JP6573017B2 - 静電容量方式タッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、静電容量方式タッチパネルに関する。

タッチパネルは、スマートフォン、タブレット端末、ノートパソコン等に搭載されており、タッチされた表示領域の位置座標を検出する装置である。検出方式は数種類あり、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式、及び赤外線方式がある。

静電容量方式タッチパネルにおいて、表示領域には透明なセンサ電極がパターニングされている。センサ電極は、例えば、Ｍ本の上部電極とＮ本の下部電極からなり、上部電極と下部電極は互いに絶縁されている。
センサ電極は透明性に加え、高速なセンシングができるように、低抵抗であることが求められており、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、金属ナノワイヤ、ＣＮＴ（カーボンナノチューブ）、金属細線（金属メッシュ）等を用いて形成されている。

センサ電極の周囲には、センサ電極の信号を取り出すための引き出し配線が形成される。センサ電極は表示装置の表示領域に位置し、引き出し配線は表示部を囲う額縁領域に位置する。引き出し配線が細いほど、額縁を狭くすることができる。
センサ電極の材料に何を選択するかによって、透明性や抵抗値等の材料そのものに関する特性だけでなく、引き出し配線の形成方法や、組み立てられるタッチパネル構造やタッチパネル形成プロセスが異なる。

ここで、ＩＴＯ電極を用いたタッチパネルの構成例を図１（ａ）に示す（タッチパネルＡとする）。
電極パターンは、菱形が代表的である（図１（ａ）の１０１参照）。下部センサ電極と上部センサ電極の菱形状のパターンは、同一平面状にそれぞれ重ならないように形成され、下部センサ電極と上部センサ電極が交差する領域では、センサ電極同士が互いに接触しないように絶縁膜を挟んだ構造となっている（ブリッジ構造）。
センサ電極１０１は、カバー材１００上に形成されており、タッチパネルの厚さを薄くすることができる。

次に、金属ナノワイヤを電極に用いたタッチパネルの構成例を図１（ｂ）に示す（タッチパネルＢとする）。金属ナノワイヤの種類は、視認性と導電性の観点からＡｇが主流である。金属ナノワイヤ自体は細く短いが、それらが繊維のように絡み合って導電性が発現する。金属ナノワイヤの含有量に比例して導電性は上がるが、含有量が増えるほど、透明度は下がる。

ＩＴＯと同じ透明度となるように金属ナノワイヤの含有量を調整した場合、抵抗率はＩＴＯの１／２程度になる。
金属ナノワイヤ電極の作製方法は、金属ナノワイヤを溶液に溶かして塗工する方法、又は印刷する方法がある（例えば特許文献１参照）。また、絶縁層と金属ナノワイヤを含有する樹脂層を有するフィルムを転写して金属ナノワイヤ電極を形成する方法もある（例えば、特許文献２及び３参照）。

この構成例（タッチパネルＢ）は、上部センサ電極１０３と下部センサ電極１０５の間に透明絶縁膜１０４がある点でタッチパネルＡの構成と異なる。（タッチパネルＡでは、交差部にのみ絶縁層が形成されている）。

次に、金属細線を電極に用いたタッチパネルの構成例を図１（ｃ）に示す（タッチパネルＣとする）。金属細線の種類は低抵抗化の点から、Ｃｕが主流である。金属細線は透明ではないが、ライン幅を５μｍ程度まで細くすれば、人の目には殆ど視認できない。図１（ｃ）の１０７や１０９のようにセンサ電極パターンと引き出し配線を一括形成できるので、引き出し配線形成の工程を省くことができる。また、引き出し配線も５μｍ程度の細線で形成できるため、狭額縁化に適している。

金属細線の作製方法は、例えばフィルム基材１０８の表裏に蒸着、又はメッキでＣｕを形成し、細線形状にエッチングし、透明粘着剤１０６でカバー材１００に貼る方法がある。

特表２０１１−５１５５１０号公報 国際公開第２０１０／０２１２２４号 国際公開第２０１３／０５１５１６号

上記タッチパネルＡにおいて電極として用いるＩＴＯの表面抵抗率は１００Ω／□程度で、金属ナノワイヤ（５０Ω／□程度）や金属メッシュ（０．３Ω／□程度）と比較して劣るため、高速センシングを必要とする大型サイズのタッチパネルに適用することは難しい。
また、上記タッチパネルＡの構成では、引き出し配線１０２には、通常Ａｇペーストを用いるため、額縁を狭くすることは困難である。
さらに、上記タッチパネルＡの構成は、タッチパネルの厚さは薄くすることができるが、タッチパネルの下部にある表示部からの電磁波ノイズの影響を受けやすく、誤作動には弱いという問題がある。

金属ナノワイヤを電極に用いた上記タッチパネルＢの構成は、ＩＴＯ電極と比較して抵抗率を低くすることができるが、この構成においても、引き出し配線１０２には、タッチパネルＡと同じくＡｇペーストを用いるため、やはり額縁を狭くする点では改善の余地がある。

上記タッチパネルＣの構成は、引き出し配線形成の工程を省くことができるとともに、狭額縁化に適しているが、透明粘着剤を介してカバー材上に金属細線を形成することが難しく、タッチパネルＡやタッチパネルＢに比べてセンサが厚くなるという問題がある。

以上のように、透明電極にＩＴＯ、金属細線、金属ナノワイヤを用いたタッチパネルを比較した場合、その特性は一長一短であり、全ての特性（低抵抗、良好な視認性、薄いセンサ構成、狭額縁）を兼備するタッチパネルが望まれている。

本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、センサ電極の抵抗が低く、視認性に優れ、薄く、狭額縁で、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）ノイズの影響を受けにくいタッチパネルを提供することにある。

本発明は、上部センサ電極と、下部センサ電極と、上部センサ電極の引き出し配線と、下部センサ電極の引き出し配線と、前記上部センサ電極と下部センサ電極を絶縁する透明絶縁膜とを備え、前記上部センサ電極又は前記下部センサ電極のどちらか一方は金属細線で形成され、もう一方は金属ナノワイヤで形成された静電容量方式タッチパネルに関する。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記上部センサ電極は金属細線で形成され、前記下部センサ電極は金属ナノワイヤを含有する組成物で形成された静電容量方式タッチパネルに関する。本構成によれば、カバー材に直接センサ電極を形成することができるため薄いタッチパネルを提供できる。また、適切なセンサパターン構成を採用することができるため、ＬＣＤノイズの影響を受けにくいタッチパネルを提供できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記透明絶縁膜と前記下部センサ電極が、支持フィルム、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を有する感光性導電フィルムを用いて形成された静電容量方式タッチパネルに関する。感光性導電フィルムを用いることで、フォトリソグラフィでセンサ電極パターンを形成することができ、プロセスを簡便化できる。なお、感光性導電フィルムを用いたかどうかは、透明絶縁膜とセンサ電極部分を走査型電子顕微鏡で観察することによって特定できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記上部センサ電極の引き出し配線と前記下部センサ電極の引き出し配線は、前記金属細線で形成され、前記透明絶縁膜の一部を開口することで、前記引き出し配線の一部が露呈され、露呈された引き出し配線と前記金属ナノワイヤを含有する組成物で形成されたセンサ電極とが導電性ペーストで接続されている静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、狭額縁なタッチパネルを提供できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記金属細線はＣu細線であり、前記金属ナノワイヤはＡｇナノワイヤである静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、センサ電極の抵抗が低く、視認性に優れ、加工性、コストの観点で優れたタッチパネルを提供できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記下部センサ電極は前記上部センサ電極よりも太いことを特徴とする静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、表示装置が発するノイズの影響を受けにくいタッチパネルを提供できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、隣接する前記下部センサ電極間のスペースが１００μｍ以下である静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、表示装置が発するノイズの影響を受けにくいタッチパネルを提供できる。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記センサ電極、前記透明絶縁膜、前記引き出し配線をカバー材上に形成した静電容量方式タッチパネルに関する。

また、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記センサ電極、前記透明絶縁膜、前記引き出し配線が偏光板に対してカバー材がある側とは反対の側に形成した静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、上部センサ電極と下部センサ電極のギラツキを防止することができる。

さらに、本発明は、前記静電容量方式タッチパネルにおいて、前記センサ電極、前記透明絶縁膜、前記引き出し配線を偏光板の裏面に形成した静電容量方式タッチパネルに関する。本発明によれば、上部センサ電極と下部センサ電極のギラツキを防止し、かつ、薄いタッチパネルを提供できる。

本発明によれば、一方のセンサ電極を金属細線で形成し、もう一方のセンサ電極を金属ナノワイヤを含有する組成物で形成した構成をとることによって、センサ電極の抵抗が低く、視認性に優れ、薄く、狭額縁で、ＬＣＤノイズの影響を受けにくいタッチパネルを提供することができる。

従来のタッチパネルの構成を説明する図である。 第一の実施の形態のタッチパネル構成を説明する図である。 センサ電極（金属細線で形成）について説明する図である。 （ａ）透明絶縁膜の作製例について説明する図である。（ｂ）センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物で形成）の作製例について説明する図である。 センサ部をフィルム基板上に作製したタッチパネル構成を説明する図である。 外光の反射を抑えるタッチパネル構成を説明する図である。 外光反射抑制のメカニズムを説明する図である。 第二の実施の形態のタッチパネル構成を説明する図である。 感光性導電フィルムを説明する図である。 （ａ）感光性導電フィルムの貼り合わせについて説明する図である。（ｂ）引き出し配線を露呈させる方法について説明する図である。 （ａ）センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物で形成）について説明する図である。（ｂ）センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物で形成）と露呈された引き出し配線を接続する方法を説明する図である。 レーザでセンサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）を形成する方法を説明する図である。 レーザでセンサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）を形成する、図１２とは別の方法を説明する図である。

本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
＜第一の実施の形態＞
図２〜図７を用いて、本発明の第一の実施形態の静電容量方式タッチパネルの構成を説明する。図２に全体構成図を示す。本構成はカバー材２００と、上部センサ電極、上部引き出し配線及び下部引き出し配線（以下、「上部センサ電極及び引き出し配線群」と表記する。）２０１と、透明絶縁膜２０２と、下部センサ電極２０３と、透明粘着剤２０４と、表示装置２０５からなる。

カバー材２００は透明なガラスや樹脂基板が用いられる。透明性に加えて、耐熱性や堅牢性を備える材料が好ましい。例えば、アルミノケイ酸塩ガラスやソーダ石灰ガラスに強化処理を施した材料が好ましい。また、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）又はポリカーボネート（ＰＣ）にハードコート処理を施した材料も好ましい。

＜上部センサ電極、引き出し配線＞
上部センサ電極及び引き出し配線群２０１は金属細線で形成される。金属の種類としては、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ａｌ、ＭＡＭ（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）等があるが、導電性、加工性、コストの観点で、Ｃｕが好ましい。Ｃｕは５μｍ程度の細線に加工ができるため、人の目に視認されることを抑えることができる。

上部センサ電極及び引き出し配線群２０１の作製方法の一例を示す。まず基材となるカバー材２００の表面にメッキ処理又は蒸着等で金属薄膜を形成する。次に金属薄膜の表面全面に感光性レジストを貼り、レジストをフォトマスクを介して紫外線等で露光すると、露光された箇所のレジストのみが硬化する。露光されなかったレジストを現像液に浸してい除去し、その後金属薄膜用のエッチング液に浸すと、レジストが除去された箇所の金属膜がエッチングされる。エッチング後に残ったレジストを取り除けば、フォトマスクと同じパターンの金属細線が完成する。

別の作製方法としては、例えば、金属粒子を含有する樹脂組成物をカバー材２００に印刷することでも金属細線を形成できる。

上部センサ電極及び引き出し配線群２０１を詳しく説明する（図３参照）。引き出し配線群２０１は、上部センサ電極３００と、上部センサ電極３００を外部に引き出す電極３０１と、下部センサ電極２０３を外部に引き出す電極３０２で構成される。
前記のとおり、これら３００〜３０２は金属細線で形成され、同一の金属細線で一括に形成される。上部センサ電極３００の一本一本の線幅は、細線を視認しにくくする観点で１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましい。図３では、上部センサ電極３００を短冊（ストライプ）状の形状に記したが、この形状に限定するものではない。例えば、線幅が１０μｍ以下の網目状や蜂の巣状であっても構わない。

＜透明絶縁膜＞
図２の透明絶縁膜２０２は、絶縁性を有し、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１と下部センサ電極２０３を絶縁する役割を果たす。透明絶縁膜２０２はパターニング性を備えることが好ましい。材料としては、転写性のあるシート状の樹脂、あるいは液状の樹脂等が適している。前記透明絶縁膜の膜厚は数十μｍ以下であることが好ましい。

図４（ａ）を用いて、透明絶縁膜２０２がシート状の樹脂等である場合の透明絶縁膜の作製例を示す。まず、カバー材２００上に形成された上部センサ電極及び引き出し配線群２０１の表面を覆うようにシート状の透明絶縁膜２０２を転写し、フォトマスクを介して紫外線等で所定の箇所のみを硬化し、それ以外は現像液で除去することで、下部センサ電極の引き出し配線の露出部４００を形成する。これにより下部センサ電極の引き出し配線３０２が露呈する。

＜下部センサ電極＞
図２の下部センサ電極２０３は金属ナノワイヤを含有する組成物からなり、印刷又は塗布することで形成される。金属ナノワイヤの種類は、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ等があるが、導電性と視認性に優れる点で、Ａｇナノワイヤが好ましい。
金属ナノワイヤの直径は、視認性に優れるようにナノメートルスケールが好ましく、長さはナノワイヤ同士の接点が多くなる一方、ファインピッチにパターニングできるように数μｍから数十μｍの範囲であることが好ましい。透過率は組成物中の金属ナノワイヤの含有量で決まるが、視認性を損なわないように、可視光領域の透過率が８０％以上であることが好ましい。

図４（ｂ）を用いて、下部センサ電極２０３の作製例を示す。透明絶縁膜の一部が除去されて露出された下部センサ電極の引き出し配線３０２にかかるように金属ナノワイヤを含有する組成物を塗布し乾燥させると、下部センサ電極２０３が形成され、下部センサ電極２０３は下部センサ電極の引き出し配線の露出部４００まで流れ込み、下部センサ電極の引き出し配線３０２に接続される。
下部センサ電極２０３の各ラインの太さは１ｍｍ以上が好ましく、２ｍｍ以上がより好ましく、４ｍｍ以上がさらに好ましい。下部センサ電極２０３のライン間の隙間は、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましい。隙間が狭いほど、表示装置２０５が発する電磁波ノイズが上部センサ電極３００に伝わることを、下部センサ電極２０３がブロックできる。一方、隙間があると、ノイズは隙間を通って上部センサ電極３００に伝わりやすくなる。

前記の例で下部センサ電極２０３の形状はストライプ状であるが、これに限るものではなく、例えばノコギリのようにギザギザ形状でも構わない。透明粘着剤２０４は下部センサ電極２０３を腐食しない材料であることが好ましい。

以上、図２〜図４において、カバー材２００にセンサ電極を形成する作製例を説明したが、本発明はこれにするものではない。

別の一例として、図５の構成を挙げる。図５中、カバー材２００、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１、透明絶縁膜２０２、下部センサ電極２０３、透明粘着剤２０４、表示装置２０５は、図２中と同じである。
フィルム基材５０１上にセンサ電極等２０１〜２０３を形成している点で図２とは異なる。透明粘着剤５００はカバー材２００とフィルム基材５０１を接着する役割を果たす。この構成は図２の構成と比較して、透明粘着剤５００とフィルム基材５０１の厚さの分だけタッチパネルの厚さが増す。しかし、薄さ以外の効果、すなわち、センサ電極の抵抗が低く、視認性に優れ、狭額縁で、ＬＣＤノイズの影響を受けにくいという効果は図３の構成と同等である。

さらに別の構成例として、図６の構成を説明する。図６中、カバー材２００、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１、透明絶縁膜２０２、下部センサ電極２０３は図２中と同じである。センサ電極を液晶ディスプレイの偏光板の下面に形成する点が異なる。液晶ディスプレイは、偏光板６００と偏光板６０３とバックライトと、それ以外の部材６０２（液晶層、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板及びカラーフィルタ基板）からなる。偏光板６００と６０３は、どちらも直線偏光で、クロスニコル（直交）の関係にある。偏光板６００の下側に上部センサ電極及び引き出し配線群２０１と下部センサ電極２０３を形成することで、上部センサ電極２０１と下部センサ電極２０３のギラツキを抑えることができる。

図７を用いて偏光板６００がギラツキを防止する仕組みを説明する。図７は、図６のうちの偏光板６００と、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１と、下部センサ電極２０３だけを示し、その他は省略してある。外部入射光（太陽光や蛍光灯等）７００は様々な偏光成分を持つ光であるが、多くの光は偏光板６００でカットされ、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１と下部センサ電極２０３に到達する光は偏光板６００の偏光方向と同じ偏光を持つ到達光７０１のみとなる。上部センサ電極と下部センサ電極で反射が起こり、反射光７０２と７０３は散乱して様々な偏光を持つ光になるが、偏光板６００の偏光方向の光のみが通過する。この結果、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１と下部センサ電極２０３のギラツキは解消される。

＜第二の実施の形態＞
図８〜図１３を用いて、本発明の第二の実施形態の静電容量方式タッチパネルの構成を説明する。

図８中、カバー材２００、上部センサ電極及び引き出し配線群２０１、透明粘着剤２０４、表示装置２０５は図２中と同じである。パターニング可能な透明絶縁膜と下部センサ電極からなる８００が、図９に示す感光性透明導電フィルムを用いて作製されている点で異なる。図９の感光性透明導電フィルム９０２は、感光性透明絶縁膜９００と金属ナノワイヤを含有する組成物９０１からなり、感光性透明絶縁膜９００及び金属ナノワイヤ含有組成物９０１は、光硬化性を有し、フォトマスクパターンを通して露光し、現像することでパターニングすることができる。感光性透明絶縁膜９００及び金属ナノワイヤ含有組成物９０１を同時にパターニングすることができる。また、感光性透明絶縁膜９００を残して９０１の層だけをパターニングすることも可能である。このような金属ナノワイヤを含む透明導電膜は前記特許文献２及び３に記載される方法を用いて作製することができる。

このような感光性透明導電フィルム９０２を用いることで、第一の実施の形態の図２の透明絶縁膜２０２と下部センサ電極２０３を一括して、より簡便に作製することができる。

＜透明絶縁膜、下部センサ電極＞
パターニング性透明絶縁膜と下部センサ電極からなる８００の作製例について、図１０と図１１を用いて説明する。まず、図１０において、カバー材２００とセンサ電極及び引き出し配線群２０１の表面を覆うようにシート状の感光性透明導電フィルム９０２を転写し、露光、現像によって感光性透明導電フィルムの一部を感光性透明絶縁膜９００と感光性金属ナノワイヤ含有組成物９０１ごと除去して感光性透明導電フィルムの開口部１０００を形成する。これにより下部センサ電極の引き出し配線３０２が露呈する。
次に、図１１（ａ）において感光性金属ナノワイヤ含有組成物９０１のみをパターニングして下部センサ電極１１００を形成する。その後、図１１（ｂ）において導電性ペースト８０１（例えばＡｇペースト）で感光性透明導電フィルムの開口部１０００を通して下部センサ電極１１００と下部センサ電極の引き出し配線３０２を接続する。

前記では図１１（ａ）、（ｂ）を用いて、感光性透明導電フィルム９０２を露光、現像によってパターニングする形成方法を示したが、レーザを照射することでパターニングすることもできる。

図１２と図１３を用いて、レーザ照射によるパターニング方法を説明する。図１２も図１３も、露光、現像によって感光性透明導電フィルム９０２の一部を透明絶縁膜９００と金属ナノワイヤ含有膜９０１ごと除去して感光性透明導電フィルムの開口部１０００を形成するまでは図１０と同じである。
図１２（ａ）において、レーザで個々の下部センサ電極１２００に分離する。その後、図１２（ｂ）において導電性ペースト８０１（例えばＡｇペースト）で感光性透明導電フィルムの開口部１０００を通して下部センサ電極１２００と下部センサ電極の引き出し配線３０２を接続する。

または、図１３（ａ）においてまず導電性ペースト１３００（例えばＡｇペースト）で感光性透明導電フィルムの開口部１０００全体を覆うように塗布して、感光性金属ナノワイヤ含有組成物９０１と下部センサ電極の引き出し配線３０２を接続する。その後、図１３（ｂ）において導電性ペースト１３００ごとレーザで個々の下部センサ電極１３０１に分離する。

以上、本発明の実施形態を具体的に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更、置き換え可能である。

表１に示す構成の静電容量方式タッチパネルを作製し、抵抗値、視認性、ＬＣＤノイズブロック、狭額縁及び薄さについて評価した。表１に評価結果を示す。

表１に示した結果から、本発明の静電容量方式タッチパネル（実施例１，２）は、従来の静電容量方式タッチパネル（比較例１〜３）と比較して、求められる特性をバランス良く兼備していることが明らかである。なお、下部センサ電極に、本発明の金属ナノワイヤに替えて導電性繊維であるＣＮＴを用いた比較例４は、実施例１，２と比較して、導電性が低く、視認性に劣ることが判った。

１００ カバー材
１０１ センサ電極（ＩＴＯ）
１０２ 引き出し配線（Ａｇペースト）
１０３ 上部センサ電極（Ａｇナノワイヤ）
１０４ 透明絶縁膜
１０５ 下部センサ電極（Ａｇナノワイヤ）
１０６ 透明粘着剤
１０７ 上部センサ電極及びその引き出し配線（Ｃｕ細線）
１０８ フィルム基材
１０９ 下部センサ電極及びその引き出し配線（Ｃｕ細線）
２００ カバー材
２０１ 上部センサ電極、上部引き出し配線及び下部引き出し配線（上部センサ電極及び引き出し配線群；金属細線）
２０２ 透明絶縁膜
２０３ 下部センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）
２０４ 透明粘着剤
２０５ 表示装置
３００ 上部センサ電極（金属細線）
３０１ 上部センサ電極の引き出し配線（金属細線）
３０２ 下部センサ電極の引き出し配線（金属細線）
４００ 下部センサ電極の引き出し配線の露出部
５００ 透明粘着剤
５０１ フィルム基材
６００ 偏光板
６０１ 透明粘着剤
６０２ 液晶層、ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板
６０３ 偏光板
７００ 外部入射光
７０１ 到達光
７０２ 上部センサ電極反射光
７０３ 下部センサ電極反射光
７０４ 反射光
７０５ 反射光
８００ パターニング性透明絶縁膜及び下部センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）
８０１ 導電性ペースト
９００ 感光性透明絶縁膜
９０１ 感光性金属ナノワイヤ含有組成物
９０２ 感光性透明導電フィルム
１０００ 感光性透明導電フィルムの開口部
１１００ 下部センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）
１２００ 下部センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）
１３００ 導電性ペースト
１３０１ 下部センサ電極（金属ナノワイヤ含有組成物）

Claims (11)

1. 上部センサ電極と、下部センサ電極と、上部センサ電極の引き出し配線と、下部センサ電極の引き出し配線と、前記上部センサ電極と前記下部センサ電極を絶縁する透明絶縁膜と、前記下部センサ電極側に配置された表示装置とを備え、前記上部センサ電極は金属細線で形成され、前記下部センサ電極は金属ナノワイヤを含有する組成物で形成され、前記上部センサ電極と、前記下部センサ電極と、前記表示装置とは、この順に配置されている静電容量方式タッチパネル。
2. 請求項１に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記金属細線の金属の種類は、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ａｌ、又はＭＡＭ（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）を含む静電容量方式タッチパネル。
3. 請求項１又は２に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記金属ナノワイヤは、Ａｕナノワイヤ、Ａｇナノワイヤ、Ｐｔナノワイヤ、又はＣｕナノワイヤを含む静電容量方式タッチパネル。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記透明絶縁膜と前記下部センサ電極が、支持フィルム、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を有する感光性導電フィルムを用いて形成された静電容量方式タッチパネル。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記金属細線はＣu細線であり、前記金属ナノワイヤはＡｇナノワイヤである静電容量方式タッチパネル。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記下部センサ電極は前記上部センサ電極よりも太いことを特徴とする静電容量方式タッチパネル。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記下部センサ電極はストライプ状の形状であり、前記下部センサ電極のラインの太さは、１ｍｍ以上である静電容量方式タッチパネル。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、隣接する前記下部センサ電極間のスペースが１００μｍ以下である静電容量方式タッチパネル。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記上部センサ電極、前記透明絶縁膜、及び前記引き出し配線をカバー材上に形成した静電容量方式タッチパネル。
10. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記上部センサ電極、前記透明絶縁膜、及び前記引き出し配線は偏光板に対してカバー材がある側とは反対の側に形成した静電容量方式タッチパネル。
11. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の静電容量方式タッチパネルにおいて、前記上部センサ電極、前記透明絶縁膜、及び前記引き出し配線を偏光板の裏面に形成した静電容量方式タッチパネル。