CN102645989B - 触摸屏面板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种触摸屏面板的制备方法，该方法包括以下步骤：提供一绝缘基底，该绝缘基底的一表面定义一触控区域和一走线区域；在所述绝缘基底的所述表面形成一粘胶层；在所述粘胶层表面形成一纳米碳管层，并固化所述粘胶层；在所述纳米碳管层表面形成电极和导电线路；以及去除位于走线区域暴露的纳米碳管层。由于纳米碳管层比ITO层的制备工艺简单，从而降低了制备成本。

Description

触摸屏面板的制备方法

技术领域

本发明涉及一种触摸屏面板的制备方法，尤其涉及一种基于纳米碳管的触摸屏面板的制备方法。

背景技术

近年来，伴随着移动电话与触摸导航系统等各种电子设备的高性能化和多样化的发展，在液晶等显示设备的前面安装透光性的触摸屏的电子设备逐步增加。这样的电子设备的使用者通过触摸屏，一边对位于触摸屏背面的显示设备的显示内容进行视觉确认，一边利用手指或触控笔等按压触摸屏来进行操作。由此，可以操作电子设备的各种功能。

按照触摸屏的工作原理和传输介质的不同，现有的触摸屏分为四种类型，分别为电阻式、电容式、红外线式以及表面声波式。其中电容式触摸屏和电阻式触摸屏的应用比较广泛。

现有技术中的电容式和电阻式触摸屏通常包括至少一个作为透明导电层的铟锡氧化物层(ITO层)。然而，ITO层作为透明导电层通常采用离子束溅射或蒸镀等工艺制备，在制备的过程，需要较高的真空环境及需要加热到200℃～300℃，因此，使得ITO层的制备成本较高。此外，现有制备触摸屏的方法中通常先激光刻蚀除去部分ITO层再丝网印刷导电线路。由于激光刻蚀和丝网印刷导电线路各需一个对位掩模，所以制备成本较高，而且两个不同的对位掩模所造成的公差较大，所以增加了制备工艺的难度。

发明内容

有鉴于此，确有必要提供一种制备成本低，且工艺简单的触摸屏面板的制备方法。

本发明提出一种触摸屏面板的制备方法，该方法包括以下步骤：提供一绝缘基底，该绝缘基底的一表面定义一触控区域和一走线区域；在所述绝缘基底的所述表面形成一粘胶层；在所述粘胶层表面形成一纳米碳管层，并固化所述粘胶层；在所述纳米碳管层表面形成电极和导电线路；以及去除位于走线区域暴露的纳米碳管层。

与现有技术相比较，本发明实施例提供的触摸屏面板的制备方法具有以下优点：第一，由于纳米碳管层比ITO层的制备工艺简单，从而降低了制备成本。第二，由于先在纳米碳管层表面形成电极和导电线路，再去除位于走线区域暴露的纳米碳管层，所以电极和导电线路覆盖的部分纳米碳管层被保留，并与电极和导电线路形成复合结构。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：

图1为本发明实施例提供的触摸屏面板的俯视图。

图2为图1的触摸屏面板沿线II-II的剖面图。

图3为图1的触摸屏面板中的透明导电层的扫描电镜照片。

图4为本发明实施例提供的制备单个触摸屏面板的工艺流程图。

图5为本发明实施例提供的制备多个触摸屏面板的工艺流程图。

图6为图5的工艺流程图的步骤一的俯视图。

图7为图5的工艺流程图的步骤三的俯视图。

图8为图5的工艺流程图的步骤四的俯视图。

图9为图5的工艺流程图的步骤六的俯视图。

主要元件符号说明：

10：触摸屏面板

10A：触控区域

10B：走线区域

12：绝缘基底

120：目标区域

122：走线目标区域

124：触控目标区域

13：粘胶层

14：透明导电层

15：纳米碳管线

16：电极

17：激光

18：导电线路

19：纳米碳管层

具体实施方式

下面将结合附图及具体实施例，对本发明提供的触摸屏面板及其制备方法作进一步的详细说明。

请参阅图1及图2，本发明实施例提供一种触摸屏面板10，该触摸屏面板10包括一绝缘基底12，一粘胶层13，一透明导电层14，至少一电极16，以及一导电线路18。

所述触摸屏面板10定义有两个区域：一触控区域10A与一走线区域10B。所述触控区域10A为所述触摸屏面板10可被触碰实现触控功能的区域，所述走线区域10B为所述触摸屏面板10内导电线路18的设置区域。所述走线区域10B为触摸屏面板10靠近边缘的较小面积的区域，其可以位于触控区域10A的至少一侧。所述触控区域10A为包括触摸屏面板10中心区域的较大面积的区域。所述走线区域10B通常位于所述触控区域10A的周边。所述触控区域10A与走线区域10B的位置关系不限，可以根据需要选择。以下给出当所述触摸屏面板10为矩形时，触控区域10A与走线区域10B的几种位置关系。本实施例中，所述触控区域10A为触摸屏面板10的中心区域，所述走线区域10B环绕触控区域10A。所述触控区域10A的形状与触摸屏面板10的形状相同且面积小于触摸屏面板10的面积，所述走线区域10B为触控区域10A以外的其他区域。

所述粘胶层13设置于绝缘基底12的一表面。所述透明导电层14以及导电线路18分别设置于粘胶层13的一表面。所述电极16设置于透明导电层14表面。其中，所述透明导电层14仅设置于绝缘基底12位于触控区域10A的表面。所述导电线路18仅设置于绝缘基底12位于走线区域10B的表面。所述电极16设置于所述透明导电层14至少一侧边，并与导电线路18以及透明导电层14分别电连接。所述导电线路18将该透明导电层14与一外接电路(图未示)电连接。由于本发明的透明导电层14仅设置于绝缘基底12位于触控区域10A的表面，而导电线路18仅设置于绝缘基底12位于走线区域10B的表面，即，透明导电层14与导电线路18没有交叠的部分，所以当触控笔或手指触碰到走线区域10B时，不会在导电线路18和透明导电层14之间产生电容干扰信号，从而进一步提高了触摸屏的准确度。

所述绝缘基底12为一曲面型或平面型的结构。该绝缘基底12具有适当的透明度，且主要起支撑的作用。该绝缘基底12由玻璃、石英、金刚石或塑胶等硬性材料或柔性材料形成。具体地，所述柔性材料可选择为聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚酰亚胺(PI)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯材料，或聚醚砜(PES)、纤维素酯、聚氯乙烯(PVC)、苯并环丁烯(BCB)或丙烯酸树脂等材料。本实施例中，所述绝缘基底12为一平面型的结构，该绝缘基底12为柔性聚碳酸酯(PC)。可以理解，形成所述绝缘基底12的材料并不限于上述列举的材料，只要能使绝缘基底12起到支撑的作用，并具有适当的透明度即可。

所述透明导电层14包括一纳米碳管层。所述纳米碳管层由若干纳米碳管组成，该纳米碳管层中大多数纳米碳管的延伸方向基本平行于该纳米碳管层的表面。所述纳米碳管层的厚度不限，可以根据需要选择；所述纳米碳管层的厚度为0.5纳米～100微米；优选地，该纳米碳管层的厚度为100纳米～200纳米。由于所述纳米碳管层中的纳米碳管均匀分布且具有很好的柔韧性，使得该纳米碳管层具有很好的柔韧性，可以弯曲折叠成任意形状而不易破裂。本实施例中，所述透明导电层14仅为一纳米碳管层。

所述纳米碳管层中的纳米碳管包括单壁纳米碳管、双壁纳米碳管及多壁纳米碳管中的一种或多种。所述单壁纳米碳管的直径为0.5纳米～50纳米，双壁纳米碳管的直径为1.0纳米～50纳米，多壁纳米碳管的直径为1.5纳米～50纳米。所述纳米碳管的长度大于50微米。优选地，该纳米碳管的长度优选为200微米～900微米。

所述纳米碳管层中的纳米碳管无序或有序排列。所谓无序排列是指纳米碳管的排列方向无规则。所谓有序排列是指纳米碳管的排列方向有规则。具体地，当纳米碳管层包括无序排列的纳米碳管时，纳米碳管相互缠绕或者各向同性排列；当纳米碳管层包括有序排列的纳米碳管时，纳米碳管沿一个方向或者多个方向择优取向排列。所谓“择优取向”是指所述纳米碳管层中的大多数纳米碳管在一个方向或几个方向上具有较大的取向几率；即，该纳米碳管层中的大多数纳米碳管的轴向基本沿同一方向或几个方向延伸。所述纳米碳管层的中的相邻的纳米碳管之间具有间隙，从而在纳米碳管层中形成多个间隙。

所述纳米碳管层包括至少一纳米碳管膜。当所述纳米碳管层包括多个纳米碳管膜时，该纳米碳管膜可以基本平行无间隙共面设置或层叠设置。请参阅图3，所述纳米碳管膜是由若干纳米碳管组成的自支撑结构。所述若干纳米碳管沿同一方向择优取向排列。该纳米碳管膜中大多数纳米碳管的整体延伸方向基本朝同一方向。而且，所述大多数纳米碳管的整体延伸方向基本平行于纳米碳管膜的表面。进一步地，所述纳米碳管膜中多数纳米碳管是通过范德华(VanDerWaals)力首尾相连。具体地，所述纳米碳管膜中基本朝同一方向延伸的大多数纳米碳管中每一纳米碳管与在延伸方向上相邻的纳米碳管通过范德华力首尾相连。当然，所述纳米碳管膜中存在少数随机排列的纳米碳管，这些纳米碳管不会对纳米碳管膜中大多数纳米碳管的整体取向排列构成明显影响。所述纳米碳管膜不需要大面积的载体支撑，而只要相对两边提供支撑力即能整体上悬空而保持自身膜状状态，即将该纳米碳管膜置于(或固定于)间隔设置的两个支撑体上时，位于两个支撑体之间的纳米碳管膜能够悬空保持自身膜状状态。

具体地，所述纳米碳管膜中基本朝同一方向延伸的多数纳米碳管，并非绝对的直线状，可以适当的弯曲；或者并非完全按照延伸方向上排列，可以适当的偏离延伸方向。因此，不能排除纳米碳管膜的基本朝同一方向延伸的多数纳米碳管中并列的纳米碳管之间可能存在部分接触。

具体地，所述纳米碳管膜包括多个连续且定向排列的纳米碳管片段。该多个纳米碳管片段通过范德华力首尾相连。每一纳米碳管片段包括多个相互平行的纳米碳管，该多个相互平行的纳米碳管通过范德华力紧密结合。该纳米碳管片段具有任意的长度、厚度、均匀性及形状。该纳米碳管膜中的纳米碳管沿同一方向择优取向排列。

所述纳米碳管膜可通过从纳米碳管阵列直接拉取获得。可以理解，通过将多个纳米碳管膜平行且无间隙共面铺设或/和层叠铺设，可以制备不同面积与厚度的纳米碳管层。每个纳米碳管膜的厚度可为0.5纳米～100微米。当纳米碳管层包括多个层叠设置的纳米碳管膜时，相邻的纳米碳管膜中的纳米碳管的排列方向形成一夹角α，0°≤α≤90°。

所述纳米碳管膜可通过从纳米碳管阵列直接拉取获得。具体地，首先于石英或晶片或其他材质的基板上长出纳米碳管阵列，例如使用化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)方法；接着，以拉伸技术将纳米碳管逐一从纳米碳管阵列中拉出而形成。这些纳米碳管借由范德华力而得以首尾相连，形成具一定方向性且大致平行排列的导电细长结构。所形成的纳米碳管膜会在拉伸的方向具最小的电阻抗，而在垂直于拉伸方向具最大的电阻抗，因而具备电阻抗异向性。

所述粘胶层13是透明的。所述粘胶层13的作用是为了使所述纳米碳管层更好地粘附于所述绝缘基底12的表面。所述纳米碳管层通过所述粘胶层13固定于绝缘基底12表面，且部分包埋于所述粘胶层13中，部分暴露于粘胶层13外。本实施例中，所述纳米碳管层中的大多数纳米碳管部分表面包埋于粘胶层13中，部分表面暴露于粘胶层13外。所述粘胶层13是透明的，该粘胶层13的材料为具有低熔点的热塑胶或UV(UltravioletRays)胶，如PVC或PMMA等。所述粘胶层13的厚度为1纳米～500微米；优选地，所述粘胶层13的厚度为1微米～2微米。本实施例中，所述粘胶层13的材料为UV胶，该粘胶层13的厚度约为1.5微米。

所述电极16设置于所述透明导电层14表面，且位于透明导电层14的至少一侧边。所述电极16的设置位置与采用该触摸屏面板10的触摸屏的触控原理与触控点检测方法有关，所述电极16的个数与该触摸屏面板10的面积与触控解析度有关，可以根据实际应用情形选择。当触摸屏面板10的面积越大，解析度要求越高时，所述电极16的个数越多。反之亦然。本实施例中，所述触摸屏面板10包括六个电极16，且该六个电极16间隔设置于透明导电层14一侧。所述电极16设置于纳米碳管层表面以将部分纳米碳管层覆盖。所述电极16与覆盖的纳米碳管层形成复合结构。所述电极16的材料为金属、导电浆料或ITO等其他导电材料，只要确保该电极16能导电即可。所述电极16可以通过刻蚀导电薄膜，如金属薄膜或氧化铟锡薄膜制备，也可以通过丝网印刷法制备。

所述导电线路18包括多个导线，其材料可以为金属、导电浆料或ITO等其他导电材料。所述导电线路18可以通过刻蚀导电薄膜，如金属薄膜或氧化铟锡薄膜制备，也可以通过丝网印刷法制备。本实施例中，所述电极16和导电线路18均为导电浆料，且所述电极16和导电线路18通过丝网印刷导电浆料一体形成。该导电浆料的成分包括金属粉、低熔点玻璃粉和粘结剂。其中，该金属粉优选为银粉，该粘结剂优选为松油醇或乙基纤维素。该导电浆料中，金属粉的重量比为50％～90％，低熔点玻璃粉的重量比为2％～10％，粘结剂的重量比为8％～40％。

进一步，所述触摸屏面板10包括多个纳米碳管线15。所述纳米碳管线15设置于导电线路18与粘胶层13之间。所述纳米碳管线15包括多个纳米碳管，其结构与上述作为透明导电层14的纳米碳管层的结构相同。此处纳米碳管线15即为宽度较窄，长径比较大的纳米碳管层。所述纳米碳管线15与作为透明导电层14的纳米碳管层为一体结构，即纳米碳管线15为作为透明导电层14的纳米碳管层的延伸部分。所述纳米碳管线15中的纳米碳管部分包覆于粘胶层13之间，部分包覆于导电线路18中，以与导电线路18形成复合结构。该结构使得导电线路18与绝缘基底12的结合更加牢固。而且，由于纳米碳管优良的导电性，使得导电线路18的导电性增强。由于所述纳米碳管线15与作为透明导电层14的纳米碳管层为一体结构，从而提高了导电线路18与透明导电层14之间的电性接触。请进一步参见一下关于触摸屏面板10的制备方法理解所述透明导电层14、电极16以及导电线路18的结构和位置关系。

本发明实施例提供的触摸屏具有以下优点：第一，纳米碳管具有优异的力学特性使得纳米碳管层具有良好的韧性及机械强度，且耐弯折，故采用纳米碳管层作为透明导电层，可以相应的提高触摸屏的耐用性；进而提高使用该触摸屏的显示装置的耐用性；第二，由于纳米碳管层包括多个均匀分布的纳米碳管，故，该纳米碳管层也具有均匀的阻值分布，因此，采用该纳米碳管层作为透明导电层可以相应的提高触摸屏的灵敏度及精确度；第三，由于纳米碳管层仅设置于绝缘基底位于触控区域的表面，而导电线路仅设置于绝缘基底位于走线区域的表面，即，纳米碳管层与导电线路没有交叠的部分，所以当触控笔或手指触碰到走线区域时，不会在导电线路和纳米碳管层之间产生电容干扰信号，从而提高了触摸屏的准确度；第四，由于纳米碳管线与导电线路形成复合结构，所以使得导电线路的导电性增强；第五，由于所述纳米碳管线与作为透明导电层的纳米碳管层为一体结构，从而提高了导电线路与透明导电层之间的电性接触。

请参阅图4，本发明实施例进一步提供一种一次制备单个触摸屏面板10的方法，其包括以下步骤：

步骤一，提供一绝缘基底12，该绝缘基底12的一表面设定一触控区域10A和一走线区域10B。

本实施例中，所述绝缘基底12为-PET膜。

步骤二，在所述绝缘基底12的所述表面形成一粘胶层13。所述形成一粘胶层13的方法可以为旋涂法、喷涂法、刷涂等。本实施例中，所述粘胶层13为一厚度约为1.5微米的UV胶层，其通过涂敷的方法形成于PET膜整个表面。

步骤三，在所述粘胶层13表面形成一纳米碳管层19，并固化所述粘胶层13，以将纳米碳管层19固定。

所述纳米碳管层可以通过印刷、沉积或直接铺设等方法形成于粘胶层13表面。本实施例中，所述纳米碳管层19为一具有自支撑作用的纳米碳管膜，其可以直接铺设于整个粘胶层13表面。当纳米碳管层19形成于粘胶层13表面后纳米碳管层19会部分浸润到粘胶层13中，且通过粘结力与粘胶层13结合。优选地，所述纳米碳管层19中的纳米碳管部分浸润到粘胶层13中，部分暴露于粘胶层13外。

进一步，为了使纳米碳管层19浸润到粘胶层13中，还可以包括一挤压该纳米碳管层19的步骤。本实施例中，采用一PET膜铺设于纳米碳管层19表面，轻轻的挤压该纳米碳管层19。

所述固化粘胶层13的方法与粘胶层13材料有关，需要根据粘胶层13的材料选择。由于纳米碳管层19浸润到粘胶层13中，所以该步骤中纳米碳管层19会在粘胶层13固化的过程中被固定。本实施例中，通过紫外光照射的方法使UV胶固化。所述紫外光17照射的时间为2秒～10秒。本实施例中，所述紫外光17照射的时间为4秒。

步骤四，在所述纳米碳管层19表面形成电极16和导电线路18。

所述电极16和导电线路18可以通过丝网印刷法、化学气相沉积、磁控溅射等方法制备。所述电极16形成于纳米碳管层19位于触控区域10A的表面，而导电线路18形成于纳米碳管层19位于走线区域10B的表面。该步骤中，所述电极16和导电线路18覆盖部分纳米碳管层19，且与该部分覆盖的纳米碳管层19形成复合结构。由于纳米碳管层19的纳米碳管之间具有间隙，所以电极16和导电线路18的材料会渗透到纳米碳管层19的间隙内，并与纳米碳管结合。本实施例中，所述电极16和导电线路18通过丝网印刷导电浆料一体形成。该导电浆料烘干之前，会与覆盖的部分纳米碳管层19相互浸润形成复合结构，并在烘干过程中将该部分纳米碳管层19包覆固定。

步骤五，去除位于走线区域10B暴露的纳米碳管层19。

所述去除位于走线区域10B暴露的的纳米碳管层19的方法可以为激光刻蚀、粒子束刻蚀或电子束光刻等。所述导电线路18可以作为去除位于走线区域10B暴露的的纳米碳管层19时所需的对位掩模。

本实施例中，通过电脑控制激光17移动路径，以去除位于走线区域10B暴露的纳米碳管层19，从而保留除位于触控区域10A的纳米碳管层19作为透明导电层14。同时，位于走线区域10B且被导电线路18覆盖的部分纳米

碳管层19也被保留从而形成纳米碳管线15。该纳米碳管线15与导电线路18形成复合结构。

可以理解，所述丝网印刷的导电线路18可作为激光17刻蚀时所需的对位掩模(mark)。由于走线区域10B的部分纳米碳管层19被导电线路18覆盖，所以该部分纳米碳管层19被保留。此制程称为“selfalignment”，可以简化制备工艺。如果选择先激光17刻蚀，再形成导电线路18的制程，则激光17刻蚀和丝网印刷导电线路18各需一个对位掩模。由于两个不同的对位掩模所造到的公差较大，所以增加了制备工艺的难度。进一步，先激光17刻蚀，再形成导电线路18的制程中需要先使激光17刻蚀后的粘胶层13平坦化，然后才能丝网印刷导电线路18。而本实施例的制程避免了使其平坦化的步骤，既可以简化制备工艺，又可以降低制备成本。

可以理解，通过在本实施例制备的触摸屏面板10的表面设置一光学透明胶层(OCALayer)以及一盖板(CoverLens)，从而覆盖上述透明导电层14、电极16以及导电线路18可以得到一触摸屏。本发明提供的触摸屏面板10也可以用于电容式单点触摸屏、电容式多点触摸屏、电阻式单点触摸屏、电阻式多点触摸屏等各种采用透明导电层结构的触摸屏。

请参阅图5，本发明实施例进一步提供一种一次制备多个触摸屏面板10的方法，其包括以下步骤：

步骤一，提供一绝缘基底12，该绝缘基底12的一表面包括多个目标区域120，且每个目标区域120设定一触控目标区域124和一走线目标区域122。

请进一步参阅图6，所述多个目标区域120的形状与大小可以根据实际需要选择。所述触控目标区域124为所述绝缘基底12表面与所要制备的触摸屏面板10的触控区域10A相对应的区域。所述走线目标区域122为所述绝缘基底12表面与所要制备的触摸屏面板10的走线区域10B相对应的区域。本实施例中，所述绝缘基底12为一平面型的结构，该绝缘基底12为柔性材料PET。本实施例将绝缘基底12平均分成3行3列的9份大小相同的目标区域120。所述触控目标区域124为目标区域120的中心区域，所述走线目标区域122环绕触控目标区域124。所述触控目标区域124的形状与目标区域120的形状相同且面积小于目标区域120的面积，所述走线目标区域122为触控目标区域124以外的其他区域。

步骤二，在所述绝缘基底12的所述表面形成一粘胶层13。

所述粘胶层13是透明的。所述形成一粘胶层13的方法可以为旋涂法、喷涂法、刷涂等。本实施例中，所述粘胶层13为一厚度约为1.5微米的UV胶层，其通过涂敷的方法形成于PET膜一表面。

步骤三，在所述粘胶层13的一表面形成一纳米碳管层19，并固化所述粘胶层13，以将的纳米碳管层19固定。

本实施例中，所述纳米碳管层19为一具有自支撑作用的纳米碳管膜，其可以直接铺设于整个粘胶层13表面。可以理解，由于通过大板制程，一次制备多个触摸屏面板，所以从纳米碳管阵列中拉出的单个纳米碳管膜的宽度可能小于粘胶层13的宽度。因此，也可以将多个纳米碳管膜平行无间隙设置以拼成一个面积较大的纳米碳管层19。优选地，使相邻两个纳米碳管膜的拼接线与相邻两行或两列目标区域120的中间切割线重合。

当纳米碳管层19形成于粘胶层13表面后纳米碳管层19会部分浸润到粘胶层13中，且通过粘结力与粘胶层13结合。优选地，所述纳米碳管层19中的纳米碳管部分浸润到粘胶层13中，部分暴露于粘胶层13外。

所述固化粘胶层13的方法与粘胶层13材料有关，需要根据粘胶层13的材料选择。由于纳米碳管层19浸润到粘胶层13中，所以该步骤中纳米碳管层19会在粘胶层13固化的过程中被固定。本实施例中，通过紫外光照射的方法使UV胶固化。所述紫外光17照射的时间为4秒。

步骤四，在每个目标区域120内的纳米碳管层19表面形成电极16和导电线路18。

所述电极16和导电线路18可以通过丝网印刷法、化学气相沉积、磁控溅射等方法制备。请参阅图8，所述电极16形成于纳米碳管层19位于触控目标区域124的表面，而导电线路18形成于纳米碳管层19位于走线目标区域122的表面。

该步骤中，所述电极16和导电线路18覆盖部分纳米碳管层19，且与该部分覆盖的纳米碳管层19形成复合结构。由于纳米碳管层19的纳米碳管之间具有间隙，所以电极16和导电线路18的材料会渗透到纳米碳管层19的间隙内，并与纳米碳管结合。本实施例中，所述电极16和导电线路18通过丝网印刷导电浆料一体形成。该导电浆料烘干之前，会与覆盖的部分纳米碳管层19相互浸润形成复合结构。

步骤五，去除位于走线目标区域122暴露的纳米碳管层19。

本实施例中，通过电脑控制激光17移动路径，以去除位于走线目标区域122暴露的纳米碳管层19，从而保留除位于触控目标区域124的纳米碳管层19作为透明导电层14。同时，位于走线目标区域122且被导电线路18覆盖的部分纳米碳管层19也被保留形成纳米碳管线15。该纳米碳管线15与导电线路18形成复合结构。

步骤六，切割得到多个触摸屏面板10。

所述切割得到多个触摸屏面板10的步骤可以通过激光切割、机械切割等方法实现。本实施例中，通过机械切割将绝缘基底12的每个目标区域120分离，从而得到多个触摸屏面板10。具体地，先沿两行或两列目标区域120的中间切割线垂直于绝缘基底12厚度方向切割所述绝缘基底12，再沿两个相邻的目标区域120中间的切割线垂直于绝缘基底12厚度方向切割所述绝缘基底12，如此可以得到多个触摸屏面板10。

可以理解，所述切割得到多个触摸屏面板10的步骤前还可以在绝缘基底12的表面设置一光学透明胶层(OCALayer)以及一盖板(CoverLens)，以覆盖所有透明导电层14、电极16以及导电线路18。然后，通过切割可以得到多个触摸屏。

可以理解，本发明提供的触摸屏面板10可以适用于电容式单点触摸屏、电容式多点触摸屏、电阻式单点触摸屏、电阻式多点触摸屏等各种采用透明导电层结构的触摸屏。

本发明实施例提供的触摸屏具有以下优点：第一，由于纳米碳管层比ITO层的制备工艺简单，从而降低了制备成本。第二，由于先在纳米碳管层表面形成电极和导电线路，再去除位于走线区域暴露的纳米碳管层，所以电极和导电线路覆盖的部分纳米碳管层被保留，并与电极和导电线路形成复合结构。第三，采用激光刻蚀去除位于走线区域暴露的纳米碳管层，导电线路可作为激光刻蚀时所需的对位掩模，从而简化了制备工艺。第四，通过大板制程，一次制备多个触摸屏面板，简化了工艺流程，提高了制备效率，降低了制备成本。

另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其他变化，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。

Claims (11)

1.一种触摸屏面板的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

提供一绝缘基底，所述绝缘基底的一表面定义一触控区域和一走线区域；

在所述绝缘基底的所述表面形成一粘胶层；

在所述粘胶层表面形成一纳米碳管层，并固化所述粘胶层；

在所述纳米碳管层表面上形成一电极和一导电线路，所述电极直接接触所述纳米碳管层表面；以及

去除位于所述走线区域暴露的所述纳米碳管层，其中所述导电线路作为去除位于所述走线区域暴露的所述纳米碳管层时所需的对位掩模。

2.如权利要求1所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述纳米碳管层通过印刷、沉积或直接铺设的方法形成。

3.如权利要求1所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，在所述粘胶层的表面形成所述纳米碳管层的步骤之后，所述纳米碳管层部分浸润到所述粘胶层中。

4.如权利要求1所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，在所述粘胶层的表面形成所述纳米碳管层的步骤之后，进一步包括一挤压所述纳米碳管层，从而使所述纳米碳管层浸润到所述粘胶层中的步骤。

5.如权利要求1所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述粘胶层的材料为UV胶，固化所述粘胶层的方法为紫外光照射。

6.如权利要求1所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述电极和所述导电线路通过丝网印刷法、化学气相沉积法或磁控溅射法制备。

7.如权利要求6所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述电极形成于所述纳米碳管层位于所述触控区域的表面，而所述导电线路形成于所述纳米碳管层位于所述走线区域的表面。

8.如权利要求7所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述电极与所述电极覆盖的部分纳米碳管层形成复合结构，所述导电线路与所述导电线路覆盖的部分所述纳米碳管层形成复合结构。

9.如权利要求6所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述电极和所述导电线路通过丝网印刷导电浆料一体形成。

10.如权利要求9所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，所述导电浆料会与覆盖的部分所述纳米碳管层相互浸润形成复合结构。

11.如权利要求6所述的触摸屏面板的制备方法，其特征在于，去除位于所述走线区域暴露的所述纳米碳管层的方法为激光刻蚀、粒子束刻蚀或电子束光刻。