JP2010161319A - 静電吸着保持装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第2静電吸着保持装置34は、支持面41を有する基体40を備え、基体40の支持面41側には、ウエハWを支持するための複数の凸状の支持部49が設けられている。また、第2静電吸着保持装置34は、誘電材料で構成される誘電部材42を備え、該誘電部材42は、支持面41上であって、且つ各支持部49の間に設けられている。また、誘電部材42内には、複数の第1電極部44及び複数の第2電極部46が設けられている。そして、各電極部44,46に電圧が印加されると、ウエハWは、誘電部材42がクーロン力を発揮することにより、基体40に静電吸着される。
【選択図】図3
Description
本発明の静電吸着保持装置は、被吸着物(R、W)を保持する静電吸着保持装置(25、34)であって、前記被吸着物(R、W)を支持する複数の凸状の支持部(49,60)が設けられた支持面(41)を有する基体(40)と、前記支持面(41)上で、且つ前記複数の凸状の支持部(49,60)の間に設けられ、誘電性材料で構成される誘電部材(42)と、該誘電部材(42)に設けられる電極部(44,46)と、を備えることを要旨とする。
さて、各第1電極部44及び各第2電極部46に各印加部43,45から電圧がそれぞれ印加されると、誘電部材42からはクーロン力が発生する。すると、誘電部材42で発生されるクーロン力が吸着力として機能することにより、ウエハWにおいて誘電部材42の表面42bに対向する部位が誘電部材42側に引き寄せられる。その結果、各支持部49の先端49aにウエハWの裏面が支持された状態で、基体40、即ち第2静電吸着保持装置34にウエハWが静電吸着される。この際、ウエハWは、誘電部材42の表面42bに接触していない。
(1)基体40の支持面41側には、複数の凸状の支持部49が形成されている。また、支持面41上には、内部に各第1電極部44及び各第2電極部46を有する誘電部材42が各支持部49の間に介在されている。そのため、各第1電極部44及び各第2電極部46に電圧がそれぞれ印加される場合、誘電部材42からクーロン力が発生し、複数の支持部49の先端49aにウエハWが支持された状態で、基体40に静電吸着される。したがって、各第1電極部44及び各第2電極部46が基体40内に配置される従来の場合に比して、各第1電極部44及び各第2電極部46がウエハWに接近するように配置される分、ウエハWを静電吸着する吸着力を強力にすることができる。
・実施形態において、第2本体部48は、ウエハWと接触した際に脱粒しにくい材料であれば、任意の材料から構成されるものであってもよい。例えば、第2本体部48は、イットリア(Y2O3)の結晶粒子を緻密に製膜したものであってもよい。
・実施形態において、ウエハWを支持するための支持部は、図6に示すように、X軸方向に沿って延びるリブ60であってもよい。この場合、誘電部材42においてリブ60に対応する各位置には、リブ60が貫通する貫通孔51Aがそれぞれ形成されることになる。
・実施形態において、Y軸方向において互いに隣り合う支持部列50の間の各位置には、第1電極部44及び第2電極部46をそれぞれ配置してもよい。この場合、第1電極部44及び第2電極部46を、Y軸方向において互いに隣接するように配置してもよいし、X軸方向において互いに隣接するように配置してもよい。
・実施形態において、露光装置11は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置11は、液晶表示素子(LCD)などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びCCD等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。
・実施形態において、EUV光を出力可能な光源装置12として、放電型プラズマ光源を有する光源装置であってもよい。
ステップS111(酸化ステップ)おいては、基板の表面を酸化させる。ステップS112(CVDステップ)においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップS113(電極形成ステップ)においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップS114(イオン打込みステップ)においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップS111〜ステップS114のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (13)
- 被吸着物を保持する静電吸着保持装置であって、
前記被吸着物を支持する複数の凸状の支持部が設けられた支持面を有する基体と、
前記支持面上で、且つ前記複数の凸状の支持部の間に設けられ、誘電性材料で構成される誘電部材と、
該誘電部材に設けられる電極部と、を備えることを特徴とする静電吸着保持装置。 - 前記支持面の面積に対する前記複数の凸状の支持部の先端の面積の合計の面積比率は、0.1%以上であって且つ50%以下に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の静電吸着保持装置。
- 互いに隣り合う前記凸状の支持部の先端の間隔は、3mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の静電吸着保持装置。
- 前記複数の凸状の支持部の高さは、100μm以上であって且つ500μm以下にそれぞれ設定されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。
- 前記誘電部材は、前記基体に対向する裏面と、該裏面の反対側に位置する表面とを有し、
前記凸状の支持部の先端と前記誘電部材の前記表面との間隔は、20μm以上であって且つ100μm以下に設定されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。 - 前記電極部は、前記誘電部材の前記裏面と前記表面との間に設けられていることを特徴とする請求項5に記載の静電吸着保持装置。
- 前記誘電部材は、薄板状に形成され、
前記誘電部材は、前記複数の凸状の支持部が貫通する貫通孔を有することを特徴とする請求項1〜請求項6のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。 - 前記複数の凸状の支持部は、第1の方向及び前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って配列されており、
前記電極部は、前記凸状の支持部の間に配置され、且つ前記第1の方向に沿って延びるように形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項7のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。 - 前記電極部は、正の電荷が供給される第1電極部と、負の電荷が供給される第2電極部とを有し、
前記第1電極部及び前記第2電極部は、前記第2の方向に沿って交互に配置されていることを特徴とする請求項8に記載の静電吸着保持装置。 - 前記複数の凸状の支持部は、前記支持面上の第1の方向に沿って延びるリブであり、前記複数の凸状の支持部は、前記支持面上で前記第1の方向と交差する第2の方向に沿ってそれぞれ配置されており、
前記電極部は、前記凸状の支持部の間に配置され、且つ前記第1の方向に沿って延びるように形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項7のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。 - 前記基体は、第1本体部と、該第1本体部上に積層される第2本体部と、を有し、
前記複数の凸状の支持部は、前記第2本体部において前記第1本体部の反対側にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1〜請求項10のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置。 - 所定のパターンが形成されたマスクに放射ビームを導く照明光学系と、
前記マスクを介した放射ビームを感光性材料が塗布された基板に照射する投影光学系と、
前記マスク及び前記基板のうち少なくとも一方を前記被吸着物として保持する、請求項1〜請求項11のうち何れか一項に記載の静電吸着保持装置と、を備えることを特徴とする露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は、請求項12に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
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