JP2004356205A - スキャン型露光装置および露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ウエハの正確なアライメントが容易にでき、しかもレンズとウエハの間に気体が入り込みにくい構造のスキャン型露光装置を提供する。
【解決手段】縮小投影光学系３の凸レンズ２００の下側の面は、所定の方向に断面した場合、中央の一部（約１０ｍｍの幅）のみがウエハ４に対して平行なフラット面で、その左右が斜面になっている。一方、所定の方向を交差する方向に断面した場合、凸レンズ２００の下側の面は、全体に亘ってフラットになっている。この構成の凸レンズをスキャン型露光装置に液浸光学系を適用した場合、ウエハの正確なアライメントが容易にでき、しかもレンズとウエハの間に気体が入り込みにくい構造のスキャン型露光装置が得られる。
【選択図】 図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の製造時の露光工程で用いられる露光装置に関し、詳しくはスキャン型露光装置の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体集積回路の製造時の露光工程で用いられる露光機において、解像性能を上げるために、露光装置の縮小投影光学系を構成する多数のレンズのうち最もウエハに近いレンズと、ウエハとの間を液体で満たして、縮小投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくすることで、解像性能を向上する液浸光学系と呼ばれる手法が提案されている。例えば、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを光源とした露光装置（以下、ＡｒＦ露光機と呼ぶ。）に適用したものはＡｒＦ液浸光学系と呼ばれ、レンズとウエハとの間を純水で満たすことで、解像性能を向上できることが知られており、例えば、非特許文献１において示されている。
【０００３】
例えば、図４（ａ）に示した従来の液浸光学系４００のように、縮小投影光学系４０１における最も下側に配置された凸レンズ４０５は、ステージ台４０３を覆っている液体４０４に漬かっている。したがって、ステージ台４０３内に載せられたウエハ４０２と凸レンズ４０５との間（以下、ワーキングディスタンスと呼ぶ。）は液体４０４で満たされる。一方、液体４０４の屈折率が１．３〜１．４であるため、ワーキングディスタンスが空気で満たされる場合より、ＮＡが１．３〜１．４倍に大きくなることから、ＮＡに反比例する解像度が小さくなる（解像性能が高くなる）。
【０００４】
一方、波長１５７ｎｍで動作するフッ素レーザを光源としたフッ素露光装置（以下、Ｆ２露光機と呼ぶ。）では、波長１５７ｎｍのレーザ光は純水中を全く透過しないため、フッ素系の高分子化合物から成る液体（以下、フッ素系液体と呼ぶ。）を利用しなければならないとされている。これに関しては、非特許文献２において説明されている。なお、Ｆ２露光機に液浸光学系を適用した光学系を、以下、Ｆ２液浸光学系と呼ぶ。
【０００５】
ＡｒＦ液浸光学系に関して従来指摘されていた課題としては、レンズとウエハの間に満たされる純水は、空気や窒素などの気体に比べて、屈折率の温度依存性（すなわち屈折率温度係数）がおよそ２桁も大きいことである。例えば、窒素の屈折率ｎは、理化年表等に示されているように、０℃において、ｎ＝１．０００２９７である。温度変化による屈折率変化は、熱膨張の割合に比例して（ｎ−１）の値が小さくなると考えられるため、１℃当たりの屈折率変化は、（ｎ−１）／２７３．１５／ｎで近似でき、１．０９×１０のマイナス６乗となる。一方、水の屈折率温度係数は、２０℃において、―８×１０のマイナス５乗と示されていることから、窒素に比べて、約７３倍も大きいことが判る。これによると、レンズとウエハの間における水の温度変化が生じると、露光光の波長変化から生じる結像波面収差が大きくなることが問題だと指摘されていた。
【０００６】
そこで、ＡｒＦ液浸光学系における、露光光の波長変化から生じる結像波面収差の拡大の抑制法として、従来、特許文献１において、レンズとウエハの間を特定の値より狭くすることが提案されている。これによると、レンズとウエハの間を約２ｍｍ以下にすることで、水の温度変動を０．０１℃以下の場合、結像波面収差を露光波長の１／３０以下に抑制できるとされている。また、これによると、水温変動の許容幅を大きくするには、レンズとウエハの間をさらに縮めればよく、例えば、許容幅を０．１℃にするならば、レンズとウエハの間を約０．２ｍｍ以下にすればよい。しかしながら、レンズとウエハの間をこのように短くするならば、図４（ｂ）に示したように、縮小投影光学系４０１の最も下に配置されるレンズに、平面が下側を向いた平凸レンズ１０６を用いることが必須となる。
【０００７】
ところで、露光装置にはマスク上のパターンをウエハ上に転写する手法として２通りあり、マスク上のパターンを一括して転写するステッパ（あるいは、ステップアンドリピートとも呼ばれる。）と呼ばれる方式と、マスク上の一部分である細長い領域をウエハ上にパターン転写させながら、マスクとウエハとを同期移動させることで、マスク全面のパターンをウエハ上に転写させる方式がある。この方式の露光装置はスキャン型露光装置（スキャナと呼ばれる場合もある。）と呼ばれる。スキャン型露光装置では、ある瞬間にパターン転写される領域は、ウエハ上で約８ｍｍ×約２６ｍｍの細長い長方形状になっており、この領域における約８ｍｍの狭い方向をスキャンすることで、最大約３３ｍｍ×約２６ｍｍの領域を露光することができる。したがって、縮小投影光学系の最下レンズの直径としては、約２７ｍｍ以上であればよい。
【０００８】
【非特許文献１】
ＳＥＭＩＣＯＮ Ｊａｐａｎ ２００２、Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ ｐｒｏｇｒａｍｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ａｎｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ、第３−１５〜３−１６
【０００９】
【非特許文献２】
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｂ１９， Ｎｏｖ／Ｄｅｃ ２００１， ｐｐ．２３５３−２３５６
【００１０】
【非特許文献３】
Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ， Ｖｏｌ．４６９１， ２００２， ｐｐ．４５９−４６５．
【００１１】
【特許文献１】
特開平１０−３０３１１４号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
スキャン型露光装置の場合は、露光中に、固定されているレンズに対してウエハが相対的に高速移動するため、レンズとウエハの間隔が、前記のように０．２ｍｍ以下と非常に小さくなると、特にフッ素系の液体のように粘性が高い場合、レンズとウエハの間で液体が移動しずらくなる。その結果、液体の移動がウエハの移動に追従できなくなり、レンズとウエハの間に周囲の気体が入り込む恐れがある。これに関しては、非特許文献３に示されている。
【００１３】
さらにまた、ウエハ４０２の全体を液体４０４中に浸す従来の構成では、縮小投影光学系４０１とウエハ４０２との間隔を正確に測定することが困難になる。すなわち、通常の露光装置では、ウエハ表面に計測用のレーザ光を照射して、その反射光を測定することで、ウエハ表面の高さや傾斜を正確に計測することが知られている。したがって、ウエハ全体が液体に浸される場合、計測用レーザ光を液体中に通過させる必要があり、液体の温度や屈折率の微小な揺らぎによって、計測精度に悪影響を及ぼすことがあり、正確なアライメントが困難なことも問題であった。
【００１４】
本発明の目的は、スキャン型露光装置に液浸光学系を適用した場合、ウエハの正確なアライメントが容易にでき、しかもレンズとウエハの間に気体が入り込みにくい構造のスキャン型露光装置を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明では、縮小投影光学系におけるウエハ側に最も近い光学部材として、レーザ光が通過する領域を含む一方向に長い形状のフラット面を有するものを用いたものである。これによると、スキャン型露光装置の場合は、ウエハにおいてレーザ光が細長い領域に照射されることから、前記フラット面の形状を細長い領域にすることができる。その結果、前記光学部材とウエハとの間が最も狭い領域の面積を従来よりも大幅に低減でき、前記光学部材とウエハとの間に満たされる液体は、ウエハが高速移動しても追従しやすくなり、気体が流入することはない。
【００１６】
また、本発明では、レンズの中心に対してスキャン方向の両側に、液体の吐出部を設けたものであり、これによって、往復スキャンにおける２つのスキャン方向のどちらの場合でも、レンズとウエハの間に液体が十分満たされるようになる。さらに、両側に液体の吸引部を設けることで、吐出された液体がウエハ上から溢れ出さないようになる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は本発明の第１の実施例としてのＦ２露光機であるスキャン型露光装置１００の構成図である。露光光であるレーザ光Ｌ１は、マスク１の照射領域Ｒ１を照射する。マスク１を通過したレーザ光Ｌ２は縮小倍率１／４の縮小投影光学系３に入射し、ウエハ４上の照射領域Ｒ２を照射する。すなわち、縮小投影光学系３によって、マスク１の照射領域Ｒ１内のパターンが、ウエハ４の照射領域Ｒ２に縮小投影される。
【００１９】
マスク１は、マスクステージ２におけるＹステージ２ａ上に載せられており、Ｙ方向（図中のスキャン方向Ｓ１）に往復移動（すなわち往復スキャン）できるようになっている。一方、ウエハ４はウエハステージ５におけるＹステージ５ｃ上に載せられており、Ｙ方向（図中のスキャン方向Ｓ２）に往復スキャンできるようになっているが、露光中には、マスク１の移動方向とは反対方向に同期しながら往復スキャンしている。
【００２０】
ここでは、マスク１のパターン領域のサイズはＸ方向に１０４ｍｍ、Ｙ方向に１３２ｍｍとなっており、これが縮小倍率１／４の縮小投影光学系３によって、ウエハ４上では、Ｘ方向に２６ｍｍ、Ｙ方向に３３ｍｍとなっている。ただし、照射領域Ｒ２のサイズは、Ｘ方向に２６ｍｍ、Ｙ方向に８ｍｍとなっている。したがって、縮小投影光学系３における最下レンズの直径としては、（２６＾２＋８＾２）の平方根である２７．２ｍｍ以上あればよく、ここでは２８ｍｍになっている。
【００２１】
ウエハ４が載せられたウエハステージ５のＹステージ５ｃは、Ｘ方向に移動できるＸステージ５ｂ上に載せられており、これによって、ウエハ４はＸ方向（図中のステップ方向Ｓ３）にもステップ移動できるようになっている。
【００２２】
本実施例では、ウエハ４における照射領域Ｒ２と縮小投影光学系３との間に、後述するように、フッ素系の液体が供給される構造になっており、Ｆ２液浸光学系が適用できるようになっている。ただし、図１ではウエハ４と縮小投影光学系３とを多少離して描かれているが、実際にはこれらの間隔は約５０ミクロンと非常に小さくなっている。これに関して、図２、３を用いて、以下で説明する。
【００２３】
図２は図１に示した第１実施例におけるＦ２液浸光学系に関する説明図であり、縮小投影光学系３の中心軸に沿って切った断面を示した。図２（ａ）は、図１中の座標のＹ方向に沿った断面図であり、（ｂ）はＸ方向に沿った断面図であり、（ｃ）は下側から見た図である。（ａ）に示したように、縮小投影光学系３の最下端に配置される光学レンズである台形底面凸レンズ２００は、下側の面は、中央の一部（約１０ｍｍの幅）のみがウエハ４に平行なフラット面で、その左右が斜面になっている。一方、（ｂ）に示したように、Ｘ方向に関しては、全体がフラットになっている。すなわち、（ｃ）に示したように、下側から見ると、中央のフラットな面は一方向に細長い形状になっており、図１に示されたウエハ４の照射領域Ｒ２に当たるレーザ光が通過する領域が、そのフラットな面内に含まれるようになっている。
【００２４】
一方、台形底面凸レンズ２００の下側のフラットな面とウエハ４との間で形成される最も狭い間隔は約５０ミクロンになっているため、波長１５７ｎｍのレーザ光が液体６において減衰する割合は１０パーセント未満と小さくなる。ただし、図２（ａ）、（ｂ）では判りやすいように、間隔を多少大きく描いてある。なお、フッ素系液体６としては、例えば、ダイキン工業製のフッ素系潤滑油のデムナム（商品名）などが適している。
【００２５】
本実施例では台形底面凸レンズ２００の直径は約３０ｍｍになっているため、下側のフラットな面の面積は約３００平方ミリメートルであり、この面積がウエハ４と近接する。これに対して、図４（ｂ）に示した従来の平凸レンズ４０６を用いた液浸光学系では、レンズの直径が最小でも約２８ｍｍは必要であり、この直径の円の全体がウエハ４０２と近接することから、近接する面積は約６１６平方ミリメートルとなる。したがって、本発明によって、ウエハと近接する面積を１／２以下に低減できるようになり、近接部に液体がスムーズに流れ、かつ気体が混入することもない。
【００２６】
なお、台形底面凸レンズ２００の材質としては、波長１５７ｎｍにおいて透過率の高いフッ化カルシウムを用いるのが好ましい。しかし、フッ化カルシウムは吸水性が僅かにあるため、下面には、耐水性を有するフッ化マグネシウムを材料としたコーティングを施すのが好ましく、フッ化マグネシウムでは、波長１５７ｎｍにおいて、屈折率がフッ化カルシウムより低く、かつ液体６であるフッ素系の液体よりも高いため、フッ化マグネシウムをコーティングに用いると、反射防止膜としての機能も兼ねることになるからである。
【００２７】
以上のように、図２に示した台形底面凸レンズ２００の下面の形状は、図４（ｂ）に示した従来の平凸レンズ４０６の下面の２箇所を斜めにカットしたような形状になるが、そのカットする部分には、レーザ光通過領域Ｌ３が存在しないことから、カットした形状の台形底面凸レンズ２００を用いることができる。その結果、台形底面凸レンズ２００とウエハ４との間で近接する部分の面積を１／２以下に低減できた。
【００２８】
本発明では、図２（ａ）に示したように、従来の平凸レンズのフラットな下面を２箇所斜めにカットしたようなレンズを用いるが、これはウエハ上への照射領域が細長くなるスキャン型露光装置であるために適用できたレンズ形状である。すなわち、もしもステッパのように、最下レンズを通過するレーザ光の断面形状が一辺２２ｍｍ程度の正方形の場合は、最下レンズの直径は、その正方形の対角線である約３１ｍｍよりも僅かに大きい程度であるため、正方形の外部をカットしても、レンズとウエハとの近接領域の面積をそれほど低減できないからである。
【００２９】
次に、液体６の供給に関して図３を用いて説明する。図３（ａ）に示したように、液体６は、縮小投影光学系３の下部の横に取り付けられた吐出ノズル２１０ａ及び２１０ｂから供給される。例えば、ウエハ４が＋Ｙ方向にスキャンされる場合は、吐出ノズル２１０ａから液体６を吐出し、ウエハ４が−Ｙ方向にスキャンされる場合は、吐出ノズル２１０ｂから液体６を吐出すればよい。以上のように、本発明はスキャン型露光装置に適用するものであるため、吐出ノズルを、最下レンズの中心に対して、＋Ｙ方向と−Ｙ方向の、少なくとも２箇所に配置すればよい。
【００３０】
なお、本実施例のように、Ｆ２液浸光学系を適用する場合、ウエハ４上に塗布するレジストの特性として、液体６に対する濡れ性が一定の範囲内である必要がある。その理由としては、濡れ性が良過ぎると、液体６がウエハ４上に大きく広がってしまい、ウエハ４から溢れる恐れがある。一方、濡れ性が悪いと、液体６が台形底面凸レンズ２００とウエハ４との間を完全に満たさず、気体が入る恐れがある。したがって、濡れ性の範囲としては、ウエハ４上のレジスト表面における液体６の接触角が、１５度から６０度の範囲であることが望ましい。
【００３１】
また、露光光源であるフッ素レーザ装置（ただし図示していない。）に関しては、パルス動作の装置より、連続発振型の装置を用いる方が好ましい。連続発振型では、レーザ光のピークパワーがパルス型に比べて数桁も小さいことから、光子数密度が低く、液体６に対して２光子吸収を起こしにくい。その結果、液体６がほとんど劣化しないようになる。これに対して、パルスの場合は、２光子吸収により、液体６の分子構造が破壊されやすく、高価な液体６の再利用が困難になる。
【００３２】
ところで、図３（ａ）に示した実施例では、液体６を吸引する機構は付いていない。その理由としては、本発明では、特にレンズとウエハとの間隔が０．１ｍｍ以下と狭い場合に適用するものであるため、レンズとウエハとの間を満たすために必要な液体の体積が小さくなることから、液体を吸引しなくてもウエハから溢れ出さないようにできるからである。例えば、レンズとウエハとの間隔が５０ミクロンの場合、直径３００ｍｍのウエハ全面に液体が満たされるとしても、液体の体積は約３．５立方センチメートルと小さい。ただし、ウエハの周囲の淵に接した液体は、ウエハから外に溢れ出す場合があるが、その場合は、ウエハを載せるステージ面の形状として周囲に壁を立てて、溢れた液体がステージの移動部（例えばエアガイド部）にこぼれないようにすればよい。
【００３３】
なお、以上のように、ウエハ４の全面に満たされる液体６の体積は小さいため、図３（ａ）を参照して説明したように、吐出ノズル２１０ａと２１０ｂとによる液体６の吐出をスキャン方向によって必ずしも交互に動作させなくてもよい。すなわち、ウエハ４の全面を露光する間は、常時、吐出ノズル２１０ａと２１０ｂとから液体６を吐出させてもよい。これによって、液体の吐出制御機構が簡素化できる。
【００３４】
ところで、吐出ノズル２１０ａ及び２１０ｂの代わりに、図３（ｂ）に示したように、台形底面凸レンズ２００を底面から見た図のように液体を吸引できる機構を備えた吐出・吸引装置２１１を用いてもよい。吐出・吸引装置２１１には、吐出ノズル２１２と吸引ノズル２１３が、台形底面凸レンズ２００の中心に対して、＋Ｙ方向と−Ｙ方向に多数、交互に配置している。例えば、ウエハ４が＋Ｙ方向にスキャンされる場合は、−Ｙ方向（図で左側）の吐出ノズル２１２から液体６を吐出させ、＋Ｙ方向（図で右側）と上下に備えられた吸引ノズル２１３から液体を吸引するように動作させればよい。一方、ウエハ４が−Ｙ方向にスキャンされる場合は、以上と反対に、＋Ｙ方向（図で右側）の吐出ノズル２１２から液体６を吐出し、−Ｙ方向（図で左側）と上下に備えられた吸引ノズル２１３から液体を吸引するように動作させればよい。以上によって、台形底面凸レンズ２００の直下には、常に一定の体積の液体６が存在するようになる。なお、液体６が周囲に広がってウエハ４から溢れるのを防ぐには、吸引ノズル２１３における吸引圧力として、ウエハ４の周囲を満たす気体（なお、ここでは乾燥窒素が用いられている。）の圧力（ここでは１気圧）よりも低くすればよく、例えば、０．８気圧程度に設定しておけばよい。
【００３５】
即ち、移動方向における前記片側の反対側から液体を吸引する手段が設けられ、この吸引手段により、吸引圧力を前記光学部材周囲を満たす外部気体の圧力よりも低い圧力にしていることが判る。
【００３６】
これによって、吐出ノズル２１２から吐出して、台形底面凸レンズ２００の直下に満たされた液体６はウエハ４上で大きく広がることなく、吸引ノズル２１３から回収できる。したがって、回収された液体６を再利用することができる。ただし、再利用するには、液体をフィルタに通し、冷却する必要がある。
【００３７】
また、図３（ｂ）では吐出ノズル２１２と吸引ノズル２１３がＸＹ面内（すなわち水平面内）で交互に並んであるが、あるいはＺ方向（すなわち高さ方向）に２段重ねに配置させてもよい。
【００３８】
【発明の効果】
以上のように、本発明の液浸光学系を適用したスキャン型露光装置によると、縮小投影光学系の最下部とウエハとの近接部分の面積を従来の１／２以下に低減できる。したがって、ウエハを高速でスキャンさせても、近接部でも液体の移動が十分追従でき、近接部に気体が入り込むことはない。しかも、吐出ノズルをスキャン方向の前後に設けることで、スキャンにおける２つの方向のどちらにウエハを移動させても、常にレンズとの間を液体で満たすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のスキャン型露光装置１００の構成図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）、及び、（ｃ）はスキャン型露光装置１００における液浸光学系の構造を説明する図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は液浸光学系に液体を供給する液体供給機構を説明する断面図及び底面図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は従来の液浸光学系を説明する図である。
【符号の説明】
１ マスク
２ マスクステージ
２ａ Ｙステージ
３、４０１ 縮小投影光学系
４、４０２ ウエハ
５ ウエハステージ
５ａ ステージ台
５ｂ Ｘステージ
５ｃ Ｙステージ
６、４０４ 液体
４０５ 凸レンズ
１００ スキャン型露光装置
２００ 台形底面凸レンズ
２１０ａ、２１０ｂ 吐出ノズル
２１１ 吐出・吸引装置
２１２ 吐出ノズル
２１３ 吸引ノズル
４００ 従来の液浸光学系
４０３ ステージ
Ｌ１、Ｌ２ レーザ光
Ｌ３ レーザ光通過領域
Ｒ１、Ｒ２ 照射領域
Ｓ１、Ｓ２ スキャン方向
Ｓ３ ステップ方向

Claims (16)

1. 被露光基板を載置する支持体と、前記基板にマスクパターンを縮小投影する縮小投影光学系と、前記支持体と前記縮小投影光学系とを相対的に移動させる手段とを含むスキャン型露光装置において、前記縮小投影光学系における前記支持体に最も近い光学部材の前記支持体側の端面が一方向に長い形状の前記基板に実質的に平行な平坦面を有し、かつ露光処理中に前記平坦面を露光光が通過するようにする手段および少なくとも前記露光処理中に前記平坦面と前記基板との間を液体で満たす手段とをさらに有することを特徴とするスキャン型露光装置。
2. 被露光基板を載置する支持体と、前記基板にマスクパターンを縮小投影する縮小投影光学系と、前記支持体と前記縮小投影光学系とを相対的に移動させる手段とを含むスキャン型露光装置において、前記縮小投影光学系における前記支持体に最も近くかつ前記基板に近接して配される光学部材の前記支持体側の端面のうち少なくとも露光処理中に露光光が通過する領域と前記基板との間を液体で満たすように、前記移動方向の少なくとも片側から前記液体を吐出する手段を設けたことを特徴とするスキャン型露光装置。
3. 前記移動方向における前記片側の反対側からも前記液体を吐出させる手段をさらに設けたことを特徴とする請求項２記載のスキャン型露光装置。
4. 前記移動方向における前記片側の反対側から前記液体を吸引する手段をさらに設け、かつ前記吸引する手段は吸引圧力を、前記光学部材周囲を満たす外部気体の圧力よりも低い圧力にすることを特徴とする請求項２記載のスキャン型露光装置。
5. 前記吐出手段は、前記側において、前記液体の吐出口を一つまたは複数有することを特徴とする請求項２または３記載のスキャン型露光装置。
6. 前記吸引手段は、前記側において、前記液体の吸引口を一つまたは複数有することを特徴とする請求項４記載のスキャン型露光装置。
7. 前記液体の前記基板上に塗布されるべきレジスト表面に対する接触角が１５度以上６０度以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のスキャン型露光装置。
8. 被露光基板を支持体に載置し、前記基板にマスクパターンを縮小投影する露光光を縮小投影光学系先端の一方向に長い形状の領域から前記基板に投影させるとともに露光処理中に前記先端の少なくとも前記領域と前記基板との間に液体を供給することを特徴とするスキャン露光方法。
9. 被露光半導体基板を支持体に載置し、前記半導体基板にマスクパターンを縮小投影する露光光を縮小投影光学系先端の一方向に長い形状の領域から前記基板に投影させるとともに前記先端の少なくとも前記領域と前記基板との間に液体を供給しつつスキャン露光する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
10. 互いに対向する面を備えたレンズにおいて、前記対向する面の一方に、一方向に延びる細長い形状のフラット面が形成されていることを特徴とする光学レンズ。
11. 請求項１０において、前記フラット面は中央領域に設けられ、当該中央領域を挟む領域は斜めにカットされていることを特徴とする光学レンズ。
12. 請求項１０又は１１において、前記フラット面に対向する他方の面は凸型形状を有していることを特徴とする光学レンズ。
13. 請求項１０〜１２のいずれかにおいて、前記フラット面の幅及び長さは前記レンズを通して照射される照射領域の幅及び長さに対応付けられていることを特徴とする光学レンズ。
14. 請求項１０〜１３のいずれかに記載された前記光学レンズを縮小投影光学系の最下端に配置し、当該縮小投影光学系により基板を露光することを特徴とするスキャン型露光装置。
15. 請求項１４において、前記光学レンズと前記基板との間に液体を供給する手段を備えていることを特徴とするスキャン型露光装置。
16. 請求項１５において、前記液体を吸引する手段を備えていることを特徴とするスキャン型露光装置。

Images