JP2006313910A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルとその上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、該間隙に発生する可能性のある気泡を保持するように構成された気泡保持装置を前記間隙に設けて成るリソグラフィ装置。
2. 前記気泡保持装置が前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する複数の毛を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
3. 前記気泡保持装置が一つ以上の鋭い縁を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
4. 前記気泡保持装置の前記間隙が外部に向かって先細になっている請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
5. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する被覆を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
6. 前記被覆が粗面を有し、有効な前記接触角を大きくしている請求項５に記載されたリソグラフィ装置。
7. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙が存在し、
   前記間隙は、その長さ方向に亘って、複数の区画に分割されているリソグラフィ装置。
8. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、
   前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出するように構成された手段を含み、前記手段が前記間隙からガスを抽出するが液体は抽出しないように構成された膜を含むリソグラフィ装置。
9. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、
   前記間隙を充填するように、前記間隙が投影系へ移動する前に前記間隙に液体を供給するように構成された手段を含むリソグラフィ装置。
10. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するデバイス製造方法において、
    前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出することを含み、かつ
    前記間隙内の気泡が気泡保持装置によって前記間隙内で保持されるデバイス製造方法。
11. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する複数の毛を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
12. 前記気泡保持装置が一つ以上の鋭い縁を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
13. 前記気泡保持装置の前記間隙が外部に向かって先細になっている請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
14. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する被覆を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
15. 前記被覆が粗面を有し、有効な前記接触角を大きくしている請求項１４に記載されたデバイス製造方法。