JP4077849B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関するものである。

リソグラフィ装置は、基板上（通常は、基板の目標部分）に、所望パターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使うことができる。その場合、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターン付与装置を用いてＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを作ってもよい。このパターンを、基板（例えば、シリコンウエハ）上の目標部分（例えば、一つまたは幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は、典型的には、基板上に設けた放射線感応材料（レジスト）の層への結像による。一般に、単一基板は、順次パターン化される互いに隣接する目標部分から成るネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、全パターンを目標部分に一度に露光することによって各目標部分を照射するステッパと、パターンを放射線ビームによって、与えられた方向（走査方向）に走査して各目標部分を照射し、一方、前記方向と平行または反平行方向に同期して基板を走査するスキャナとがある。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターン付与装置から基板にパターンを転写することもできる。

リソグラフィ投影装置において、投影系の最終部材と基板との間のスペースを埋めるように、比較的高屈折率の液体（例えば、水）に基板を浸漬することが提案されている。この趣旨は、液体中で露光放射線の波長が短かくなり、より小さなフィーチャーの結像が可能になることである。この液体効果は、投影系の大きな有効ＮＡの使用を可能にし、かつ、焦点深度を増大すると見做してもよい。固体粒子（例えば、石英）を懸濁させた水を含む、その他の浸漬液が提案されている。

しかし、基板または基板と基板テーブルを液体浴に浸漬することは（例えば、米国特許第４５０９８５２号公報参照。その全記載内容を引用によって本明細書の記載として援用する）、走査露光中に加速すべき大きな液体塊のあることを意味する。このことが、追加のモータ、または、より強力なモータを要し、液体中の乱流が望ましからざる且つ予測できない影響に繋がる可能性がある。

提案された解決策の一つは、液体供給系が、液体閉込め装置を用いて、投影系の最終部材と基板の間で、基板の局所領域のみに液体を付与することである（一般に、基板は投影系の最終部材よりも表面積が大きい）。そのために提案された一つの方法が、ＷＯ９９／４９５０４に開示されている（その全記載内容を引用によって本明細書の記載として援用する）。図２、図３に示すように、少なくとも一つの入口ＩＮによって、好ましくは最終部材に対する基板の運動方向に沿って、基板上に液体が供給され、投影系の下を通過した後少なくとも一つの出口ＯＵＴによって液体が排除される。すなわち、基板を最終部材の下で−Ｘ方向に走査するとき、液体は、最終部材の＋Ｘ側に供給され、−Ｘ側で吸引される。図２は、かかる構成を模式的に示しており、入口ＩＮから液体が供給され、最終部材の反対側で低圧源に結合された出口ＯＵＴによって液体が吸引される。図２の例では、最終部材に対する基板の運動方向に沿って液体が供給されるが、そうである必要はない。最終部材の周りに位置する種々の方向、および、種々の数の入口、出口が可能であり、一例が図３に示されており、両側に出口のある４組の入口が最終部材の周りに規則的パターンで配設されている。

浸漬リソグラフィ装置を用いて製造したデバイスの欠陥の重要な原因は、浸漬液中の気泡であり、それらが、気泡のサイズおよび位置によって、線量変動および画像歪みが生じ得る。従って、投影ビームの経路に気泡が入ることを防ぐことが極めて望ましい。気泡の主な発生源は、基板テーブルの円滑な上面（ミラーブロック）にある間隙（例えば、センサユニット、基準板および基板周囲の間隙）であろう。そのような間隙が、液体供給系（液体閉込め構造体）を通過する時、それらが完全には充填されないかも知れず、また、後に残されたガスが気泡を作るかも知れない。次いで、その気泡が間隙から投影系と基板の間のスペースの中に上昇するかも知れない。

したがって、例えば、基板テーブルの上面の間隙に生じた気泡がデバイスの生産で画像欠陥が生じないようにするための一つ以上の構造を設けることが有利だろう。

本発明一観点によれば、液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルとその上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、該間隙に発生する可能性のある気泡を保持するように構成された気泡保持装置を前記間隙に設けて成るリソグラフィ装置が提供される。

本発明の別の観点によれば、液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙が存在し、前記間隙は、その長さ方向に亘って、複数の区画に分割されているリソグラフィ装置が提供される。

本発明の別の観点によれば、液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出するように構成された手段を含むリソグラフィ装置が提供される。

本発明の別の観点によれば、液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、前記間隙に液体を供給するように構成された手段を含むリソグラフィ装置が提供される。

本発明の別の観点によれば、液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するデバイス製造方法において、前記基板テーブルの表面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルと、その上に設けた、通常使用時に前記液体と接触することになる別の部品との間に間隙があり、前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出することを含み、かつ前記間隙内の気泡が気泡保持装置によって前記間隙内で保持されるデバイス製造方法が提供される。

次に、添付の模式図を見ながら、単なる例として、本発明の実施例について説明する。図中、参照符号は対応する部品を指す。

図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、
放射線ビームＰＢ（例えば、ＵＶ放射線またはＤＵＶ放射線）を調整するように構成された照明系（照明器）ＩＬと、
パターン付与装置（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構成され、かつ、パターン付与装置を或るパラメータに従って正確に位置決めするように構成された第１位置決め装置ＰＭに結合された支持構造体（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、
基板（例えば、レジスト被覆されたウエハ）Ｗを保持するように構成され、かつ、基板を或るパラメータに従って正確に位置決めするように構成された第２位置決め装置ＰＷに結合された基板テーブル（例えば、ウエハテーブル）ＷＴと、
パターン付与装置ＭＡによって放射線ビームＰＢに与えたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、一つ以上のダイを含む）に投影するように構成された投影系（例えば、屈折性投影レンズシステム）ＰＬとを含む。

この照明系は、放射線を方向付け、整形し、または、制御するための、屈折式、反射式、磁気式、電磁式、静電式またはその他の種類の光学部品、または、それらの任意の組合せ等の、各種型式の光学部品も含むだろう。

この支持構造体は、パターン付与装置の向き、リソグラフィ装置の設計、および、その他の条件（例えば、パターン付与装置が真空環境内で保持されているか否か等）に依存する態様で、パターン付与装置を保持する。支持構造体は、機械式、真空式、静電式、または、その他のクランプ技術を用いてパターン付与装置を保持することができる。支持構造体は、例えば、フレームまたはテーブルでもよく、それらは必要に応じて固定式または可動式でもよい。支持構造体は、パターン付与装置が、例えば投影系に対して、所望位置にあることを保証できる。本明細書で用いる用語「レチクル」または「マスク」は、より一般的な用語である「パターン付与装置」と同義であると考えてよい。

本明細書で用いる用語「パターン付与装置」は、基板の目標部分にパターンを作るべく、放射線ビームの断面にパターンを与えるために用いることのできる手段を指すものとして広く解釈すべきである。放射線ビームに付与されたパターンは、例えば、このパターンが位相シフト・フィーチー、または、所謂補助フィーチャーを含む場合、基板目標部分の所望パターンと正確には一致しない可能性のあることに留意すべきである。一般に、放射線ビームに付与されたパターンは、集積回路の等の目標部分に作られるデバイスの特別な機能層に対応するだろう。

パターン付与装置は透過性でも反射性でもよい。パターン付与装置の例は、マスク、プログラム可能なミラーアレイ、および、プログラム可能なＬＣＤパネルを含む。マスクは、リソグラフィでよく知られ、バイナリー型、交互位相シフト型、および、減衰位相シフト型等のマスク型、および各種ハイブリッドマスク型を含む。プログラム可能なミラーアレイの一例は、小型ミラーのマトリックス配置を用い、入射放射線ビームを異なる方向に反射するようにその各々を個々に傾斜させることができる。これらの傾斜ミラーが、ミラーマトリックスによって反射された放射線ビームにパターンを与える。

本明細書で用いる用語「投影系」は、使用する露光放射線に対して、または、浸漬液の使用または真空の使用の等の、その他の要因に対して、適宜、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁式および静電式光学系、または、その任意の組合せを含む、あらゆる型式の投影系を包含するように広く解釈すべきである。本明細書で用いる用語「投影レンズ」は、より一般的な用語である「投影系」と同義であると考えてよい。

本明細書で説明されるとおり、リソグラフィ装置は、透過型（例えば、透過性のマスクを用いる）である。代替的に、リソグラフィ装置は、反射型（例えば、上で述べた種類のプログラム可能なミラーアレイを用いるか、または、反射性マスクを用いる）であってもよい。

リソグラフィ装置は、二つ（二段）以上の基板テーブル（および／または二つ以上のマスクテーブル）を有する型式でもよい。そのような多段機械では、追加のテーブルを並行して用いてもよく、或いはまた、準備工程を一つ以上のテーブルで行い、別の一つ以上のテーブルを露光用に用いてもよい。

図１において、照明器ＩＬは、放射線源ＳＯから放射線ビームを受ける。放射線源とリソグラフィ装置は、例えば、放射線源がエキシマレーザである時、別体であってもよい。そのような場合、放射線源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射線は、放射線源ＳＯから、例えば適当な方向づけミラー、および／または、ビーム・エキスパンダーを含むビーム供給系ＢＤによって、照明器ＩＬに送られる。その他の場合、例えば、線源が水銀灯であるとき、線源がこの装置の一部分であってもよい。放射線源ＳＯと照明器ＩＬは、もし必要ならビーム供給系ＢＤと共に、放射系と呼んでもよい。

照明器ＩＬは、放射線ビームの角強度分布を調整するための調整装置ＡＤを含んでもよい。一般に、照明器の瞳面での強度分布の少なくとも外側および／または内側半径方向範囲（普通、それぞれ、外側σ（シグマ）および内側σ（シグマ）と呼ぶ）を調整できる。その上、照明器ＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯのような、種々のその他の部品を含んでもよい。照明器は、放射線ビームを調節して、その断面に所望の均一性および強度分布を有するように使用できる。

放射線ビームＰＢは、支持構造体（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターン付与装置（例えば、マスクＭＡ）に入射し、このパターン付与装置によってパターン化される。マスクＭＡを横断してから、放射線ビームＰＢは、投影系ＰＬを通過し、それがこのビームを基板Ｗの目標部分Ｃ上に集束する。第２位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計測装置、線形エンコーダまたは容量式センサ）を用いて、基板テーブルＷＴを、例えば、異なる目標部分ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動かすことができる。同様に、例えば、マスクライブラリから機械的に検索してから、または走査中に、第１位置決め装置ＰＭおよびもう一つの位置センサＩＦ（図１にはっきりとは示さず）を用いてマスクＭＡを放射線ビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１位置決め装置ＰＭの一部を形成する、長ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロークモジュール（微小位置決め）を用いて実現してもよい。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２位置決め装置ＰＷの一部を形成する、長ストロークモジュールおよび短ストロークモジュールを用いて実現してもよい。ステッパの場合は、スキャナと違って、マスクテーブルＭＴを短ストロークアクチュエータに結合するだけでもよく、または固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク整列マークＭ_１、Ｍ_２および基板整列マークＰ_１、Ｐ_２を用いて整列してもよい。図示する基板整列マークは、専用の目標部分を占めるが、それらは目標部分の間のスペースにあってもよい（それらは、スクライブレーン整列マークとして知られる）。同様に、マスクＭＡ上に二つ以上のダイを設けてある場合は、マスク整列マークがダイ間にあってもよい。

図示の装置は、以下のモードの少なくとも一つで使うことができる。
１．ステップモードでは、放射線ビームに与えた全パターンを目標部分Ｃ上に一度に（すなわち、単一静的露光で）投影する間、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルＷＴをＸおよび／またはＹ方向に移動して異なる目標部分Ｃを露光できるようにする。ステップモードでは、露光領域の最大サイズが単一静的露光で結像する目標部分Ｃのサイズを制限する。
２．走査モードでは、放射線ビームの与えたパターンを目標部分Ｃ上に投影（すなわち、単一動的露光）しながら、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期して走査する。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影系ＰＬの（縮）倍率および画像反転特性によって決る。走査モードでは、露光領域の最大サイズが単一動的露光での目標部分の幅（非走査方向の）を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の高さ（走査方向の）を決める。
３．別のモードでは、プログラム可能なパターン付与装置を保持するマスクテーブルＭＴを本質的に固定し、放射線ビームに与えたパターンを目標部分Ｃ上に投影しながら、基板テーブルＷＴを動かしまたは走査する。このモードでは、一般にパルス化した放射線源を使用し、プログラム可能なパターン付与装置を基板テーブルＷＴの各運動後または走査中の連続する放射線パルスの間に必要に応じて更新する。この作動モードは、上に言及した型式のプログラム可能なミラーアレイ等の、プログラム可能なパターン付与装置を利用するマスクなしリソグラフィに容易に適用できる。

前記使用モードの組合せおよび／または変形または全く異なった使用モードを用いてもよい。

局所液体供給系を有する別の浸漬リソグラフィ解決策を図４に示す。液体は、投影系ＰＬの両側の二つの溝入口ＩＮによって供給され、これらの入口ＩＮの半径方向に外側に配置された複数の不連続出口ＯＵＴによって排除される。入口ＩＮおよび出口ＯＵＴは、中央に孔のある板に配列することができ、中央の孔を通して投影ビームを投射できる。液体は、投影系ＰＬの片側の一つの溝入口ＩＮによって供給され、投影系ＰＬの他側の複数の個別出口ＯＵＴによって排除され、もって、投影系ＰＬと基板Ｗの間に液体薄膜の流れが生じる。入口ＩＮと出口ＯＵＴのどの組合せを用いるかの選択は、基板Ｗの移動方向に依存できる（入口ＩＮと出口ＯＵＴのその他の組合せは不作動である）。

提案された局所液体供給系解決策を有する別の浸漬リソグラフィ解決策は、投影系の最終部材と基板テーブルとの間のスペースの境界の少なくとも一部に沿って延在する液体閉込め構造体を有する液体供給系を設けることである。そのような解決策を図５に示す。液体閉込め構造体は、Ｚ方向（光軸方向）で多少の相対運動があるかも知れないが、ＸＹ平面では投影系に対して実質的に静止している。或る例では、液体閉込め構造体と基板表面の間にシールを作る。或る例で、このシールは、ガスシールのように無接触シールである。そのような手段は図５に示されており、ＵＳ−２００４−０２０７８２４およびＥＰ−１４２０２９８に開示されている。

図５に示すとおり、液体供給系を用いて液体を投影系と基板の間のスペースに供給する。貯溜部１１が、液体を閉込めて、基板表面と投影系の最終部材との間のスペースを満たすように、この投影系の画像領域の周りに基板に対する無接触シールを作る。貯溜部は、投影系ＰＬの最終部材の下に、その周囲に配置された液体閉込め構造体１２によって形成される。液体は、投影系の下の液体閉込め構造体１２内のスペースに持たらされる。液体閉込め構造体１２は、投影系の最終部材の少し上に延在し、液体の緩衝体になるように、液体レベルが最終部材の上に上昇する。液体閉込め構造体１２は、或る例で、上端が投影系、または、投影系の最終部材の形状と正確に一致し、例えば丸みを与えてもよい内周を有する。下端では、内周が画像領域の形状と正確に一致し、例えば長方形であるが、そうである必要はない。

液体は、液体閉込め構造体１２の下端と基板Ｗの表面との間で、ガスシール１６によって貯溜部に閉込められる。ガスシールは、加圧状態で、入口１５から液体閉込め構造体１２と基板との間の間隙に供給され、かつ、第１出口１４から引出される、ガス（例えば、空気または合成空気、Ｎ_２または不活性ガス）によって形成される。ガス入口１５での過圧、第１出口１４での真空レベル、および、間隙の形状寸法は、液体を閉込める内方への高速空気流があるように設計される。

リソグラフィ装置では、基板Ｗが、通常、基板テーブルＷＴの表面の、通常ポットホールと呼ばれる凹み内に着座するピンプルプレートまたはバールテーブルとも呼ばれる基板ホルダの上に載置される。或る公差内の基板Ｗのサイズおよび配置の変動を許容するために、この凹みは、基板よりも僅かに大きい。かくして、この凹み、基板ホルダおよび基板は、基板の上面が実質的に基板テーブルの上面と事実上共通平面であることを保証するように寸法選択されているが、基板の縁の周囲に間隙が残る。同様に、基板テーブルの上に存在する或るセンサおよび基準物（基準マーカ）は、板上に、または、ブロックで装架され、それらが基板テーブルの対応する凹み内に設定される。これらの凹みは、ブロックまたは板のサイズの変動を許容し、かつ、これらのセンサを整備または改良のために取外せるようにするために僅かに大きなサイズになされており、間隙が生じる。

そのような間隙は、ビーム経路に入って、結像に影響する可能性のある気泡の重要な発生源になるだろう。基板テーブルが動かされ、投影系の下を間隙が通過し、前記スペースが浸漬液で満たされる時の基板テーブルの速度は、浸漬液で十分に間隙を満たすには十分な時間がないことが多い。間隙内に残るガスは気泡を形成し、それが間隙を離れて投影ビームの経路に浮上することがある。そこで、気泡は、線量変動および画像歪み等の結像欠陥を惹起するだろう。

図６は、本発明例による基板テーブルと基板との間の間隙を示す。基板ホルダ２１と、基板Ｗおよび基板ホルダ２１がその内部に位置する凹み２０との間の間隙２２には、多数の毛２３が配設されており、それらの毛２３が間隙内に気泡を保持するための手段として働く。毛２３は、疎水性（すなわち、浸漬液に対する接触角（固液界面および気液界面間の角度）が９０°よりも大きい）であり、間隙に生じるであろう全ての気泡２４を閉込めるように働く。これらの気泡は、間隙内に保持されていれば害を及さず、結像欠陥が起る可能性があるのは、それらが逃出し、ビーム経路に浮遊する時だけである。

図７〜図１４は、本発明の別実施例による構成を示す。以下の実施例で、図６で示した部品に相当する部品は、類似参照符号で識別し、簡潔を企図して詳細な説明を省略する。異なる実施例の特徴を組合わせ得ることは、勿論である。基板の周囲の間隙に適用して示した構成は、勿論、センサブロックまたは基準板の周囲の間隙、および、実際基板テーブルの上面に存在するであろうその他の全ての間隙（溝を含む）にも等しく適用してよい。

図７の実施例では、基板Ｗの縁の周囲の間隙２２およびセンサブロックＳＢの縁の周囲の間隙２５が都合のよい位置で横断壁２６によって区画化されている。これらの間隙が、液体閉込め装置の下を通るとき、これらの間隙に液体が流れ込むが、部分的に投影系の下にある間隙の区画または複数の区画のみを満たす。これらは、小さいので、より迅速かつ完全に満たされ、気泡の形成を減らし、または、避けることができる。

図８は、気泡をこの間隙に保持するための代替装置を示す。図示のとおり、一つ以上の鋭い縁２７が間隙２２内に配設されている。いずれの気泡２４も優先的に鋭い縁に付着し、それが効果的に接触角を増し、逃出してビーム経路に入る筈がない。

気泡を保持するための別の装置を図９に示す。これは、内方かつ上方に向かって先細りになり、間隙２２内に気泡を捕捉するように、間隙に対する一つ以上の張出し壁２８を含む。

図１０の実施例では、間隙の一つ以上の適当な表面に粗い被覆２９が付されている。この粗い被覆は、気泡と同じ尺度で表面勾配が変化しており、したがって接触角が局所的に増し、被覆材料が本質的に親水性であっても、この表面を疎水性にする。この例も、間隙２２内に気泡を保持するように働く。

図１１に示す構成では、被覆３０が粗い必要はなく、十分疎水性であって、間隙内への浸漬液１１の進入を完全に防ぐ。

別の手法を図１２に示す。この実施例は、液体供給源３１を含み、それを制御して、間隙２２を事実上事前充填するように、この間隙が投影系の下へ移動する前にそれに液体を供給する。この充填は、ガスが全くまたは殆ど残らないことを保証するに十分な時間をかけて完了することができ、そうすれば、ビーム経路に入る可能性のある気泡は、全く、または、ほとんど存在しない。この間隙を充填する液体は、或る例では、浸漬液であるが、その代りに、浸漬液と混ざらない高密度の液体のような、別の液体を用いてもよい。この液体がこの間隙から吹飛ばされるのを避けるためには、間隙が液体閉込め装置の縁の下を通る時、液体閉込め装置のガスナイフまたはガス支承体を弱めるか、または、スイッチオフ状態にすべきである。

図１３は、間隙における気泡問題の別の解決策を示す。ここでは液体およびガス抽出器３２を用いて、間隙２２にあるかも知れないあらゆる気泡２４を掃出し且つそれらがビーム経路に浮上できる前にそれらを除去する流れを保証する。ガスだけを除去し、浸漬液の消費量を減らすように、この抽出器３２を横切ってガス透過性であるが液体不透過性の膜を使うことができる。

図１４は、気泡を伴出して除去する水平流を誘発するための液体供給源３１と抽出器３２の組合せを示す。このアプローチでは、間隙の表面が気泡の放出を促進するために親水性でもよい。

本明細書では、疎水性、親水性、湿度等の水関連用語を使であろうが、これらの用語は、その他の液体に対する類似の特性を包含するものと理解すべきである。

ＥＰ−１４２０３００およびＵＳ−２００４−０１３６４９４（それぞれの全記載内容を本明細書の記載として援用する）に、二連または二段浸漬リソグラフィ装置の考え方が開示されている。そのようなリソグラフィ装置は、基板を支持するための二つのテーブルを備える。水準測定を第１位置である或るテーブルで浸漬液なしで行い、露光を第２位置である或るテーブルで浸漬液ありで行う。代替リソグラフィ装置は、テーブルが一つしかない。

本明細書では、ＩＣの製造でリソグラフィ装置を使用することを具体的に言及したかも知れないが、ここで説明するリソグラフィ装置は、集積光学系、磁区メモリ用誘導検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のような、その他の用途があることを理解すべきである。当業者は、そのような代替用途の関係で、本明細書で用いる「ウエハ」または「ダイ」という用語のいずれも、それぞれ、一般的な用語である「基板」または「目標部分」と同義であると考えてよい。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えば、トラック（典型的には基板にレジストの層を付し、かつ、露光したレジストを現像する手段）、計測手段および／または検査手段で処理してもよい。該当すれば、この開示をそのようなおよびその他の基板処理手段に適用してもよい。更に、この基板を、例えば、多層ＩＣを作るために、一度を超える処理を施してもよく、したがって、本明細書で用いる基板という用語は、既に多重処理した層を含む基板をも指すことができる。

本明細書で用いる用語「放射線」および「ビーム」は、紫外（ＵＶ）放射線（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長を有する）を含むあらゆる種類の電磁放射線を包含する。

用語「レンズ」は、事情が許せば、屈折式および反射式光学部品を含む、各種型式の光学部品の何れか一つまたは組合せを指してもよい。

本発明の特定の実施例について説明したが、本発明を説明したのと別の方法で実施してもよいことが分るだろう。例えば、本発明は、前記方法を記述する機械読み取り可能な指令の一つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または、そのようなコンピュータプログラムを記憶したデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気若しくは光ディスク）を含むことができる。

本発明の一つ以上の実施例を任意の浸漬リソグラフィ装置に、特に、しかし排他的にではなく、前記種類で浸漬液を浴の形で、または、基板の局所表面積にのみ供給するものに適用できる。ここで意図する液体供給系は広く解釈すべきである。或る例で、それは、液体を投影系と基板および／または基板テーブルの間のスペースに供給する機構または構造体の組合せでもよい。それは、前記スペースに液体を供給する、一つ以上の構造体、一つ以上の液体入口、一つ以上のガス入口、一つ以上のガス出口、および／または一つ以上の液体出口の組合せを含むことができる。一実施例で、前記スペースの表面は、基板および／または基板テーブルの一部であってよく、または、前記スペースの表面は、基板および／または基板テーブルの表面を完全に覆てよく、または、前記スペースは、基板および／または基板テーブルを包むことができる。液体供給系は、任意に、更にこの液体の位置、量、質、流量または何かその他の特徴を制御するための一つ以上の要素を含んでもよい。

前記説明は、例示を意図し、限定を意図しない。従って、当業者は、特許請求の範囲の定義から逸脱することなく、前記本発明例に修正を施すことができる。

本発明の実施例によるリソグラフィ装置を示す。 リソグラフィ投影装置で使うための液体供給系を示す。 リソグラフィ投影装置で使うための液体供給系を示す。 リソグラフィ投影装置で使うためのもう一つの液体供給系を示す。 リソグラフィ投影装置で使うための更なる液体供給系を示す。 本発明の実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。 本発明のもう一つの実施例による基板テーブルと基板の間の間隙を示す。

Claims (15)

1. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの上面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルの上面とその上に設けたセンサ及び／又は基準板との間に間隙があり、前記基板、前記センサ及び／又は前記基準板は前記基板テーブルの上面により規定される凹みに配置されて通常使用時に前記液体と接触することとなり、
   該間隙に発生する可能性のある気泡を保持するように構成された気泡保持装置を前記間隙に設けて成るリソグラフィ装置。
2. 前記気泡保持装置が前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する複数の毛を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
3. 前記気泡保持装置が一つ以上の鋭い縁を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
4. 前記気泡保持装置の前記間隙が外部に向かって先細になっている請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
5. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する被覆を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
6. 前記被覆が粗面を有し、有効な前記接触角を大きくしている請求項５に記載されたリソグラフィ装置。
7. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの上面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルの上面とその上に設けたセンサ及び／又は基準板との間に間隙があり、前記基板、前記センサ及び／又は前記基準板は前記基板テーブルの上面により規定される凹みに配置されて通常使用時に前記液体と接触することとなり、
   前記間隙は、その長さ方向に亘って、複数の区画に分割されているリソグラフィ装置。
8. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板上に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの上面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルの上面とその上に設けたセンサ及び／又は基準板との間に間隙があり、前記基板、前記センサ及び／又は前記基準板は前記基板テーブルの上面により規定される凹みに配置されて通常使用時に前記液体と接触することとなり、
   前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出するように構成された手段を含み、前記手段が前記間隙からガスを抽出するが液体は抽出しないように構成された膜を含むリソグラフィ装置。
9. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するように構成され、
   前記基板テーブルの上面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁との間、または、前記基板テーブルの上面とその上に設けたセンサ及び／又は基準板との間に間隙があり、前記基板、前記センサ及び／又は前記基準板は前記基板テーブルの上面により規定される凹みに配置されて通常使用時に前記液体と接触することとなり、
   前記間隙を充填するように、前記間隙が投影系へ移動する前に前記間隙に液体を供給するように構成された手段を含むリソグラフィ装置。
10. 液体を通して所望パターンの画像を基板テーブル上に保持された基板に投影するデバイス製造方法において、
    前記基板テーブルの上面で、前記基板テーブルと前記基板の外縁の間、または、前記基板テーブルの上面とその上に設けたセンサ及び／又は基準板との間に間隙があり、前記基板、前記センサ及び／又は前記基準板は前記基板テーブルの上面により規定される凹みに配置されて通常使用時に前記液体と接触することとなり、
    前記間隙から液体、ガス、または、その両者を抽出することを含み、かつ
    前記間隙内の気泡が気泡保持装置によって前記間隙内で保持されるデバイス製造方法。
11. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する複数の毛を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
12. 前記気泡保持装置が一つ以上の鋭い縁を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
13. 前記気泡保持装置の前記間隙が外部に向かって先細になっている請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
14. 前記気泡保持装置が、前記液体に対して９０°よりも大きな接触角を有する被覆を含む請求項１０に記載されたデバイス製造方法。
15. 前記被覆が粗面を有し、有効な前記接触角を大きくしている請求項１４に記載されたデバイス製造方法。

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