JP4376718B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び基板 - Google Patents
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Description
前記露光波長の放射に対して少なくとも部分的に透過性である非感放射線性被覆材料の層で、前記基板を少なくとも部分的に被覆するように構成された被覆形成器であって、前記非感放射線性被覆材料の層が、前記投影ビームの経路内で前記感放射線性材料の層の前に配置され、被覆手段が、前記露光波長より大きい厚さに前記非感放射線性被覆材料の層を塗布する被覆形成器を備える装置が提供される。
前記露光波長の放射に対して少なくとも部分的に透過性である非感放射線性被覆材料の層が、前記標的部分に塗布され、前記非感放射線性材料の層が、前記投影ビームの経路内で前記感放射線性材料の層の前に配置され、前記非感放射線性被覆材料の層が、前記露光波長より大きい厚さを有する方法が提供される。
基板と、リソグラフィ投影装置の投影システムの少なくとも一部分との間に浸漬液を供給するステップであって、非感放射線性材料が前記基板によって担持され、前記非感放射線性材料が、放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、また、前記浸漬液と異なる材料からなるものであり、前記非感放射線性材料が、前記基板の感放射線性層の少なくとも一部を覆って設けられるステップと、
前記浸漬液を介して、前記投影システムを使用して前記基板の標的部分上にパターン形成された放射ビームを投影するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
基板と、リソグラフィ投影装置の投影システムの少なくとも一部分との間に、前記基板上の非感放射線性材料に浸漬液を供給するステップであって、放射に対して少なくとも部分的に透過性である前記非感放射線性材料が、前記基板の感放射線性層の少なくとも一部を覆って設けられ、感放射線性層上に入射するパターン形成されたビームの質に対する前記浸漬液中の気泡及び粒子のうち少なくとも1つの作用を実質的に低減するのに有効な厚さを有するステップと、
前記浸漬液を介して、前記投影システムを使用して前記基板の標的部分上にパターン形成された放射ビームを投影するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
放射線(例えば、UV放射線)の投影ビームPBを供給するための照明システム(イルミネータ)IL。
投影システムPLに対してパターン形成デバイスを正確に位置決めするための第1の位置決めデバイスPMに接続された、パターン形成デバイス(例えば、マスク)MAを保持するための第1の支持構造(例えば、マスク・テーブル)MT。
投影システムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決めデバイスPWに接続された、基板W(例えば、レジスト被覆されたウェハ)を保持するための第2のテーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WT。
パターン形成デバイスMAによって投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの(例えば、1つ又は複数のさいの目形を含む)標的部分C上に結像するための投影システム(例えば、屈折投影レンズ系)PL。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが本質的に静止したままであり、投影ビームに与えられたパターン全体が標的部分C上に1回(すなわち、1回の静止露光)で投影される。次いで、基板テーブルWTがX及び/又はY方向でシフトされ、その結果、異なる標的部分Cを露光することができる。ステップ・モードでは、露光領域の最大サイズにより、1回の静止露光で結像される標的部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期して走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンが標的部分C上に投影される(すなわち、1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの(縮小)倍率と映像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光領域の最大サイズにより、1回の動的露光における標的部分の(非走査方向での)幅が制限され、一方、走査運動の長さにより、標的部分の(走査方向での)高さが決定される。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTが、プログラム可能なパターン形成デバイスを保持して本質的に静止したままであり、投影ビームに与えられたパターンが標的部分C上に投影されている間に、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、基板テーブルWTの各移動の後で、又は走査中、連続する放射パルスの間で、必要に応じてプログラム可能なパターン形成デバイスが更新される。この動作モードは、プログラム可能なミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン形成デバイスを使用するマスク不要のリソグラフィに容易に適用することができる。
BD ビーム送達システム
BS ビーム・スプリッタ
C 標的部分
CO コンデンサ
D 距離
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN 注入口
IN インテグレータ
M1 マスク位置合わせマーク
M2 マスク位置合わせマーク
MA パターン形成デバイス(マスク)
MT 第1の支持構造(マスク・テーブル)
OUT 吸入口
P1 基板位置合わせマーク
P2 基板位置合わせマーク
PB 投影ビーム
PL 投影システム
PM 第1の位置決め手段
PW 第2の位置決めデバイス
SO 放射源
W 基板
WT 第2のテーブル(ウェハ・テーブル)
2 レジストの層
3 保護材料の層
4 被覆
5 蒸発防止層
10 貯溜部
12 封止部材
14 第1の吸入口
15 ガス注入口
22 感放射線性材料の層
23 保護材料の層
24 上部被覆
25 気泡及び/又は粒子
Claims (9)
- 露光波長を有する投影ビームを使用して、感放射線性材料の層又は基板にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、
前記露光波長に対して少なくとも部分的に透過性であり、かつ、前記投影ビームが通過するとき当該投影ビームの波長が減少されるような屈折率をもつ非感放射線性被覆材料の層で、前記基板を少なくとも部分的に被覆し、さらに前記非感放射線性被覆材料が蒸発するのを防止するために、前記非感放射線性被覆材料を蒸発防止材料で少なくとも部分的に覆うように構成された被覆形成器であって、前記非感放射線性被覆材料の層が、前記投影ビームの経路内で前記感放射線性材料の層の前に配置され、前記被覆形成器が、前記露光波長より大きい厚さに前記非感放射線性被覆材料の層を塗布する被覆形成器を備える装置。 - 前記被覆形成器がさらに、前記基板を前記非感放射線性被覆材料で被覆する前に、前記感放射線性材料の層を保護するために、前記基板を保護材料で少なくとも部分的に被覆するように構成される、請求項1に記載の装置。
- 前記非感放射線性被覆材料が、実質的に水である、請求項1に記載の装置。
- 感放射線性材料の層によって少なくとも部分的に覆われた基板の標的部分上に、露光波長を有するパターン形成された投影ビームを投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記露光波長の放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、かつ、前記投影ビームが通過するとき当該投影ビームの波長が減少されるような屈折率をもつ非感放射線性被覆材料の層を、前記標的部分に塗布するステップと、
前記非感放射線性被覆材料が蒸発するのを防止するための蒸発防止材料の層を、前記非感放射線性被覆材料の層上に少なくとも部分的に塗布するステップと、を有し、
前記非感放射線性材料の層が、前記投影ビームの経路内で前記感放射線性材料の層の前に配置され、前記非感放射線性被覆材料の層が、前記露光波長より大きい厚さを有する方法。 - 前記非感放射線性被覆材料の層を塗布する前に、前記感放射線性材料の層を保護するための保護材料の層を前記基板に少なくとも部分的に塗布するステップをさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 前記非感放射線性被覆材料が、実質的に水である、請求項4に記載の方法。
- 露光波長を有する投影ビームの放射に対して感応性のある感放射線性材料の層によって少なくとも部分的に覆われた、リソグラフィ投影装置内で使用するための基板であって、
前記露光波長の放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、かつ、前記投影ビームが通過するとき当該投影ビームの波長が減少されるような屈折率をもつ非感放射線性被覆材料の層で少なくとも部分的に覆われており、さらに、前記非感放射線性被覆材料が蒸発するのを防止するために、前記非感放射線性被覆材料の層上を蒸発防止材料の層で少なくとも部分的に被覆されており、
前記非感放射線性材料の層が、前記投影ビームの経路内で前記感放射線性材料の層の前に配置され、前記非感放射線性被覆材料の層が、前記露光波長より大きい厚さを有する基板。 - さらに、前記感放射線性材料の層を保護するための保護材料の層で少なくとも部分的に被覆され、前記保護材料の層が、前記感放射線性材料と前記非感放射線性被覆材料の間に配置される、請求項7に記載の基板。
- 前記非感放射線性被覆材料が、実質的に水である、請求項7に記載の基板。
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