JP2015062259A5 - 基板洗浄システムおよび基板洗浄方法 - Google Patents

Description

開示の実施形態は、基板洗浄システムおよび基板洗浄方法に関する。

実施形態の一態様は、パターン倒れや下地膜の侵食を抑えつつ、基板に付着したパーティクルを除去することのできる基板洗浄システムおよび基板洗浄方法を提供することを目的とする。

実施形態の一態様に係る基板洗浄システムは、第１処理部と、第２処理部と、加熱部とを備える。第１処理部は、基板を保持する第１保持部と、揮発成分を含み基板の主面全面に膜を形成するための樹脂を含む処理液を基板へ供給する第１供給部とを含む。第２処理部は、基板を保持する第２保持部と、第１供給部によって基板に供給された処理液から揮発成分が揮発することによって基板上で固化または硬化して形成された膜の全てを溶解させる除去液を基板へ供給する第２供給部とを含む。加熱部は、処理液に含まれる樹脂の硬化を促進させるために膜が形成される基板を加熱する。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板洗浄システムおよび基板洗浄方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。

Claims (10)

1. 基板を保持する第１保持部と、揮発成分を含み前記基板の主面全面に膜を形成するための樹脂を含む処理液を前記基板へ供給する第１供給部とを含む第１処理部と、
   前記基板を保持する第２保持部と、前記第１供給部によって前記基板に供給された前記処理液から前記揮発成分が揮発することによって前記基板上で固化または硬化して形成された膜の全てを溶解させる除去液を前記基板へ供給する第２供給部とを含む第２処理部と、
   前記処理液に含まれる樹脂の硬化を促進させるために前記膜が形成される基板を加熱する加熱部と
   を備えることを特徴とする基板洗浄システム。
2. 前記加熱部は、
   前記第１処理部に含まれること
   を特徴とする請求項１に記載の基板洗浄システム。
3. 前記加熱部は、
   前記第１保持部により保持される基板の上方又は下方に設けられたヒータであること
   を特徴とする請求項２に記載の基板洗浄システム。
4. 前記第１保持部は、
   前記基板を吸着保持する吸着保持部であり、
   前記ヒータは、
   前記吸着保持部に設けられること
   を特徴とする請求項３に記載の基板洗浄システム。
5. 前記加熱部は、
   前記第１保持部により保持される基板の上方に設けられたＵＶランプであること
   を特徴とする請求項２に記載の基板洗浄システム。
6. 前記加熱部は、
   前記第１保持部により保持される基板の上方に設けられ、高温の流体を供給するノズルであること
   を特徴とする請求項２に記載の基板洗浄システム。
7. 前記加熱部は、
   前記第２処理部に含まれること
   を特徴とする請求項１に記載の基板洗浄システム。
8. 前記加熱部は、
   前記第２保持部により保持される基板の下方から高温の流体を供給する流体供給部であること
   を特徴とする請求項７に記載の基板洗浄システム。
9. 前記加熱部は、
   前記第１処理部及び前記第２処理部とは異なる第３処理部に設けられること
   を特徴とする請求項１に記載の基板洗浄システム。
10. 基板を保持する第１保持部を用いて、前記基板を保持する第１保持工程と、
    前記第１保持部に保持された前記基板に対して、揮発成分を含み前記基板の主面全面に膜を形成するための樹脂を含む処理液を供給する第１供給工程と、
    前記処理液に含まれる樹脂の硬化を促進させるために前記膜が形成される基板を加熱する加熱工程と、
    前記基板を保持する第２保持部を用いて、前記第１供給工程後の前記基板を保持する第２保持工程と、
    前記処理液から前記揮発成分が揮発することによって前記基板上で固化または硬化して形成された膜の全てを溶解させる除去液を前記基板へ供給する第２供給工程と
    を含むことを特徴とする基板洗浄方法。