JP2014207480A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダであって、
   表面を有する本体と、
   前記表面から突出し、基板を支持する端面をそれぞれ有する複数のバールと、
   前記本体表面の少なくとも一部に設けられた平坦化層と、
   前記平坦化層上に設けられ、電子コンポーネントを形成する薄膜スタックと、
   を備え、
   前記平坦化層は、前記本体上に形成された第１の副層と、前記第１の副層上に形成された第２の副層とを有し、前記第１の副層及び前記第２の副層はそれぞれ平坦化材料を含む第１の溶液及び第２の溶液を塗布することにより形成され、前記第１の溶液は前記平坦化材料の第１の濃度を有し、前記第２の溶液は前記平坦化材料の第２の濃度を有し、前記第１及び第２の濃度は異なる、
   基板ホルダ。
2. 前記複数の前記バールの少なくとも１つは、前記平坦化層の溶媒又は前駆物質を反発するように処理されている外面を有する、請求項１に記載の基板ホルダ。
3. 前記外面は、反発性材料の付与によって処理される、請求項２に記載の基板ホルダ。
4. 前記電子コンポーネントは、電極、ヒータ、センサ、トランジスタ及び論理デバイスからなる群から選択されるコンポーネントである、請求項１から３のいずれかに記載の基板ホルダ。
5. 前記電極は、使用時に静電クランプの電極である、請求項４に記載の基板ホルダ。
6. パターニングデバイスによってパターニングされたビームを基板に投影する投影システムと、
   前記基板を保持する請求項１から５のいずれかに記載の基板ホルダと、
   を備える、リソグラフィ装置。
7. リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダを製造する方法であって、
   表面を有する本体と、前記表面から突出し、基板を支持する端面をそれぞれ有する複数のバールとを設けること、
   前記本体上に第１の副層を形成し、前記第１の副層上に第２の副層を形成することにより、前記本体表面の少なくとも一部に平坦化層を形成することであって、前記第１の副層及び前記第２の副層はそれぞれ平坦化材料を含む第１の溶液及び第２の溶液を塗布することにより形成され、前記第１の溶液は前記平坦化材料の第１の濃度を有し、前記第２の溶液は前記平坦化材料の第２の濃度を有し、前記第１及び第２の濃度は異なる、ことと、
   前記平坦化層上に薄膜スタックを形成すること、
   を含む、方法。
8. 前記平坦化層を形成する前に、前記平坦化層の形成に使用される材料の溶媒又は前駆物質を反発するよう、前記複数のバールの前記表面を選択的に処理することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記複数のバールの前記表面の処理は、前記複数のバールに反発性材料を付与することを含む、請求項８に記載の方法。
10. リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダを製造する方法であって、
    表面を有する本体と、前記表面から突出し、基板を支持する端面をそれぞれ有する複数のバールとを設けること、
    前記本体表面の少なくとも一部に平坦化層を形成すること、及び
    前記平坦化層上に薄膜スタックを形成すること、
    を含み、
    前記平坦化層を形成する前に、前記平坦化層の溶媒又は前駆物質を反発するよう、前記複数のバールを処理する工程をさらに含む、
    方法。
11. 前記複数のバールを処理する工程は、
    前記基板ホルダの上面全体に、放射感応性材料を塗布すること、
    前記複数のバール上の前記放射感応性材料を放射に露光し、現像すること、
    連続層を形成するように、前記基板ホルダの上面全体に反発性材料を付与すること、
    前記反発性材料が少なくとも前記複数のバールのそれぞれを完全に覆うように、残りの前記放射感応性材料をその上の前記反発性材料とともに除去すること、
    を含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記複数のバールを処理する工程は、前記複数のバールに反発性材料を付与するためにインクジェットプリンタを使用する、又は前記反発性材料として疎水性ステッカを使用する、
    請求項１０又は１１に記載の方法。
13. リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
    請求項７〜１２のいずれかに記載の方法を使用して基板を保持するための基板ホルダを提供する工程と、
    前記基板ホルダにおいて前記基板を保持した状態で、パターニングデバイスによりパターン化されたビームを前記基板に投影する工程と、
    を有するデバイス製造方法。