JP2012256012A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 入力端子と、
    前記入力端子に並列に接続されたn個(nは3以上の整数)のスイッチと、
    n個の第1メモリ素子と、
    n個の転送用スイッチと、
    n個の第2メモリ素子と、
    n個のバッファと、を有し、
    前記n個の第1メモリ素子は、互いに異なる前記n個のスイッチの出力に接続され、
    前記n個の転送用スイッチは、互いに異なる前記n個の第1メモリ素子の出力に接続され、
    前記n個の第2メモリ素子は、互いに異なる前記n個の転送用スイッチの出力に接続され、
    前記n個のバッファは、互いに異なる前記n個の第2メモリ素子の出力に接続され、
    前記n個のスイッチは、異なる信号によりオン、オフが制御され、
    前記n個の転送用スイッチは、同じ信号によりオン、オフが制御されることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記スイッチは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを有することを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記転送用スイッチは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを有することを特徴とする半導体装置。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10014068B2 (en) 2011-10-07 2018-07-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP6064313B2 (ja) 2011-10-18 2017-01-25 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、電気光学装置の駆動方法および電子機器
JP6158588B2 (ja) * 2012-05-31 2017-07-05 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
US9875695B2 (en) 2013-06-13 2018-01-23 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
US9959826B2 (en) 2013-06-27 2018-05-01 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US9818765B2 (en) 2013-08-26 2017-11-14 Apple Inc. Displays with silicon and semiconducting oxide thin-film transistors
US9455142B2 (en) * 2014-02-06 2016-09-27 Transtron Solutions Llc Molecular precursor compounds for ABIGZO zinc-group 13 mixed oxide materials
WO2016070843A1 (en) * 2014-11-07 2016-05-12 The Hong Kong University Of Science And Technology Driving scheme for ferroelectric liquid crystal displays
CN104575355B (zh) * 2014-12-31 2017-02-01 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及其驱动电路
CN105047165A (zh) * 2015-08-28 2015-11-11 深圳市华星光电技术有限公司 基于rgbw的驱动电路以及平面显示器
WO2017068490A1 (en) * 2015-10-23 2017-04-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device
WO2018138597A1 (ja) 2017-01-26 2018-08-02 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び電子機器
WO2018138603A1 (en) 2017-01-26 2018-08-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device including the semiconductor device
CN106782405B (zh) * 2017-02-07 2019-04-30 武汉华星光电技术有限公司 显示驱动电路及液晶显示面板
US20200028170A1 (en) * 2017-12-15 2020-01-23 New York University Engineering energy storage devices by controlling defects in carbon-based electrodes
US11146269B1 (en) * 2018-02-05 2021-10-12 Rambus Inc. Low power cryogenic switch
TWI678923B (zh) * 2018-05-25 2019-12-01 友達光電股份有限公司 具雜訊抑制設計的顯示面板
US11462176B2 (en) * 2020-12-22 2022-10-04 Meta Platforms Technologies, Llc Micro OLED display device with sample and hold circuits to reduce bonding pads

Family Cites Families (165)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60198861A (ja) 1984-03-23 1985-10-08 Fujitsu Ltd 薄膜トランジスタ
JPS62143095U (ja) 1986-03-03 1987-09-09
JPH0244256B2 (ja) 1987-01-28 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244258B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244260B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPS63210023A (ja) 1987-02-24 1988-08-31 Natl Inst For Res In Inorg Mater InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法
JPH0244262B2 (ja) 1987-02-27 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244263B2 (ja) 1987-04-22 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JP2653099B2 (ja) 1988-05-17 1997-09-10 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリクスパネル,投写型表示装置及びビューファインダー
JPH02306583A (ja) 1989-05-22 1990-12-19 Hitachi Chem Co Ltd 薄膜el素子の製造法
JP2892444B2 (ja) 1990-06-14 1999-05-17 シャープ株式会社 表示装置の列電極駆動回路
JPH0511724A (ja) * 1991-07-05 1993-01-22 Hitachi Ltd 液晶表示装置の駆動回路
JP3162746B2 (ja) * 1991-08-29 2001-05-08 富士通株式会社 マトリクス表示装置のデータドライバ
JPH05251705A (ja) 1992-03-04 1993-09-28 Fuji Xerox Co Ltd 薄膜トランジスタ
JPH08137443A (ja) * 1994-11-09 1996-05-31 Sharp Corp 画像表示装置
TW277129B (ja) 1993-12-24 1996-06-01 Sharp Kk
JP3305470B2 (ja) * 1993-12-25 2002-07-22 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置の信号線駆動回路
US5570105A (en) 1993-12-25 1996-10-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Driving circuit for driving liquid crystal display device
JP2839854B2 (ja) * 1995-03-13 1998-12-16 株式会社日立製作所 中間調表示装置
JP3479375B2 (ja) 1995-03-27 2003-12-15 科学技術振興事業団 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法
JPH11505377A (ja) 1995-08-03 1999-05-18 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 半導体装置
JP3625598B2 (ja) 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH10153986A (ja) 1996-09-25 1998-06-09 Toshiba Corp 表示装置
JPH1145076A (ja) * 1997-07-24 1999-02-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd アクティブマトリクス型表示装置
GB2333174A (en) * 1998-01-09 1999-07-14 Sharp Kk Data line driver for an active matrix display
JPH11327518A (ja) 1998-03-19 1999-11-26 Sony Corp 液晶表示装置
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
FR2784489B1 (fr) * 1998-10-13 2000-11-24 Thomson Multimedia Sa Procede d'affichage de donnees sur un afficheur matriciel
JP2000150861A (ja) 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
JP3585749B2 (ja) 1998-11-20 2004-11-04 シャープ株式会社 半導体装置のシステム構成及びこの半導体装置のシステム構成を用いた液晶表示装置モジュール
JP4627822B2 (ja) 1999-06-23 2011-02-09 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
US6909411B1 (en) 1999-07-23 2005-06-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method for operating the same
TW460731B (en) 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
US6606080B2 (en) 1999-12-24 2003-08-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor display device and electronic equipment
JP5088986B2 (ja) 1999-12-24 2012-12-05 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
JP4449189B2 (ja) 2000-07-21 2010-04-14 株式会社日立製作所 画像表示装置およびその駆動方法
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
KR20020038482A (ko) 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
KR100350651B1 (ko) 2000-11-22 2002-08-29 삼성전자 주식회사 멀티 프레임 반전 기능을 갖는 액정 표시 장치와 이의구동 장치 및 방법
US6747626B2 (en) 2000-11-30 2004-06-08 Texas Instruments Incorporated Dual mode thin film transistor liquid crystal display source driver circuit
JP3997731B2 (ja) 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP3730886B2 (ja) 2001-07-06 2006-01-05 日本電気株式会社 駆動回路及び液晶表示装置
JP2003066921A (ja) 2001-08-28 2003-03-05 Sharp Corp 駆動装置およびそれを備えている表示モジュール
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4236895B2 (ja) 2001-10-12 2009-03-11 株式会社半導体エネルギー研究所 アクティブ型表示装置の駆動方法
US6777885B2 (en) 2001-10-12 2004-08-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Drive circuit, display device using the drive circuit and electronic apparatus using the display device
KR100864917B1 (ko) 2001-11-03 2008-10-22 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치의 데이터 구동 장치 및 방법
US7061014B2 (en) 2001-11-05 2006-06-13 Japan Science And Technology Agency Natural-superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
JP2003204067A (ja) 2001-12-28 2003-07-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置およびそれを用いた電子機器
JP4083486B2 (ja) 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
JP3923341B2 (ja) 2002-03-06 2007-05-30 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体集積回路およびその駆動方法
CN1445821A (zh) 2002-03-15 2003-10-01 三洋电机株式会社 ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法
JP3933591B2 (ja) 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
JP2003298062A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Sharp Corp 薄膜トランジスタ及びその製造方法
US7339187B2 (en) 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7105868B2 (en) 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
US6756619B2 (en) * 2002-08-26 2004-06-29 Micron Technology, Inc. Semiconductor constructions
JP2004094058A (ja) 2002-09-02 2004-03-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置および液晶表示装置の駆動方法
US7067843B2 (en) 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
US7142030B2 (en) * 2002-12-03 2006-11-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Data latch circuit and electronic device
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP4531343B2 (ja) 2003-03-26 2010-08-25 株式会社半導体エネルギー研究所 駆動回路
KR100616711B1 (ko) * 2003-06-20 2006-08-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치의 구동회로
JP4108633B2 (ja) 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
US7262463B2 (en) 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
JP2005116977A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Sharp Corp 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7297977B2 (en) 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
US7282782B2 (en) 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
CN102354658B (zh) 2004-03-12 2015-04-01 独立行政法人科学技术振兴机构 薄膜晶体管的制造方法
US7145174B2 (en) 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7211825B2 (en) 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP2006100760A (ja) 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7285501B2 (en) 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
US7298084B2 (en) 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
RU2358355C2 (ru) 2004-11-10 2009-06-10 Кэнон Кабусики Кайся Полевой транзистор
US7791072B2 (en) 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
US7863611B2 (en) 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
EP1812969B1 (en) 2004-11-10 2015-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor comprising an amorphous oxide
US7453065B2 (en) 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
US7829444B2 (en) 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
EP1810335B1 (en) 2004-11-10 2020-05-27 Canon Kabushiki Kaisha Light-emitting device
KR100642946B1 (ko) * 2004-12-15 2006-11-10 삼성전자주식회사 수평 라인의 영상 데이터를 파이프라인 방식으로 제공하는소스 구동 회로 및 방법
US7579224B2 (en) 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI569441B (zh) 2005-01-28 2017-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
TWI505473B (zh) 2005-01-28 2015-10-21 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7858451B2 (en) 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
US7544967B2 (en) 2005-03-28 2009-06-09 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage flexible organic/transparent transistor for selective gas sensing, photodetecting and CMOS device applications
US7645478B2 (en) 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
JP2006293135A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Mitsubishi Electric Corp 表示装置
US8300031B2 (en) 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
JP2006344849A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7691666B2 (en) 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7402506B2 (en) 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
KR100711890B1 (ko) 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
TWI296405B (en) 2005-08-19 2008-05-01 Toppoly Optoelectronics Corp Source-follower type analogue buffer, driving method thereof, and display therwith
US7742044B2 (en) 2005-08-19 2010-06-22 Tpo Displays Corp. Source-follower type analogue buffer, compensating operation method thereof, and display therewith
JP2007059128A (ja) 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP5116225B2 (ja) 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
JP4850457B2 (ja) 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
JP4280736B2 (ja) 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP2007073705A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
EP1998374A3 (en) 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
JP5037808B2 (ja) 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
JP4786996B2 (ja) * 2005-10-20 2011-10-05 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置
KR101117948B1 (ko) 2005-11-15 2012-02-15 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 디스플레이 장치 제조 방법
CN101336485B (zh) * 2005-12-02 2012-09-26 出光兴产株式会社 Tft基板及tft基板的制造方法
TWI292281B (en) 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
US7867636B2 (en) 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
JP4977478B2 (ja) 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
US7576394B2 (en) 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
US7977169B2 (en) 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
JP2007250982A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Canon Inc 酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタ及び表示装置
KR20070101595A (ko) 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
US20070252928A1 (en) 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
JP5028033B2 (ja) 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4609797B2 (ja) 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
JP4999400B2 (ja) 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4332545B2 (ja) 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
US8089437B2 (en) * 2006-09-20 2012-01-03 Seiko Epson Corporation Driver circuit, electro-optical device, and electronic instrument
JP4274219B2 (ja) 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
JP5164357B2 (ja) 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP5116277B2 (ja) * 2006-09-29 2013-01-09 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、表示装置、液晶表示装置、表示モジュール及び電子機器
TWI371023B (en) * 2006-10-10 2012-08-21 Chimei Innolux Corp Analogue buffer, compensating operation method thereof, and display therewith
US7622371B2 (en) 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
US7772021B2 (en) 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
JP5305630B2 (ja) * 2006-12-05 2013-10-02 キヤノン株式会社 ボトムゲート型薄膜トランジスタの製造方法及び表示装置の製造方法
KR101303578B1 (ko) 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
JP4306748B2 (ja) * 2007-03-13 2009-08-05 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、電気光学装置の駆動方法および電子機器
KR100851215B1 (ko) 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
JP5197058B2 (ja) * 2007-04-09 2013-05-15 キヤノン株式会社 発光装置とその作製方法
US7795613B2 (en) 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
US8274078B2 (en) 2007-04-25 2012-09-25 Canon Kabushiki Kaisha Metal oxynitride semiconductor containing zinc
KR101334182B1 (ko) * 2007-05-28 2013-11-28 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터의 제조방법
KR101345376B1 (ko) 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
US7692224B2 (en) * 2007-09-28 2010-04-06 Freescale Semiconductor, Inc. MOSFET structure and method of manufacture
JP5215158B2 (ja) 2007-12-17 2013-06-19 富士フイルム株式会社 無機結晶性配向膜及びその製造方法、半導体デバイス
WO2009093625A1 (ja) * 2008-01-23 2009-07-30 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 電界効果型トランジスタ及びその製造方法、それを用いた表示装置、並びに半導体装置
KR100924143B1 (ko) * 2008-04-02 2009-10-28 삼성모바일디스플레이주식회사 평판표시장치 및 그의 구동 방법
JP5325446B2 (ja) * 2008-04-16 2013-10-23 株式会社日立製作所 半導体装置及びその製造方法
JP5627071B2 (ja) * 2008-09-01 2014-11-19 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP4623179B2 (ja) 2008-09-18 2011-02-02 ソニー株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法
KR101563527B1 (ko) * 2008-09-19 2015-10-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체장치
EP2421030B1 (en) 2008-09-19 2020-10-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
JP5451280B2 (ja) 2008-10-09 2014-03-26 キヤノン株式会社 ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置
JP5484853B2 (ja) * 2008-10-10 2014-05-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP2010140919A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Hitachi Ltd 酸化物半導体装置及びその製造方法並びにアクティブマトリクス基板
KR101420443B1 (ko) * 2008-12-23 2014-07-16 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR101648927B1 (ko) * 2009-01-16 2016-08-17 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 그 제작 방법
US8492756B2 (en) * 2009-01-23 2013-07-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
US8446406B2 (en) * 2009-07-03 2013-05-21 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display

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