JP5214678B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置PMに接続された支持構造体(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つまたは複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造体MTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造体MTおよび基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。支持構造体MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、支持構造体MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (6)
- 放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
液体を前記基板の上面の局所的区域に提供する液体供給システムと、
前記液体を通して前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記基板の中心区間の外側の各ダイの結像において、前記基板の中心から離れる方向にスキャンするように、前記支持体と前記基板テーブルの動作を制御する制御装置と、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記基板の前記中心区間の各ダイの結像において、スキャン方向がステップ方向に対して実質的に直角である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板の前記中心区間の各ダイを露光した後、前記基板の前記中心区間の外側の各ダイを露光する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムと基板との間に設けられた液体を通して、パターン付き放射ビームを前記基板に投影するために前記投影システムを使用することを含むデバイス製造方法であって、
前記基板の中心区間の外側の各ダイの結像において、前記基板の中心から離れる方向にスキャンするステップを含む、デバイス製造方法。 - 放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
液体を基板の上面の局所的区域に提供する液体供給システムと、
前記液体を通して前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
露光が前記基板の一端側のダイの列から他端側のダイの列まで連続して行われる場合、各ダイの結像中に、全スキャン動作が前記基板の一端側から基板の他端側へ向かう一方向であるように、前記支持体と前記基板テーブルの動作を制御する制御装置と、
を備えるリソグラフィ装置。 - 投影システムと基板の間に設けられた液体を通して、パターン付き放射ビームを前記基板に投影するために前記投影システムを使用することを含むデバイス製造方法であって、
露光が前記基板の一端側のダイの列から他端側のダイの列まで連続して行われる場合、前記各ダイの結像中に、全スキャン動作が前記基板の一端側から他端側へ向かう方向である方法。
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