JP2009283970A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 投射システムを用いて、パターン化された放射ビームを、前記投射系の最終要素と基板との間の空間に供給される浸漬液を介して、前記基板に供給するデバイス製造方法であって、
   前記基板上には保護膜が設けられており、該保護膜は、前記浸漬液中で不溶性でありかつ該浸漬液に対して１００°の接触角を有する、デバイス製造方法。
2. 前記保護膜は、前記接触角を提供するために決定された量の、少なくともひとつのフッ化処理されたポリマーを含む、請求項１に記載のデバイス製造方法。
3. 前記基板上にはレジストが設けられており、該レジスト上に前記保護膜が設けられている、請求項１又は請求項２のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
4. 液浸露光に用いられる基板であって、
   前記基板は、該基板の表面上に設けられたレジストと、該レジスト上に設けられた保護膜とを備え、
   前記保護膜は、前記浸漬液中で不溶性でありかつ浸漬液に対して１００°の接触角を有する、基板。
5. 前記保護膜は、前記接触角を提供するために決定された量の、少なくともひとつのフッ化処理されたポリマーを含む、請求項４に記載の基板。