JP2011175972A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011175972A5
JP2011175972A5 JP2011053486A JP2011053486A JP2011175972A5 JP 2011175972 A5 JP2011175972 A5 JP 2011175972A5 JP 2011053486 A JP2011053486 A JP 2011053486A JP 2011053486 A JP2011053486 A JP 2011053486A JP 2011175972 A5 JP2011175972 A5 JP 2011175972A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive film
photosensitive
film
conductive
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011053486A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011175972A (ja
JP5418523B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011053486A priority Critical patent/JP5418523B2/ja
Priority claimed from JP2011053486A external-priority patent/JP5418523B2/ja
Publication of JP2011175972A publication Critical patent/JP2011175972A/ja
Publication of JP2011175972A5 publication Critical patent/JP2011175972A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5418523B2 publication Critical patent/JP5418523B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2011053486A 2008-08-22 2011-03-10 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板 Expired - Fee Related JP5418523B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011053486A JP5418523B2 (ja) 2008-08-22 2011-03-10 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008214113 2008-08-22
JP2008214113 2008-08-22
JP2011053486A JP5418523B2 (ja) 2008-08-22 2011-03-10 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010525646A Division JP4811533B2 (ja) 2008-08-22 2009-07-23 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013185283A Division JP6026376B2 (ja) 2008-08-22 2013-09-06 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011175972A JP2011175972A (ja) 2011-09-08
JP2011175972A5 true JP2011175972A5 (enExample) 2013-03-14
JP5418523B2 JP5418523B2 (ja) 2014-02-19

Family

ID=41707102

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010525646A Expired - Fee Related JP4811533B2 (ja) 2008-08-22 2009-07-23 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板
JP2011053486A Expired - Fee Related JP5418523B2 (ja) 2008-08-22 2011-03-10 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板
JP2013185283A Expired - Fee Related JP6026376B2 (ja) 2008-08-22 2013-09-06 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板
JP2015103844A Expired - Fee Related JP6290134B2 (ja) 2008-08-22 2015-05-21 導電膜基板
JP2017027072A Expired - Fee Related JP6402791B2 (ja) 2008-08-22 2017-02-16 導電膜基板及びその使用方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010525646A Expired - Fee Related JP4811533B2 (ja) 2008-08-22 2009-07-23 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013185283A Expired - Fee Related JP6026376B2 (ja) 2008-08-22 2013-09-06 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板
JP2015103844A Expired - Fee Related JP6290134B2 (ja) 2008-08-22 2015-05-21 導電膜基板
JP2017027072A Expired - Fee Related JP6402791B2 (ja) 2008-08-22 2017-02-16 導電膜基板及びその使用方法

Country Status (7)

Country Link
US (4) US8171628B2 (enExample)
EP (2) EP2320433B1 (enExample)
JP (5) JP4811533B2 (enExample)
KR (7) KR101316977B1 (enExample)
CN (5) CN102124529B (enExample)
TW (4) TWI549142B (enExample)
WO (1) WO2010021224A1 (enExample)

Families Citing this family (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101943963A (zh) * 2009-07-08 2011-01-12 群康科技(深圳)有限公司 导电板及应用其的触摸屏
JP5606769B2 (ja) * 2010-04-09 2014-10-15 富士フイルム株式会社 導電膜及びその製造方法、並びにタッチパネル及び集積型太陽電池
KR20150061006A (ko) * 2010-05-13 2015-06-03 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 도전 필름, 도전막의 형성 방법 및 도전 패턴의 형성 방법
CN102645989B (zh) * 2011-02-16 2015-11-25 群康科技(深圳)有限公司 触摸屏面板的制备方法
CN102819340B (zh) * 2011-06-09 2016-03-02 天津富纳源创科技有限公司 触摸屏面板的制备方法
CN102902425B (zh) * 2011-07-28 2016-06-08 宸鸿科技(厦门)有限公司 电容式触控面板结构及制造方法
JP5303069B2 (ja) * 2011-08-03 2013-10-02 東レ株式会社 導電積層体、パターン化導電積層体およびそれを用いてなるタッチパネル
JP5763492B2 (ja) * 2011-09-30 2015-08-12 富士フイルム株式会社 静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
WO2013051516A1 (ja) * 2011-10-03 2013-04-11 日立化成株式会社 導電パターンの形成方法、導電パターン基板及びタッチパネルセンサ
WO2013084283A1 (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP5714526B2 (ja) 2012-03-08 2015-05-07 日本写真印刷株式会社 フレキシブルタッチパネル
KR20170072956A (ko) 2012-04-04 2017-06-27 히타치가세이가부시끼가이샤 도전 패턴의 형성 방법 및 도전 패턴 기판
CN102637486A (zh) * 2012-05-14 2012-08-15 南昌欧菲光科技有限公司 一种用于电容式触摸屏双层透明导电薄膜的制备方法
WO2013176155A1 (ja) * 2012-05-24 2013-11-28 東レ株式会社 パターニングされた導電基材の製造方法、これによってパターニングされた導電基材およびタッチパネル
TWI588691B (zh) * 2012-09-27 2017-06-21 未來奈米科技股份有限公司 製造電極膜裝置與其方法
KR20140063302A (ko) * 2012-11-16 2014-05-27 삼성디스플레이 주식회사 캐리어 기판 제거 장치, 표시장치 제조 시스템, 및 표시장치 제조 방법
WO2014098157A1 (ja) * 2012-12-19 2014-06-26 株式会社クラレ 膜形成方法、導電膜、及び絶縁膜
WO2014196154A1 (ja) * 2013-06-04 2014-12-11 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板
JP5686445B2 (ja) * 2013-07-01 2015-03-18 日本写真印刷株式会社 相互静電容量方式タッチパネル
US20160179234A1 (en) * 2013-07-03 2016-06-23 Amosense Co., Ltd. Touch sensor for touch screen panel, manufacturing method thereof, and touch screen panel including same
JP6205925B2 (ja) * 2013-07-12 2017-10-04 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板
JP2015052774A (ja) * 2013-08-07 2015-03-19 日立化成株式会社 加飾基板上におけるレジストパターン又は導電パターンの製造方法、及び転写形感光性導電フィルム
JP6206028B2 (ja) * 2013-09-19 2017-10-04 日立化成株式会社 導電パターンの製造方法、その方法により製造された導電パターンを備える導電パターン基板、その導電パターン基板を含むタッチパネルセンサ、及び感光性導電フィルム
WO2015049939A1 (ja) * 2013-10-03 2015-04-09 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、これを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板
KR20150112924A (ko) * 2013-10-16 2015-10-07 히타치가세이가부시끼가이샤 도전성 섬유를 포함하는 적층체, 감광성 도전 필름, 도전 패턴의 제조 방법, 도전 패턴 기판, 및 터치 패널
CN105637130B (zh) * 2013-10-17 2019-07-19 日产化学工业株式会社 感光性纤维及其制造方法
TWI567600B (zh) * 2013-11-26 2017-01-21 恆顥科技股份有限公司 觸控裝置
WO2015137278A1 (ja) 2014-03-14 2015-09-17 日立化成株式会社 感光性導電フィルム
CN103886934B (zh) * 2014-04-04 2016-08-24 纳诺电子化学（苏州）有限公司 一种透明导电膜
JP2015219308A (ja) * 2014-05-15 2015-12-07 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、感光性導電積層体、導電膜の形成方法及び導電積層体
JP2016066590A (ja) * 2014-06-09 2016-04-28 日立化成株式会社 導電フィルム、感光性導電フィルム、導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基材
KR102287289B1 (ko) * 2014-07-08 2021-08-06 주식회사 동진쎄미켐 투명 전극 복합체
US10201082B2 (en) * 2014-09-22 2019-02-05 Basf Se Transparent conductive layer, a film comprising the layer, and a process for its production
CN104575701B (zh) * 2014-12-17 2017-01-11 张家港康得新光电材料有限公司 高分子透明导电膜及其制备方法
JP6027633B2 (ja) * 2015-01-13 2016-11-16 日本写真印刷株式会社 タッチ入力センサの製造方法及び感光性導電フィルム
KR102297878B1 (ko) 2015-01-16 2021-09-03 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조 방법
TWI548587B (zh) * 2015-01-26 2016-09-11 國立臺灣大學 奈米金屬線圖案化之方法，使用該方法製備而成之圖案化奈米金屬線電極以及包含該圖案化奈米金屬線電極做為材料之電晶體元件
WO2016167228A1 (ja) * 2015-04-15 2016-10-20 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法、導電パターン付き基材、及びタッチパネルセンサ
JP2016206463A (ja) * 2015-04-24 2016-12-08 株式会社トクヤマ フォトクロミック積層体
WO2016181496A1 (ja) * 2015-05-12 2016-11-17 日立化成株式会社 導電膜作製液セット、導電パターンの形成方法、及びタッチパネル
JP6042486B1 (ja) 2015-05-29 2016-12-14 日本写真印刷株式会社 タッチセンサの製造方法及びタッチセンサ
JP2017045687A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、感光性導電フィルムロール、及びそれを用いた導電膜・導電パターンの形成方法
CN105139924B (zh) * 2015-10-09 2017-09-05 重庆文理学院 一种双保护膜的银纳米线透明导电薄膜的制备方法
US9801284B2 (en) * 2015-11-18 2017-10-24 Dow Global Technologies Llc Method of manufacturing a patterned conductor
JP2017201350A (ja) * 2016-05-02 2017-11-09 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電パターン基板の製造方法
CN114395293B (zh) 2016-10-14 2023-07-04 C3内诺公司 经稳定化的稀疏金属导电膜及用于稳定化合物的递送的溶液
CN106773235A (zh) * 2016-12-27 2017-05-31 广州汇驰实业发展有限公司 一种调光膜及其制备方法
CN107093494B (zh) * 2017-03-22 2021-07-13 中山大学 一种可转移图案化的导电薄膜及其制备与图案化的方法
CN107015705A (zh) * 2017-05-19 2017-08-04 信利光电股份有限公司 一种触控显示装置、触控面板及其制作方法
JP2017228312A (ja) * 2017-09-07 2017-12-28 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板
JP6399175B2 (ja) * 2017-09-07 2018-10-03 日立化成株式会社 導電パターンの製造方法、その方法により製造された導電パターンを備える導電パターン基板、その導電パターン基板を含むタッチパネルセンサ、及び感光性導電フィルム
US20190364665A1 (en) * 2018-05-22 2019-11-28 C3Nano Inc. Silver-based transparent conductive layers interfaced with copper traces and methods for forming the structures
JP6573017B2 (ja) * 2018-10-02 2019-09-11 日立化成株式会社 静電容量方式タッチパネル
CN114364532A (zh) * 2019-09-30 2022-04-15 富士胶片株式会社 转印膜、层叠体的制造方法、层叠体、触摸面板传感器、触摸面板
KR102711341B1 (ko) * 2022-05-23 2024-09-27 한국광기술원 투명 전극 필름, 전극을 선택적으로 전사하여 투명 전극 필름을 제조하는 장치 및 그 방법
CN115734459B (zh) * 2022-11-07 2024-03-12 湖北通格微电路科技有限公司 玻璃基线路板及其制备方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2975921B2 (ja) * 1998-02-25 1999-11-10 大塚化学株式会社 微細な導電性繊維、該導電性繊維を配合した樹脂組成物及び導電性糸
US6871396B2 (en) * 2000-02-09 2005-03-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Transfer material for wiring substrate
JP3948217B2 (ja) * 2000-06-05 2007-07-25 昭和電工株式会社 導電性硬化性樹脂組成物、その硬化体、及びその成形体
JP2001356209A (ja) * 2000-06-14 2001-12-26 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタの製造方法
JPWO2002025377A1 (ja) * 2000-09-20 2004-01-29 日立化成工業株式会社 感光性エレメント、レジストパターンの形成法及びプリント配線板の製造法
JP4779244B2 (ja) * 2001-06-28 2011-09-28 Ｔｄｋ株式会社 機能性層パターンの形成方法
TW560017B (en) * 2001-07-12 2003-11-01 Hitachi Ltd Semiconductor connection substrate
CN1195793C (zh) * 2001-08-06 2005-04-06 昭和电工株式会社 导电的可固化树脂组合物和燃料电池用的隔板
CN100358056C (zh) * 2002-06-24 2007-12-26 三菱树脂株式会社 导电树脂薄膜、集电器及其制备方法
AU2003281404A1 (en) 2002-07-05 2004-01-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JP2004230690A (ja) 2003-01-30 2004-08-19 Takiron Co Ltd 制電性透明樹脂板
JP4471346B2 (ja) * 2003-01-31 2010-06-02 タキロン株式会社 電磁波シールド体
JP2004253326A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Toyobo Co Ltd 導電性フイルム
TWI226115B (en) * 2003-04-09 2005-01-01 Phoenix Prec Technology Corp Substrate with enhanced supporting structure and method for fabricating the same
US7585907B2 (en) * 2003-07-24 2009-09-08 Nitto Denko Corporation Inorganic powder-containing resin composition, a film-forming material layer, a transfer sheet, method of producing a substrate having a dielectric layer formed thereon, and a substrate having a dielectric layer formed thereon
TWI266568B (en) * 2004-03-08 2006-11-11 Brain Power Co Method for manufacturing embedded thin film resistor on printed circuit board
CN100587858C (zh) * 2004-04-20 2010-02-03 他喜龙株式会社 用于触摸面板的透明导电成形物和触摸面板
JP4666961B2 (ja) * 2004-06-29 2011-04-06 Ｔｄｋ株式会社 透明導電層が付与された物体、及び転写用導電性フィルム
JP2006069848A (ja) 2004-09-02 2006-03-16 Fuji Xerox Co Ltd カーボンナノチューブパターンの形成方法
JP2008515654A (ja) * 2004-10-12 2008-05-15 ナノシス・インク． 導電性ポリマー及び半導体ナノワイヤに基づいてプラスチック電子部品を製造するための完全に集積化された有機層プロセス
JP4657685B2 (ja) * 2004-11-11 2011-03-23 日立エーアイシー株式会社 電磁波シールドフィルムの製造方法およびそのフィルム
JP4805587B2 (ja) * 2005-02-24 2011-11-02 エーユー オプトロニクス コーポレイション 液晶表示装置とその製造方法
TWI260189B (en) * 2005-03-30 2006-08-11 Advanced Semiconductor Eng Method of fabricating a device-containing substrate
JP2006310154A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Bussan Nanotech Research Institute Inc 透明導電膜および透明導電膜用コーティング組成物
KR101196342B1 (ko) * 2005-05-26 2012-11-01 군제 가부시키가이샤 투명 평면체 및 투명 터치스위치
JP2006344479A (ja) 2005-06-08 2006-12-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法
EP1965438A3 (en) * 2005-08-12 2009-05-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors
CN102554261B (zh) * 2005-11-10 2014-08-13 住友金属矿山株式会社 铟类纳米线、氧化物纳米线与导电性氧化物纳米线以及它们的制造方法
KR20070074316A (ko) 2006-01-09 2007-07-12 주식회사 팬택 이동통신단말기에서의 ｂｒｅｗ 실행시 ｕｉ 이벤트 처리방법
JP4635925B2 (ja) 2006-03-22 2011-02-23 Ｔｄｋ株式会社 転写用導電性フィルム及びそれを用いた透明導電層が付与された物体
JP4582033B2 (ja) 2006-03-22 2010-11-17 Ｔｄｋ株式会社 転写用導電性フィルム及びそれを用いた透明導電層が付与された物体
WO2007114014A1 (ja) * 2006-03-31 2007-10-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP5126654B2 (ja) * 2006-04-20 2013-01-23 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法
CN102324462B (zh) * 2006-10-12 2015-07-01 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用
JP2008159581A (ja) * 2006-11-30 2008-07-10 Hitachi Chem Co Ltd 導電膜形成用材料、導電膜及びその形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011175972A5 (enExample)
JP6027633B2 (ja) タッチ入力センサの製造方法及び感光性導電フィルム
TWI604273B (zh) 感光性元件、感光性元件卷、抗蝕劑圖案的製造方法及電子零件
JP5940648B2 (ja) 導電パターンの形成方法及び導電パターン基板
KR20150035693A (ko) 적층 구조체의 제조 방법, 적층 구조체 및 전자 기기
TW201118463A (en) Transparent conductive laminated body and production method thereof and electrosatic capacity type touch panel
TW201314532A (zh) 觸控式面板及觸控式面板的製造方法
TW201702833A (zh) 觸控感應器的製造方法
JP6433707B2 (ja) 透明導電性積層体およびその製造方法、透明導電性フィルムの製造方法、ならびに透明導電性フィルム巻回体の製造方法
TW201702739A (zh) 感光性導電膜、導電圖案的形成方法、帶導電圖案的基材及觸控面板感測器
JP2016097595A (ja) 積層体及びその製造方法、フィルムセット、感光性導電フィルム、並びに、電子部品
TW202024150A (zh) 附圖案的基材的製造方法、電路基板的製造方法及觸控面板的製造方法
TWI620659B (zh) 感光性膜於裝飾基板上的層壓方法、抗蝕劑圖案的製造方法、導電圖案的製造方法、轉印型感光性導電膜及轉印型感光性導電膜輥
JP2018183878A (ja) 積層体及びその製造方法、フィルムセット、並びに、感光性導電フィルム
TWI496063B (zh) A method of forming a transparent conductive pattern, a method of manufacturing a touch screen, and a conductive transfer film
TW201502704A (zh) 感光性導電膜、及使用其的導電圖案的形成方法、導電圖案基板以及觸控面板感測器
JP2017207906A (ja) 静電容量方式タッチパネル及びその製造方法
JPWO2017056131A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2017059171A (ja) 静電容量方式タッチパネル
CN203909751U (zh) 触摸屏
JP2019067818A (ja) 転写形導電フィルム及び積層体
KR102686719B1 (ko) 투명 기판, 매립형 전극 기판 및 이의 제조방법
JP2005031575A5 (enExample)
WO2018062372A1 (ja) 光透過性導電フィルム及びパターン状の導電層を有する光透過性導電フィルムの製造方法
JP2022132755A5 (enExample)