JP2015518659A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダであって、
   表面を有する本体と、
   前記表面から突出する複数のバールであって、基板を支持する端面を有する複数のバールと、
   電気コンポーネントを形成する、前記本体の表面上の薄膜スタックであって、導電層を含み、前記導電層は、該導電層が位置決めされる前記スタックの平面の全体にわたって実質的に均一に電荷を分散させ、前記薄膜スタックは、前記本体の表面上に形成された平坦化層を含み、前記本体の表面の粗さが前記平坦化層によって埋められて、前記本体の表面よりも実質的に平滑な面であって、薄膜コンポーネントを形成するために金属層又は他の層を確実に形成するための実質的に平滑な面を提供する、薄膜スタックと、を備える基板ホルダ。
2. 前記導電層は、平面視で、パターン形成されない、請求項１に記載の基板ホルダ。
3. 前記導電層は、平面視で、前記スタックの実質的に全領域にわたって延在する、請求項１又は２に記載の基板ホルダ。
4. 前記導電層は金属層である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
5. 前記平坦化層は前記導電層を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
6. 前記薄膜スタックは、前記導電層と前記平坦化層との間に絶縁層を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
7. 少なくとも前記導電層に隣接する層は絶縁層である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
8. 前記導電層は前記本体に電気的に接続される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
9. 前記導電層は浮動電極である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
10. 前記薄膜スタックは、電極層であるさらなる導電層をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
11. 前記電極層及び前記導電層は絶縁層によって分離される、請求項１０に記載の基板ホルダ。
12. 前記電極は、使用中、静電クランプの電極である、請求項１１に記載の基板ホルダ。
13. パターニングデバイスを支持するサポート構造と、
    前記パターニングデバイスによってパターン形成されたビームを基板上に投影する投影システムと、
    前記基板を保持する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板ホルダと、を備えるリソグラフィ装置。
14. リソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
    基板ホルダ内又は基板ホルダ上に基板を保持している間に、パターニングデバイスによってパターン形成されたビームを前記基板上に投影することを含み、前記基板ホルダは、
    表面を有する本体と、
    前記表面から突出する複数のバールであって、基板を支持する端面を有する複数のバールと、
    電気コンポーネントを形成する、前記本体の表面上の薄膜スタックであって、導電層を含み、前記導電層は、該導電層が位置決めされる前記スタックの平面の全体にわたって実質的に均一に電荷を分散させ、前記薄膜スタックは、前記本体の表面上に形成された平坦化層を含み、前記本体の表面の粗さが前記平坦化層によって埋められて、前記本体の表面よりも実質的に平滑な面であって、薄膜コンポーネントを形成するために金属層又は他の層を確実に形成するための実質的に平滑な面を提供する、薄膜スタックと、を備える、デバイス製造方法。
15. リソグラフィ装置で使用する基板ホルダであって、
    表面を有する本体と、
    前記表面から突出する複数のバールであって、基板を支持する端面を有する複数のバールと、
    電気コンポーネントを形成する、前記本体の表面上の薄膜スタックあって、平面視で前記スタックの実質的に全領域にわたって延在する導電層を含み、前記本体の表面に形成された平坦化層を含む、薄膜スタックと、を備える基板ホルダ。