。この間に、120mLのトルエンをオーバーヘッドとして、反応中に形成した少量の水と共に収集した。その後、反応混合物を濃縮した。得られた黄色オイルをヘキサン(50mL)に溶解し、0℃に冷却した。沈殿が形成し、これを減圧濾過により収集した。この材料をヘキサンから再結晶化し、減圧乾燥すると、白色粉末として表題化合物が得られた(6.8g)。
iii)N,N−ビス(4’−ブロモフェニル)−4−sec−ブチルフェニルアミンの調製
Figure 0004429603
オーバーヘッドスターラーと還流冷却器付きDean−Stark装置とを装備した250mL五頸反応フラスコに、4−sec−ブチルアニリン(18.8g)、1−ブロモ−4−ヨードベンゼン(106.9g)、1,10−フェナントロリン(4.5g)およびo−キシレン(100mL)を入れた。反応混合物を撹拌しながら急速に110℃に加熱した後、塩化銅(I)(2.5g)および水酸化カリウム薄片(40.3g)を加えた。その混合物を149℃で3時間加熱し、室温に冷却した後、トルエン(100mL)および蒸留水(100mL)を含有するビーカー中に注ぎ入れた。その2相混合物を濾過した後、有機層を分離した。有機層を、蒸留水(100mL)および飽和塩化ナトリウム水溶液(100mL)で洗浄した。水相を合わせたものをトルエン(100mL)で逆抽出し、有機抽出物を合わせたものを無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、暗褐色固体が得られた。この粗生成物を乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、無色オイルが得られ、これは静置すると結晶化した。この固体をアセトンとエタノールの混合物から再結晶化すると、白色針状結晶として表題アミンが得られた(23.8g)。
iv)コポリマー(式15)の調製
Figure 0004429603
250mL五頸反応フラスコに、N,N−ビス(4’−ブロモフェニル)−4−sec−ブチルフェニルアミン(2.8g)、2,7−(9,9−ジ−n−オクチル−9H−フルオレン−2−イル)−ビス[1,3,2]ジオキサボロラン(3.2g)、トルエン(45mL)、ALIQUAT 336(登録商標)(1g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.1g)および炭酸ナトリウム水溶液(2M、10mL)を入れた。得られた混合物を、20時間穏やかに加熱還流した。その後、ブロモベンゼン(1.5g)を加え、さらに1時間還流し続けた。反応混合物を放置して室温に冷却した後、メタノールと水の混合物(それぞれの体積比は9:1)を1L加えた。得られた緑色の繊維状沈殿を収集し、さらにメタノール(200mL)で洗浄し、乾燥した。この材料をトルエン(200mL)に溶解し、蒸留水(200mL)、塩酸(6M、2×120mL)、蒸留水(200mL)、エチレンジアミンの10体積%水溶液(2×100mL)、蒸留水(200mL)、塩酸(2M、150mL)および蒸留水(200mL)で、連続的に洗浄した。有機層を濃縮した。粗生成物を乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、黄色粉末が得られた(3.1g)。M=37900。
実施例5 N,N−ビス(4−トリル)−(9,9−ビメチル−9H−フルオレン−2−イル)−アミン(式16)の調製
Figure 0004429603
ジ−p−トリルアミン(21.25g)をトルエン(200mL)と共に撹拌して溶液にした。ナトリウムt−ブトキシド(12.07g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(0.897g)およびトリ−o−トリルホスフィン(1.092g)を、その撹拌溶液に加えた。得られた混合物を100℃で2時間加熱し、室温に冷却し、ジクロロメタン(600mL)で希釈した。その混合物をブライン(200mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、濃縮すると、粗生成物が褐色の油状固体として得られた(48.87g)。
粗生成物を、乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製すると、生成物が淡黄色固体として得られた(22.9g)。
実施例6 9,9ジ−2−エチルヘキシルフルオレンとビチオフェンのコポリマー(式17)の調製
10mL三頸反応フラスコに、2,7−ビス(1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9’−(2−エチルヘキシル)フルオレン(0.5g)、5,5’−ジブロモ−2,2’−ビチオフェン(0.3g)、リン酸カリウム(35%w/w水溶液、0.81g)、ジオキサン(4.2mL)およびトルエン(1.4mL)を入れた。その後、酢酸パラジウム(II)(0.2mg)およびトリ(o−トリル)ホスフィン(1.6mg)を加え、反応混合物を3時間還流した。その後、混合物を室温に冷却し、さらに16時間撹拌した。その後、反応混合物をデカントすると、固体残渣(A)および暗黄色溶液(B)が得られた。溶液(B)を、希塩酸(2M、5mL)および水(3×30mL)で継続的に洗浄した。その後、それを濃縮すると、橙色固体が得られた(0.34g);M=20600。
固体残渣(A)をテトラヒドロフラン(20mL)に溶解し、撹拌しているメタノール(400mL)中に沈殿させた。得られた固体を濾過により収集し、トルエン(20mL)に溶解し、乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、橙色固体が得られた(0.15g)。M=52700。
Figure 0004429603
実施例7 位置規則性ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(式18)の調製
位置規則性ポリ(3−ヘキシルチオフェン)を、R.D.McCulloughおよびR.S.Loeweにより米国特許第6166172号に記載されている手順に従って調製した。180mgの純粋な材料を単離した。M=21800。
Figure 0004429603
実施例8 9,9−ジオクチルフルオレンとビチオフェンのコポリマー(式19)の調製
10mL三頸反応フラスコに、2,7−ビス(1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9’−ジオクチルフルオレン(0.5g)、5,5’−ジブロモ−2,2’−ビチオフェン(0.3g)、リン酸カリウム(35%w/w水溶液、0.81g)、ジオキサン(4.2mL)およびトルエン(1.4mL)を入れた。その後、酢酸パラジウム(II)(0.2mg)およびトリ(o−トリル)ホスフィン(1.6mg)を加え、反応混合物を14時間還流した。反応混合物をトルエン(50mL)で希釈し、有機層を残留固体から分離した。この溶液を、希塩酸(2M、10mL)、水(3×50mL)で継続的に洗浄した後、濃縮すると、橙色固体が得られた。その固体をトルエン(10mL)に溶解し、乾燥フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)により精製すると、橙色固体(0.33g)が得られた。M=17300。
Figure 0004429603
試験を行ったその他の半導体はすべて、商業的供給源から供給されたまま、すなわち:
‘syntec’=トリアリールアミンオリゴマー(Syntec CAS番号65181−78−4)
‘syntec2’=2,9−ジ(ペント−3−イル)−アントラ[2,1,9−def:6,5,10−d’e’f’]ジイソキノリン−1,3,8,10−テトロン(CAS#110590−81−3、Syntecから)
‘takasago’=1,1−ジフェニル−4,4−ビス(パラジエチルアミノフェニル)−ブタジエン(Takasagoから)
として使用した。
電界効果移動度の決定
材料の電界効果移動度を、Holland et al,J.Appl.Phys.,1994,75,7954に記載されている技術を用いて試験した。
以下の実施例では、試験用電界効果トランジスタを、基板および同様にゲート電極としても働くシリコン結晶を用いて製造した。シリコンウェハーは、高濃度にドープしてあり、導電性であり、ゲート誘電体として機能する厚さ200nmの絶縁性SiO層を有していた。2つの金製電極を半導体の表面上に形成させて、ドレインおよびソースとした。半導体とバインダーの適切な混合物を、適切な溶媒(表の脚注に特記しない限りトルエン)に溶解し、その溶液を、そのように予備製造したトランジスタ基板上にスピンコーティングして、乾燥すると、100〜200nmの層が得られた。この乾燥は、完全に乾燥するために100℃のオーブン内でベーキングすることにより達成した(表参照)。バインダーはすべて、以下のような商業用であった:
1=ポリカーボネートZ20(ESPRIT CAS#25135−52−8)
2=ポリ−4−メチルスチレン(Aldrichカタログ番号18,227−3)
3=ポリスチレンco−αメチルスチレン(Aldrichカタログ番号45,721−3)
4=ポリ−αメチルスチレン(Aldrichカタログ番号19,184−1)
5=KRATON G1701E(ポリスチレン−(エチレン−プロピレン)ジブロック(Univar))
そのような試験構造体の利点は、すべての素子を予備製造して、活性有機層を単一工程で適用できる点である。したがって、異なる材料でつくられたデバイスを、簡単かつ確実に比較することができる。トランジスタの特徴的パラメーターは、互いに向き合っているドレイン電極とソース電極の長さ(W=20mm)と、それら互いからの距離(L=10μm)である。
すべての材料組成物の試験で、特注のシリコン系トランジスタ基板を用いた。典型的には、1重量部の有機半導体組成物を、99重量部のトルエンまたはTHFに溶解した。その溶液をSiウェハー上にスピンコーティングし、1分間放置して乾燥した。続いて、100℃で20分間さらに乾燥した。この後、デバイスは、すぐに電気的試験に供すことができた。
トランジスタに印加した電圧は、ソース電極の電流に比例する。p型ゲート材料の場合、ゲートに負電圧を印加すると、正電荷キャリア(正孔)がゲート誘電体の反対側の半導体に蓄積される。(nチャネルFETの場合、正電圧を印加する)。これを、蓄積モードという。ゲート誘電体のキャパシタンス/面積(C)が、このようにして誘導される電荷の量を決定する。負電圧(VDS)をドレインに印加すると、蓄積したキャリアが、ソース−ドレイン電流(IDS)をもたらす。これは、主として、蓄積されたキャリアの密度と、重要なことには、ソース−ドレインチャネルでのそれらの移動度とに依存する。ドレインおよびソース電極の配置、大きさおよび距離などの幾何学的因子も、電流に影響を与える。典型的には、一定範囲のゲートおよびドレイン電圧を、デバイスの試験中に走査する。ソース−ドレイン電流は、方程式1により説明される
Figure 0004429603
[式中、Vはオフセット電圧であり、IΩは、ゲート電圧に依存していないオーム電流で、材料の有限導電率に起因する]。その他のパラメーターは、先に記載した。
電気的測定では、トランジスタ試料を試料ホルダーに取り付けた。Karl Suss PH100小型プローブヘッドを用いて、ゲート電極、ドレイン電極およびソース電極にマイクロプローブを接続した。これらをHewlett−Packard 4155Bパラメーター分析器に連結した。ドレイン電圧を−2Vに設定し、ゲート電圧を+2から−20Vまで0.5V段階で走査した。|V|>|VDS|のとき、ソース−ドレイン電流は、Vに対し直線的に変動する。したがって、電界効果移動度を、方程式2により与えられるIDS対Vの勾配から算出することができる。
Figure 0004429603
以下にあげる電界効果移動度を、このレジメ(regime)から算出した(特記しない限り)。オン状態の電流(Ion)対オフ状態の電流(Ioff)の比を、以下の条件を用いて決定した。
DS=−20V、V=−20Vで、ION=IDS
DS=−20V、V=0Vで、IOFF=IDS
膜を形成する有機半導体の場合、電界効果移動度を直接測定することができる。有機半導体が膜を形成しない場合、異なる量の有機半導体とバインダーを含有する一連の膜を形成させ、各膜について電界効果移動度を測定し、その結果を100%有機半導体の組成物に外挿することにより、電界効果移動度を評価することができる。
表中の3つの場合では、Dimitrakopoulos et al.,がSynthetic Metals 1998pp.47−52に記載しているような移動度の測定法を使用した。ドレイン電極、ソース電極およびゲート電極を、Hewlett−Packard 4155Bパラメーター分析器に接続した。2つの場合では、Vを−20Vに保持し、Vを0から−20Vまで、そして再び戻して走査し、第3の場合では、Vを+40Vに保持し、Vを0から+40Vまで、そして再び戻して走査した。Vに比べより負であるVの場合、Iは、蓄積層でのピンチオフにより飽和する(飽和レジメ)傾向があり、これは、方程式3によりモデル化される。
Figure 0004429603
はスレショルド電圧である(上記参考文献参照)。その他のパラメーターは、先に記載してある。本試験の場合では、μを、方程式3を用いて|I1/2対Vのプロットの傾きから算出することができる。
Figure 0004429603
脚注:
1.蒸着に用いた溶媒はTHFであった
2.M2500の画分
3.測定に用いた方法は、Dimitrakopoulosにより記載されたものであった
4.測定に用いた方法は、Dimitrakopoulosにより記載されたものであった
5.蒸着に用いた溶媒はクロロベンゼンであった;測定に用いた方法は、Dimitrakopoulosにより記載されたものであった
6.蒸着に用いた溶媒はアニソールであった。溶液を、工業的なドロップ・オン・デマンド方式の圧電印刷ヘッドに通して、予備製造したトランジスタ基板上にインクジェット印刷した。

Claims (7)

  1. 連続半導体層がソース電極とドレイン電極の間に電界効果チャネルを形成する電界効果トランジスタであって、該連続半導体層が、
    a)有機半導体
    ここで該有機半導体は、
    Figure 0004429603
    [式中、各YはNであり;Ar、Ar及びArは、独立して、芳香族基または置換された芳香族基である]の反復単位を有するポリマー、
    Figure 0004429603
    [式中、RおよびRは、独立して、H、アルキル、アリールまたは置換アリールである」の反復単位を有するポリマー、または
    式1及び式10の反復単位を有するコポリマーである;および、
    b)10−6Scm−1未満の固有導電率と1000Hzにおいて3.3未満の誘電率とを有する有機バインダー、
    を含む、電界効果トランジスタ。
  2. 該有機半導体が10−6Scm−1未満の固有導電率を有する、請求項1に記載の電界効果トランジスタ。
  3. 該有機バインダーがスチレンのホモポリマーであり、その分子量が20000ドルトン未満である、請求項1または2に記載の電界効果トランジスタ。
  4. 該有機バインダーが1000Hzにおいて3.0未満の誘電率を有する、請求項3に記載の電界効果トランジスタ。
  5. 該有機半導体が、以下の式
    Figure 0004429603
    Figure 0004429603
    Figure 0004429603
    Figure 0004429603
    Figure 0004429603
    又は
    Figure 0004429603
    のポリマーである、請求項1に記載の電界効果トランジスタ。
  6. 請求項1〜5のいずれかに記載の電界効果トランジスタの生産方法であって、
    ・基板を、該有機半導体、該有機バインダーおよび溶媒を含むか、または該有機半導体および反応して該有機バインダーを形成することができる材料を含む液層で、コーティングし;そして、
    ・該液層を、溶媒を蒸発させるか、または該材料を反応させて該バインダーを形成させることにより、該有機半導体および該有機バインダーを含む固体層に転化する、
    ことを含む方法。
  7. 請求項1〜5のいずれかに記載の電界効果トランジスタの生産方法であって、
    ・基板を、該有機半導体および反応して該有機バインダーを形成することができる材料を含む液層でコーティングし;そして、
    ・該液層を、該材料を反応させて該有機バインダーを形成させることにより、該有機半導体および該有機バインダーを含む固体層に転化する、
    ことを含む方法。
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Families Citing this family (209)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10141624A1 (de) * 2001-08-24 2003-03-06 Covion Organic Semiconductors Lösungen polymerer Halbleiter
DE10151036A1 (de) * 2001-10-16 2003-05-08 Siemens Ag Isolator für ein organisches Elektronikbauteil
KR100949304B1 (ko) * 2001-12-19 2010-03-23 메르크 파텐트 게엠베하 유기 절연체를 포함하는 유기 전계 효과 트랜지스터
US6777529B2 (en) * 2002-01-11 2004-08-17 Xerox Corporation Polythiophenes and devices thereof
US6621099B2 (en) * 2002-01-11 2003-09-16 Xerox Corporation Polythiophenes and devices thereof
JP4545373B2 (ja) * 2002-11-07 2010-09-15 旭化成株式会社 有機半導体薄膜及びその製造方法
AU2003290272A1 (en) * 2002-12-20 2004-07-14 Avecia Limited Improvements in and relating to organic semiconducting materials
JP5025074B2 (ja) * 2003-02-13 2012-09-12 株式会社リコー 有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタの製造方法
DE602004005685T2 (de) * 2003-03-07 2007-12-27 Koninklijke Philips Electronics N.V. Verfahren zur herstellung einer elektronischen anordnung
WO2005004251A1 (en) * 2003-07-07 2005-01-13 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Multifluorinated conductor material for leds for improving the light outcoupling
US7399504B2 (en) * 2003-09-16 2008-07-15 Dow Global Technologies Inc. Method of preparing an insoluble polymer film on a substrate from a soluble polymer containing labile solubilizing groups
ATE475971T1 (de) 2003-11-28 2010-08-15 Merck Patent Gmbh Organische halbleiterschicht-formulierungen mit polyacenen und organischen binderpolymeren
DE102004007777A1 (de) * 2004-02-18 2005-09-08 Covion Organic Semiconductors Gmbh Lösungen organischer Halbleiter
ATE518258T1 (de) * 2004-04-27 2011-08-15 Creator Technology Bv Verfahren zur bildung eines organischen halbleiterbauelements durch eine schmelztechnik
KR100668763B1 (ko) * 2004-04-27 2007-01-12 경상대학교산학협력단 액정성을 가지는 새로운 고분자 반도체 화합물 및 그 화합물을 사용한 유기 박막 트랜지스터
KR101069519B1 (ko) 2004-07-08 2011-09-30 삼성전자주식회사 올리고티오펜과 n-형 방향족 화합물을 주쇄에 교호로 포함하는 유기 반도체 고분자
EP1794218B1 (de) * 2004-10-01 2020-05-13 Merck Patent GmbH Elektronische vorrichtungen enthaltend organische halbleiter
JP4883898B2 (ja) * 2004-11-18 2012-02-22 パナソニック株式会社 電子デバイスおよびそれを用いた電子機器
US7198977B2 (en) * 2004-12-21 2007-04-03 Eastman Kodak Company N,N′-di(phenylalky)-substituted perylene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors
KR101102222B1 (ko) * 2005-02-04 2012-01-05 삼성전자주식회사 전기장 처리를 이용한 유기 박막 트랜지스터의 제조방법
US7935960B2 (en) 2005-05-12 2011-05-03 Merck Patent Gmbh Polyacene and semiconductor formulation
JP2008545631A (ja) * 2005-05-21 2008-12-18 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング オリゴマーポリアセンおよび半導体調製物
US20070267055A1 (en) * 2005-07-14 2007-11-22 Konarka Technologies, Inc. Tandem Photovoltaic Cells
US20070131270A1 (en) * 2005-07-14 2007-06-14 Russell Gaudiana Window with photovoltaic cell
US20080006324A1 (en) * 2005-07-14 2008-01-10 Konarka Technologies, Inc. Tandem Photovoltaic Cells
US8158881B2 (en) * 2005-07-14 2012-04-17 Konarka Technologies, Inc. Tandem photovoltaic cells
US7772485B2 (en) * 2005-07-14 2010-08-10 Konarka Technologies, Inc. Polymers with low band gaps and high charge mobility
US20070181179A1 (en) * 2005-12-21 2007-08-09 Konarka Technologies, Inc. Tandem photovoltaic cells
US7781673B2 (en) * 2005-07-14 2010-08-24 Konarka Technologies, Inc. Polymers with low band gaps and high charge mobility
US20070075630A1 (en) * 2005-09-30 2007-04-05 Florian Dotz Organic compositions
US7569415B2 (en) 2005-09-30 2009-08-04 Alcatel-Lucent Usa Inc. Liquid phase fabrication of active devices including organic semiconductors
US7488834B2 (en) 2005-09-30 2009-02-10 Alcatel-Lucent Usa Inc. Organic semiconductors
JP4888043B2 (ja) * 2005-12-27 2012-02-29 セイコーエプソン株式会社 有機半導体用組成物、トランジスタの製造方法、アクティブマトリクス装置の製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法
JP2009524226A (ja) * 2006-01-21 2009-06-25 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 有機半導体配合物を備える電子短チャネル装置
JP2007220772A (ja) * 2006-02-15 2007-08-30 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス用高分子化合物及びその製造方法
JP5032781B2 (ja) * 2006-03-09 2012-09-26 株式会社リコー 有機薄膜トランジスタ
JP5130659B2 (ja) * 2006-05-31 2013-01-30 住友化学株式会社 有機薄膜トランジスタ
US8164087B2 (en) * 2006-06-12 2012-04-24 Alcatel Lucent Organic semiconductor compositions with nanoparticles
WO2008024378A2 (en) 2006-08-24 2008-02-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Hole transport polymers
US8008424B2 (en) 2006-10-11 2011-08-30 Konarka Technologies, Inc. Photovoltaic cell with thiazole-containing polymer
US8008421B2 (en) 2006-10-11 2011-08-30 Konarka Technologies, Inc. Photovoltaic cell with silole-containing polymer
US8106386B2 (en) * 2006-12-28 2012-01-31 Alcatel Lucent Organic semiconductor compositions including plasticizers
US8465848B2 (en) * 2006-12-29 2013-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Benzofluorenes for luminescent applications
JP5144938B2 (ja) 2007-02-02 2013-02-13 住友化学株式会社 高分子発光素子、高分子化合物、組成物、液状組成物及び導電性薄膜
JP5369384B2 (ja) * 2007-03-29 2013-12-18 住友化学株式会社 有機光電変換素子及びその製造に有用な重合体
JP5214910B2 (ja) * 2007-05-28 2013-06-19 国立大学法人九州大学 電界効果トランジスタ
CN102603459A (zh) 2007-06-01 2012-07-25 E.I.内穆尔杜邦公司 电荷传输化合物和含该化合物的材料
WO2009016107A1 (en) * 2007-07-30 2009-02-05 Basf Se Method for depositing a semiconducting layer from a liquid
KR101379616B1 (ko) 2007-07-31 2014-03-31 삼성전자주식회사 계면특성이 향상된 유기박막트랜지스터 및 그의 제조방법
US8063399B2 (en) 2007-11-19 2011-11-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electroactive materials
US20090211633A1 (en) * 2008-02-21 2009-08-27 Konarka Technologies Inc. Tandem Photovoltaic Cells
JP5480510B2 (ja) 2008-03-31 2014-04-23 住友化学株式会社 有機半導体組成物、並びに有機薄膜及びこれを備える有機薄膜素子
US8343381B1 (en) 2008-05-16 2013-01-01 E I Du Pont De Nemours And Company Hole transport composition
JP5428104B2 (ja) * 2008-05-23 2014-02-26 日本化薬株式会社 有機半導体組成物
JP5581607B2 (ja) 2008-06-05 2014-09-03 住友化学株式会社 高分子化合物及びそれを用いた有機トランジスタ
WO2010010791A1 (ja) * 2008-07-22 2010-01-28 Dic株式会社 有機トランジスタ及びその製造方法
JP5625271B2 (ja) 2008-07-29 2014-11-19 住友化学株式会社 高分子化合物及びそれを用いた発光素子
GB2467316B (en) 2009-01-28 2014-04-09 Pragmatic Printing Ltd Electronic devices, circuits and their manufacture
US8455606B2 (en) * 2008-08-07 2013-06-04 Merck Patent Gmbh Photoactive polymers
US8551624B2 (en) * 2008-12-01 2013-10-08 E I Du Pont De Nemours And Company Electroactive materials
JP2012510474A (ja) * 2008-12-01 2012-05-10 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 電気活性材料
KR101616149B1 (ko) * 2008-12-04 2016-04-27 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 전기활성 재료
US20100140593A1 (en) * 2008-12-10 2010-06-10 Xerox Corporation Organic thin-film transistors
CN102239230B (zh) * 2008-12-12 2014-06-25 E.I.内穆尔杜邦公司 光敏组合物和用所述组合物制得的电子器件
US8759818B2 (en) 2009-02-27 2014-06-24 E I Du Pont De Nemours And Company Deuterated compounds for electronic applications
JP5567656B2 (ja) * 2009-04-03 2014-08-06 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 電気活性材料
AU2010281942A1 (en) 2009-08-12 2012-04-05 Merck Patent Gmbh Phenanthro[1,10,9,8-c,d,e,f,g]carbazole polymers and their use as organic semiconductors
GB2473200B (en) 2009-09-02 2014-03-05 Pragmatic Printing Ltd Structures comprising planar electronic devices
KR20120091144A (ko) * 2009-09-29 2012-08-17 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 발광 응용을 위한 중수소화된 화합물
EP2493887A4 (en) 2009-10-29 2013-06-19 Du Pont DETERERATED COMPOUNDS FOR ELECTRONIC APPLICATIONS
US8617720B2 (en) 2009-12-21 2013-12-31 E I Du Pont De Nemours And Company Electroactive composition and electronic device made with the composition
CN102686669B (zh) 2009-12-25 2015-02-11 住友化学株式会社 组合物以及使用该组合物的发光元件
US20120256537A1 (en) 2009-12-25 2012-10-11 Sumitomo Chemical Company, Limited Composition and light emitting element using the composition
US8212243B2 (en) 2010-01-22 2012-07-03 Eastman Kodak Company Organic semiconducting compositions and N-type semiconductor devices
US8309394B2 (en) * 2010-01-22 2012-11-13 Eastman Kodak Company Method of making N-type semiconductor devices
KR101108540B1 (ko) * 2010-02-01 2012-01-30 건국대학교 산학협력단 패터닝이 가능한 브러쉬 코팅공정을 적용한 유기전자소자의 제조방법
GB2490463A (en) 2010-02-15 2012-10-31 Merck Patent Gmbh Semiconducting polymers
RU2012145007A (ru) 2010-03-24 2014-04-27 Мерк Патент Гмбх Полимеры 8, 9-дигидробензо[def]карбазола и их применение в качестве органических полупроводников
EP3243818B1 (en) 2010-04-19 2021-02-17 Raynergy Tek Inc. Polymers of benzodithiophene and their use as organic semiconductors
EP2381503B1 (en) 2010-04-23 2013-04-17 Polyphotonix Limited Method for manufacturing material for use in manufacturing electroluminescent organic semiconductor devices
WO2012003919A2 (en) 2010-07-08 2012-01-12 Merck Patent Gmbh Semiconducting polymers
KR101792901B1 (ko) 2010-07-09 2017-11-02 메르크 파텐트 게엠베하 반도전성 중합체
US9178165B2 (en) 2010-07-13 2015-11-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Organic semiconductor composition, organic thin film, and organic thin film transistor having same
WO2012019683A2 (en) 2010-08-13 2012-02-16 Merck Patent Gmbh Anthra[2,3-b:7,6-b']dithiophene derivatives and their use as organic semiconductors
GB201013820D0 (en) * 2010-08-18 2010-09-29 Cambridge Display Tech Ltd Low contact resistance organic thin film transistors
DE112011102915T5 (de) 2010-09-04 2013-07-11 Merck Patent Gmbh Konjugierte Polymere
RU2013115831A (ru) 2010-09-10 2014-10-20 Мерк Патент Гмбх АНТРА[2,3-b:7,6-b]ДИТИОФЕНОВЫЕ ПРОИЗВОДНЫЕ И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ В КАЧЕСТВЕ ОРГАНИЧЕСКИХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
DE112011103524T5 (de) 2010-10-20 2013-10-17 Merck Patent Gmbh Konjugierte Polymere
KR20130124347A (ko) 2010-12-06 2013-11-13 메르크 파텐트 게엠베하 비선형 아센 유도체 및 이의 유기 반도체로서의 용도
GB2501199A (en) 2010-12-17 2013-10-16 Merck Patent Gmbh Conjugated polymers
JP5727038B2 (ja) 2010-12-20 2015-06-03 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company 電子技術応用のための組成物
US9373801B2 (en) 2011-01-28 2016-06-21 Merck Patent Gmbh Flavanthrene derivatives and their use as organic semiconductors
JP2014515043A (ja) 2011-03-11 2014-06-26 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 共役ポリマー
JP2014515010A (ja) 2011-03-11 2014-06-26 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ジナフト[2,3−a:2’,3’−h]フェナジンおよび有機半導体としてのそれらの使用
EP2503616A1 (en) 2011-03-21 2012-09-26 Polyphotonix Limited Emissive element for light emitting device, light emitting device and method for manufacturing such element and device
CN103443865A (zh) 2011-03-25 2013-12-11 默克专利股份有限公司 吡咯并[3,2-b]吡咯-2,5-二酮和它们作为有机半导体的用途
EP2693508A4 (en) 2011-03-28 2014-08-27 Sumitomo Chemical Co ELECTRONIC DEVICE, POLYMER COMPOUND, ORGANIC COMPOUND AND PROCESS FOR PREPARING THE POLYMER COMPOUND
JP2014517853A (ja) 2011-04-18 2014-07-24 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 共役ポリマー
EP2710011A1 (en) 2011-05-16 2014-03-26 Merck Patent GmbH Conjugated polymers
GB201108865D0 (en) 2011-05-26 2011-07-06 Ct For Process Innovation The Ltd Semiconductor compounds
GB201108864D0 (en) 2011-05-26 2011-07-06 Ct For Process Innovation The Ltd Transistors and methods of making them
GB2491810B (en) 2011-05-31 2018-03-21 Smartkem Ltd Organic semiconductor compositions
US9190622B2 (en) 2011-06-01 2015-11-17 Merck Patent Gmbh Hybrid ambipolar TFTs
CN103619903B (zh) 2011-06-28 2016-12-07 默克专利股份有限公司 作为有机半导体的引达省衍生物
JP2014532084A (ja) 2011-07-08 2014-12-04 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 共役ポリマー
BR112014001176A2 (pt) 2011-07-19 2017-01-10 Merck Patent Gmbh semicondutores orgânicos
EP2734527B1 (en) 2011-07-21 2018-01-10 Merck Patent GmbH Conjugated polymers
EP2736911A1 (en) 2011-07-27 2014-06-04 Merck Patent GmbH Small molecules and their use as organic semiconductors
WO2013045014A1 (en) 2011-09-28 2013-04-04 Merck Patent Gmbh Conjugated polymers
US20140252279A1 (en) 2011-10-20 2014-09-11 Merck Patent Gmbh Organic semiconductors
CN104105734A (zh) 2012-02-15 2014-10-15 默克专利股份有限公司 共轭聚合物
EP2814863B1 (en) 2012-02-15 2017-11-15 Merck Patent GmbH Conjugated polymers
JP2015513572A (ja) 2012-02-16 2015-05-14 メルク パテント ゲーエムベーハー 有機半導体ポリマー
TWI635111B (zh) 2012-03-16 2018-09-11 馬克專利公司 共軛聚合物
CN104321362B (zh) 2012-03-27 2017-02-22 住友化学株式会社 高分子化合物及使用其的发光元件
GB2516207A (en) 2012-04-25 2015-01-14 Merck Patent Gmbh Conjugated polymers
EP2841484B1 (en) 2012-04-25 2021-02-10 Flexenable Limited Conjugated polymers
JP2015529689A (ja) 2012-06-04 2015-10-08 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 有機半導体
KR20150024386A (ko) 2012-06-05 2015-03-06 메르크 파텐트 게엠베하 소분자 및 유기 반도체로서의 이의 용도
EP2867271A1 (en) 2012-07-02 2015-05-06 Merck Patent GmbH Conjugated polymers
US20150155494A1 (en) 2012-07-13 2015-06-04 Merck Patent Gmbh Organic electronic device comprising an organic semiconductors formulation
WO2014023392A1 (en) 2012-08-09 2014-02-13 dedeMERCK PATENT GMBH Organic semiconducting formulation
EP2888307B1 (en) 2012-08-24 2017-09-06 Merck Patent GmbH Conjugated polymers
US20150333263A1 (en) 2012-12-07 2015-11-19 Merck Patent Gmbh Polymer comprising a naphthalene group and its use in organic electronic devices
CN104854175A (zh) 2012-12-18 2015-08-19 默克专利股份有限公司 包含噻二唑基的聚合物、这种聚合物的制备和它在有机电子器件中的用途
JP2014146637A (ja) 2013-01-28 2014-08-14 Sony Corp 電子デバイス及びその製造方法、並びに、積層構造体の形成方法
JP5940104B2 (ja) * 2013-02-07 2016-06-29 富士フイルム株式会社 有機薄膜トランジスタ、有機半導体薄膜および有機半導体材料
WO2014202184A1 (en) 2013-06-21 2014-12-24 Merck Patent Gmbh Conjugated polymers
JP5867650B2 (ja) 2013-07-17 2016-02-24 住友化学株式会社 組成物およびそれを用いた発光素子
US9356248B2 (en) 2013-08-16 2016-05-31 Palo Alto Research Center Incorporated Organic thin-film transistor
JP5715664B2 (ja) * 2013-08-21 2015-05-13 日本化薬株式会社 有機半導体組成物
EP3037398B1 (en) 2013-08-22 2021-03-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for manufacturing chemical compound
EP3044217B1 (en) 2013-09-11 2019-03-13 Merck Patent GmbH Cyclohexadiene fullerene derivatives
CN104513262A (zh) 2013-09-30 2015-04-15 默克专利股份有限公司 氮杂硼杂苯衍生物,它们的合成及其在有机电子器件中的用途
KR20160076528A (ko) 2013-10-22 2016-06-30 메르크 파텐트 게엠베하 공액 중합체
CN105765028A (zh) 2013-11-06 2016-07-13 默克专利股份有限公司 共轭聚合物
EP3074451B1 (en) 2013-11-28 2017-12-27 Merck Patent GmbH Novel polycyclic polymer comprising thiophene units, a method of producing and uses of such polymer
US10128449B2 (en) 2014-01-08 2018-11-13 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal complex and light emitting device using the same
WO2015124285A1 (en) 2014-02-19 2015-08-27 Merck Patent Gmbh Methoxyaryl surface modifier and organic electronic devices comprising such methoxyaryl surface modifier
JP6576955B2 (ja) 2014-02-20 2019-09-18 イノベーションラブ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングInnovationlab Gmbh 共役ポリマー
JP6140626B2 (ja) 2014-03-03 2017-05-31 富士フイルム株式会社 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
JP6106114B2 (ja) 2014-03-03 2017-03-29 富士フイルム株式会社 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
KR20160124913A (ko) 2014-03-17 2016-10-28 메르크 파텐트 게엠베하 유기 반도체성 화합물
US10388879B2 (en) 2014-03-31 2019-08-20 Nano-C, Inc. Fused bis-aryl fullerene derivatives
US10636974B2 (en) 2014-04-24 2020-04-28 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Molecular compositions, materials, and methods for efficient multiple exciton generation
US10374162B2 (en) 2014-06-17 2019-08-06 Merck Patent Gmbh Fullerene derivatives
JP6133511B2 (ja) * 2014-07-18 2017-05-24 富士フイルム株式会社 有機半導体膜形成用組成物、並びに、有機半導体素子及びその製造方法
US9914742B2 (en) 2014-07-29 2018-03-13 Merck Patent Gmbh Tetra-heteroaryl indacenodithiophene-based polycyclic polymers and their use
KR102300261B1 (ko) 2014-08-28 2021-09-09 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 고분자 화합물 및 그것을 사용한 발광 소자
JP6205074B2 (ja) * 2014-09-24 2017-09-27 富士フイルム株式会社 有機半導体素子及びその製造方法、化合物、有機半導体膜形成用組成物、並びに、有機半導体膜
JP6328535B2 (ja) * 2014-10-30 2018-05-23 富士フイルム株式会社 有機半導体膜形成用組成物、有機半導体膜、及び、有機半導体素子
EP3032599A1 (en) 2014-12-12 2016-06-15 Solvay SA Organic semiconductor composition
US9853230B2 (en) 2015-02-17 2017-12-26 Xerox Corporation Printable nanoparticle conductor ink with improved charge injection
EP3070756B9 (en) 2015-03-18 2021-11-03 Raynergy Tek Inc. Semiconductor mixtures comprising nanoparticles
WO2016180515A1 (en) 2015-05-12 2016-11-17 Merck Patent Gmbh Thiadiazolopyridine polymers, their synthesis and their use
JP2018525487A (ja) 2015-08-06 2018-09-06 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 有機半導体組成物および有機電子デバイスの製造におけるそれらの使用
EP3151297A1 (de) 2015-09-30 2017-04-05 InnovationLab GmbH Konjugierte polymere mit thermisch abspaltbaren oxalatseitengruppen
EP3389104B1 (en) 2015-12-07 2020-09-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Light emitting element
US10094863B2 (en) * 2016-03-02 2018-10-09 Texas Instruments Incorporated High-resolution power electronics measurements
CN108779128B (zh) 2016-03-15 2022-03-04 天光材料科技股份有限公司 有机半导体
EP3430654B9 (en) 2016-03-15 2021-08-25 Raynergy Tek Inc. Organic semiconductors
WO2017159703A1 (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 富士フイルム株式会社 有機半導体組成物、有機薄膜トランジスタの製造方法、及び有機薄膜トランジスタ
US20200115387A1 (en) 2016-07-08 2020-04-16 Merck Patent Gmbh Organic semiconductors
US10759775B2 (en) 2016-07-08 2020-09-01 Merck Patent Gmbh Organic semiconducting compounds
KR102436596B1 (ko) 2016-08-11 2022-08-25 메르크 파텐트 게엠베하 테트라아자피렌 코어를 포함하는 유기 반도체성 화합물
CN109563104B (zh) 2016-08-22 2023-04-04 天光材料科技股份有限公司 有机半导体化合物
US20190189925A1 (en) 2016-08-29 2019-06-20 Merck Patent Gmbh Organic semiconductors
US11271166B2 (en) 2016-09-29 2022-03-08 Sumitomo Chemical Company, Limited Light emitting device and composition useful for production of same light emitting device
TWI812597B (zh) 2016-10-05 2023-08-21 天光材料科技股份有限公司 有機半導體性化合物
EP3306690B1 (en) 2016-10-05 2022-09-07 Raynergy Tek Inc. Organic semiconducting compounds
KR20190059922A (ko) 2016-10-05 2019-05-31 메르크 파텐트 게엠베하 유기 반도체성 화합물
CN109891616B (zh) 2016-10-31 2023-09-29 天光材料科技股份有限公司 有机半导体化合物
EP3333170B1 (en) 2016-12-06 2020-04-29 Merck Patent GmbH Asymmetrical polycyclic compounds for use in organic semiconductors
WO2018162447A1 (en) 2017-03-09 2018-09-13 Merck Patent Gmbh Organic semiconducting compounds
EP3618133A4 (en) 2017-04-27 2021-01-13 Sumitomo Chemical Company Limited ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
US11532790B2 (en) 2017-04-27 2022-12-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Composition and light emitting device using the same
US11005043B2 (en) 2017-08-11 2021-05-11 Raynergy Tek Incorporation Organic semiconducting polymer
EP3680945B1 (en) 2017-09-06 2023-09-06 Sumitomo Chemical Company Limited Light emitting element
CN111094298A (zh) 2017-09-13 2020-05-01 默克专利股份有限公司 有机半导体化合物
KR20200051027A (ko) 2017-09-13 2020-05-12 플렉스인에이블 리미티드 유기 반도체 층을 포함하는 전자 디바이스용 전극
EP3691416A4 (en) 2017-09-29 2021-04-21 Sumitomo Chemical Company Limited LIGHT EMITTING DEVICE
CN111315796B (zh) 2017-11-02 2023-11-24 天光材料科技股份有限公司 有机半导体化合物
EP3707191A1 (en) 2017-11-10 2020-09-16 Merck Patent GmbH Organic semiconducting compounds
WO2019154973A1 (en) 2018-02-12 2019-08-15 Merck Patent Gmbh Organic semiconducting compounds
WO2019185578A1 (en) 2018-03-28 2019-10-03 Merck Patent Gmbh Organic semiconducting compounds
US20210070770A1 (en) 2018-03-28 2021-03-11 Raynergy Tek Inc. Organic semiconducting compounds
EP3787052B1 (en) 2018-04-26 2024-06-12 Sumitomo Chemical Company Limited Light emitting element
KR20210002570A (ko) 2018-04-26 2021-01-08 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 블록 공중합체 및 그것을 사용한 발광 소자
US20210280791A1 (en) 2018-04-27 2021-09-09 Raynergy Tek Incorporation Organic semiconducting polymers
US20210273172A1 (en) 2018-06-12 2021-09-02 Sumitomo Chemical Company, Limited Organic electroluminescent device
JP7421476B2 (ja) * 2018-07-03 2024-01-24 保土谷化学工業株式会社 分子主鎖にターフェニル構造を含むトリアリールアミン高分子量化合物およびこれらの高分子量化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子
US20220131078A1 (en) 2018-07-13 2022-04-28 Flexenable Ltd Organic semiconducting compounds
US20210367159A1 (en) 2018-09-06 2021-11-25 Raynergy Tek Incorporation Organic semiconducting compounds
JP6595069B1 (ja) 2018-10-25 2019-10-23 住友化学株式会社 発光素子
JP6595070B1 (ja) 2018-10-25 2019-10-23 住友化学株式会社 発光素子
WO2020114742A1 (en) 2018-12-04 2020-06-11 Merck Patent Gmbh Self-assembled monolayer for electrode modification and device comprising such self-assembled monolayer
WO2020161052A1 (en) 2019-02-06 2020-08-13 Merck Patent Gmbh Organic semiconducting polymers
US20230073741A1 (en) 2019-03-07 2023-03-09 Raynergy Tek Inc. Organic semiconducting composition
CN113631627A (zh) 2019-03-19 2021-11-09 天光材料科技股份有限公司 有机半导体
JP6934967B2 (ja) 2019-03-29 2021-09-15 住友化学株式会社 発光素子及び発光素子用組成物
JP6941711B2 (ja) 2019-07-26 2021-09-29 住友化学株式会社 金属錯体及びそれを含有する発光素子
JP6956287B2 (ja) 2020-04-21 2021-11-02 住友化学株式会社 金属錯体、組成物及び発光素子
US11930694B2 (en) 2020-06-08 2024-03-12 University Of Waterloo Polymer semiconductors containing acrylyl or acrylyl-like side chain and their devices
JP2022024744A (ja) 2020-07-28 2022-02-09 住友化学株式会社 組成物及び発光素子
JP7079883B2 (ja) 2020-09-24 2022-06-02 住友化学株式会社 発光素子及び組成物
JP7058792B2 (ja) 2020-09-24 2022-04-22 住友化学株式会社 発光素子及び組成物
JP7086258B2 (ja) 2020-09-24 2022-06-17 住友化学株式会社 発光素子及び組成物
JP7015406B1 (ja) 2020-09-24 2022-02-02 住友化学株式会社 発光素子及び組成物
JP7086259B2 (ja) 2020-09-24 2022-06-17 住友化学株式会社 発光素子及び組成物

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3963498A (en) 1971-12-27 1976-06-15 Eastman Kodak Company Silver halide element containing an organic semiconductor
GB1399259A (en) * 1971-12-27 1975-07-02 Eastman Kodak Co Semiconductor materials
US4687589A (en) 1985-02-06 1987-08-18 Hermann Block Electronheological fluids
JPS6376378A (ja) * 1986-09-18 1988-04-06 Mitsubishi Electric Corp 電界効果型トランジスタ
JPH01125861A (ja) * 1987-09-30 1989-05-18 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 表示パネル用非線形2端子素子
JP2651691B2 (ja) * 1988-03-03 1997-09-10 バンドー化学株式会社 新規な芳香族アミン化合物
JPH0210778A (ja) * 1988-06-29 1990-01-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 光電変換素子
JP2813428B2 (ja) 1989-08-17 1998-10-22 三菱電機株式会社 電界効果トランジスタ及び該電界効果トランジスタを用いた液晶表示装置
US5187310A (en) 1990-03-14 1993-02-16 Kao Corporation Organic silicon compound, method of its production, and photoreceptor for electrophotography incorporating it
US5290963A (en) 1990-05-12 1994-03-01 Kao Corporation Organic silicon compound, method of its production, and photoreceptor for electrophotography incorporating it
JP3150331B2 (ja) * 1990-09-28 2001-03-26 株式会社東芝 有機薄膜素子
JP3224829B2 (ja) 1991-08-15 2001-11-05 株式会社東芝 有機電界効果型素子
JPH05100458A (ja) 1991-10-08 1993-04-23 Fuji Electric Co Ltd 電子写真用感光体
JPH0821718B2 (ja) * 1992-07-30 1996-03-04 日本電気株式会社 電界効果型トランジスタおよびその製造方法
JP2725591B2 (ja) * 1994-03-10 1998-03-11 日本電気株式会社 電界効果型トランジスタ
US5531872A (en) 1994-08-11 1996-07-02 Xerox Corporation Processes for preparing photoconductive members by electrophoresis
US5783519A (en) 1994-08-22 1998-07-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer systems having vanadium oxide antistatic layers
JP2968179B2 (ja) * 1994-09-13 1999-10-25 鐘紡株式会社 有機半導体
JP2865029B2 (ja) * 1994-10-24 1999-03-08 富士ゼロックス株式会社 電荷輸送性ポリエステルを用いた有機電子デバイス
US5482811A (en) 1994-10-31 1996-01-09 Xerox Corporation Method of making hydroxygallium phthalocyanine type V photoconductive imaging members
US5759725A (en) * 1994-12-01 1998-06-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Photoconductors and electrophotographic photoreceptors containing amorphous fullerenes
TW293172B (ja) * 1994-12-09 1996-12-11 At & T Corp
JP2611751B2 (ja) * 1995-04-07 1997-05-21 日本電気株式会社 電界効果型トランジスタ
US5516617A (en) 1995-07-14 1996-05-14 Xerox Corporation Photoreceptor material reclaim method
EP0848288A1 (en) * 1996-12-16 1998-06-17 Lucent Technologies Inc. Resist materials
US6107117A (en) 1996-12-20 2000-08-22 Lucent Technologies Inc. Method of making an organic thin film transistor
JP3045224B2 (ja) * 1997-01-06 2000-05-29 バンドー化学株式会社 有機半導体並びにこれを用いる光電変換素子及びエレクトロクロミック表示素子
US5876887A (en) 1997-02-26 1999-03-02 Xerox Corporation Charge generation layers comprising pigment mixtures
US5981970A (en) * 1997-03-25 1999-11-09 International Business Machines Corporation Thin-film field-effect transistor with organic semiconductor requiring low operating voltages
US5946551A (en) 1997-03-25 1999-08-31 Dimitrakopoulos; Christos Dimitrios Fabrication of thin film effect transistor comprising an organic semiconductor and chemical solution deposited metal oxide gate dielectric
US5853906A (en) * 1997-10-14 1998-12-29 Xerox Corporation Conductive polymer compositions and processes thereof
US6566153B1 (en) 1998-10-14 2003-05-20 The Regents Of The University Of California Process for fabricating organic semiconductor devices using ink-jet printing technology and device and system employing same
DE69924155T2 (de) * 1999-02-04 2006-04-13 Dow Global Technologies, Inc., Midland Fluoren-copolymere und daraus hergestellte vorrichtungen
JP3850005B2 (ja) * 1999-03-03 2006-11-29 パイオニア株式会社 スイッチング素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置
US6252245B1 (en) 1999-03-29 2001-06-26 Howard Edan Katz Device comprising n-channel semiconductor material
JP4262834B2 (ja) 1999-06-14 2009-05-13 大日本印刷株式会社 バインダー添加型電荷輸送液晶材料
US6180309B1 (en) 1999-11-26 2001-01-30 Xerox Corporation Organic photoreceptor with improved adhesion between coated layers
US6165660A (en) 1999-11-29 2000-12-26 Xerox Corporation Organic photoreceptor with improved adhesion between coated layers
US6507026B2 (en) * 2000-01-12 2003-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Planar X-ray detector
TW541853B (en) * 2000-11-10 2003-07-11 Sumitomo Chemical Co Polymeric fluorescent substance and polymer light-emitting device using the same
US6319645B1 (en) 2001-02-26 2001-11-20 Xerox Corporation Imaging members
US6639281B2 (en) 2001-04-10 2003-10-28 Sarnoff Corporation Method and apparatus for providing a high-performance active matrix pixel using organic thin-film transistors
US20030227014A1 (en) 2002-06-11 2003-12-11 Xerox Corporation. Process for forming semiconductor layer of micro-and nano-electronic devices

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