JP2016154241A - パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ショット領域ごとに第1のパターンを形成して第1のショット配列を画定する第1工程と、インプリント処理を第1のショット配列における1以上のショット領域ごとに行うことによって第1のパターンの上のインプリント材に第2のパターンを形成して第2のショット配列を画定する第2工程と、を含む。第2工程では、モールドを変形させることによってモールドに形成された第2のパターンを補正することによって、第1のショット配列との重ね合わせ誤差を低減して第2のショット配列を画定し、第1工程では、モールドを変形させることによってモールドに形成された第2のパターンを補正して第2工程を行った場合に基板上に画定されうる推定上の第2のショット配列の情報に基づいて、第1のショット配列と第2のショット配列との重ね合わせ誤差が許容範囲内となるように第1のパターンを形成する。
【選択図】図10
Description
(ステップS1) モールド11のパターン面11aに形成されたパターンの精度を計測するため、計測装置300によりパターン面11aのパターンを計測する。これにより、パターン面11a自体の形状を求められる。
(ステップS2) モールド11をインプリント装置で保持した状態やインプリント工程で発生するパターンの形状変化の影響が大きい場合、インプリント装置に搭載し必要な工程でのパターンの形状を計測装置300又はインプリント装置内のスコープにより計測する。
(ステップS3) S1、S2における計測結果は情報処理装置400により格納される。パターンの形状変化がモールド11とインプリント装置との組み合わせに依存する場合、情報処理装置400は、その組み合わせの情報と計測結果の情報とのセットで保持し、管理する。情報処理装置400は、また、基板面内や基板エッジを含んだショット領域でのパターンの変形も同様に管理する。
(ステップS4) 情報処理装置400は、保持している情報に基づいて、露光処理によって形成すべき下地パターンの形状情報を投影露光装置200に送る。投影露光装置200は、情報処理装置400から受け取った下地パターンの形状情報に基づいて露光処理によりパターンを転写する。
(ステップS5) 投影露光装置200により下地のパターンが転写された基板13は、現像やエッチング等の工程を経て、下地のパターンが形成される。
(ステップS6) インプリント装置100は、下地のパターンが形成された基板13に対してインプリント処理を行ってパターンを基板13に転写する。インプリント処理を受ける基板13に対して、どのモールド、どのインプリント装置でインプリントした際のパターン形状と一致するかは情報処理装置400により管理されている。情報処理装置400の指示に従い、形状が一致するモールド/インプリント装置へ送り込まれ、インプリントによる転写工程に進む。
(ステップS7) インプリント装置100によりパターンが転写された基板13は、現像やエッチング等の次工程へと送られる。
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、投影露光装置200およびインプリント装置100を含むリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンが形成された基板を加工する他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (15)
- 基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
基板上のショット領域ごとに第1のパターンを形成して第1のショット配列を画定する第1工程と、
基板上のインプリント材とモールドとを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させるインプリント処理を前記第1工程で画定された第1のショット配列における1以上のショット領域ごとに行うことによって前記第1のパターンの上のインプリント材に第2のパターンを形成して第2のショット配列を画定する第2工程と、
を含み、
前記第2工程では、前記モールドを変形させることによって前記モールドに形成された第2のパターンを補正することによって、前記第1のショット配列との重ね合わせ誤差を低減して前記第2のショット配列を画定し、
前記第1工程では、前記モールドを変形させることによって前記モールドに形成された第2のパターンを補正して前記第2工程を行った場合に基板上に画定されうる推定上の前記第2のショット配列の情報に基づいて、前記第1のショット配列と前記第2のショット配列との重ね合わせ誤差が許容範囲内となるように前記第1のパターンを形成する、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記第2工程で、前記第1工程で画定された第1のショット配列における複数のショット領域に前記インプリント処理を同時に行う、ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記第1工程は、マスクのパターンを投影光学系を介して基板に投影して前記基板を露光する投影露光装置を用いて行われる、ことを特徴とする請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- 前記第1工程で、前記投影光学系を構成する光学素子または前記マスクの位置または姿勢を調整することによって、前記第1のショット配列と前記第2のショット配列との重ね合わせ誤差が許容範囲内となるように前記第1のパターンを形成する、ことを特徴とする請求項3に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列の情報は、前記インプリント処理に使用されるモールドとインプリント装置との識別データをさらに含む、ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列の情報は、前記インプリント処理がなされるショット領域の位置のデータをさらに含む、ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列は、前記インプリント処理に使用されるモールドの形状の計測結果に基づく、ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列は、前記インプリント処理に使用されるインプリント装置に搭載されたモールドの形状の計測結果に基づく、ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列は、前記インプリント処理によって前記第2のパターンを形成して画定された前記第2のショット配列の計測結果に基づく、ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列は、前記インプリント処理に使用されるインプリント装置に備えられた検出器による計測結果に基づく、ことを特徴とする請求項8または9に記載のパターン形成方法。
- 前記第2のショット配列の情報は、先にパターンを形成した基板における前記第1のショット配列と前記第2のショット配列との差分の計測結果を含む、ことを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 基板上のショット領域ごとに第1のパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
基板上のインプリント材とモールドとを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させるインプリント処理を前記第1のパターン上の1以上のショット領域ごとに行うことによって第2のパターンを形成し、第2のパターンを形成するインプリント処理を行うことによって形成されうる推定上の第2のショット配列の情報を取得する取得部と、
前記取得部で取得した第2のショット配列の情報に基づいて、第1のパターンを形成して第1のショット配列を画定し、画定されたショット配列となるように第1のパターンを形成する制御部と、
を備え、
前記第2のショット配列の情報は、前記モールドを変形させることによって前記モールドに形成された第2のパターンを補正して、第2のパターンを形成するインプリント処理を行うことによって前記基板上に画定されうる推定上の配列の情報である、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2のショット配列の情報は、モールドに形成されたパターン形状を含む、ことを特徴とする、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィシステムであって、
基板上のショット領域ごとに第1のパターンを形成して第1のショット配列を画定するリソグラフィ装置と、
樹脂にモールドを接触させながら前記樹脂を硬化させるインプリント処理を前記画定された第1のショット配列における1以上のショット領域ごとに行うことによって前記第1のパターンの上の樹脂に第2のパターンを形成して第2のショット配列を画定するインプリント装置と、
を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記インプリント処理を行った場合に基板上に画定されうる推定上の前記第2のショット配列の情報に基づいて、前記第1のショット配列と前記第2のショット配列との重ね合わせ誤差が許容範囲内となるように前記第1のパターンを形成し、
前記第2のショット配列の情報は、前記モールドを変形させることによって前記モールドに形成された第2のパターンを補正して、第2のパターンを形成するインプリント処理を行うことによって前記基板上に画定されうる推定上の配列の情報である、ことを特徴とするリソグラフィシステム。 - リソグラフィシステムを用いて基板上にパターンを形成すること、
前記パターンが形成された前記基板を加工することと、
を含む、ことを特徴とする物品製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020017581A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法および物品製造方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864516A (ja) * | 1994-08-23 | 1996-03-08 | Sony Corp | 重ね合わせ露光方法 |
JP2002134396A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-10 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および半導体パターン自動調節装置 |
JP2006245072A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Canon Inc | パターン転写用モールドおよび転写装置 |
JP2010040551A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Oki Semiconductor Co Ltd | 露光装置のアライメント方法 |
JP2011146689A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-07-28 | Canon Inc | インプリント装置及びパターン転写方法 |
JP2012160617A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Canon Inc | 検査方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2012204833A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | オーバーレイ制御方法、半導体製造方法および半導体製造装置 |
JP2012256680A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Toshiba Corp | テンプレート、テンプレートの製造方法及びテンプレートの製造装置 |
JP2013008815A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Toshiba Corp | パターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラム |
JP2013055157A (ja) * | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2013098291A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Canon Inc | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013102132A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-23 | Canon Inc | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013110162A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3513973B2 (ja) * | 1995-04-28 | 2004-03-31 | 株式会社ニコン | 走査露光方法および該方法を用いた回路素子製造方法 |
JP3576722B2 (ja) * | 1996-10-21 | 2004-10-13 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法 |
JPH10270317A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 走査露光方法 |
JPH11145040A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-28 | Nec Corp | 走査型露光装置及びアライメント方法 |
JP3360662B2 (ja) * | 1999-10-05 | 2002-12-24 | 日本電気株式会社 | 電子線ビーム描画方法および電子線ビーム描画用マスク |
JP2002099097A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-05 | Nikon Corp | 走査露光方法および走査型露光装置 |
JP2002246291A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-30 | Canon Inc | 露光方法及び露光装置 |
JP2005303043A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Nikon Corp | 位置検出方法とその装置、位置合わせ方法とその装置、露光方法とその装置、及び、位置検出プログラム |
JP4625673B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2011-02-02 | 株式会社東芝 | 露光方法及び露光装置 |
US8330936B2 (en) * | 2006-09-20 | 2012-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2009231564A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Toshiba Corp | スキャン露光装置の補正方法 |
-
2016
- 2016-03-14 JP JP2016050295A patent/JP2016154241A/ja active Pending
-
2019
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Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864516A (ja) * | 1994-08-23 | 1996-03-08 | Sony Corp | 重ね合わせ露光方法 |
JP2002134396A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-10 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および半導体パターン自動調節装置 |
JP2006245072A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Canon Inc | パターン転写用モールドおよび転写装置 |
JP2010040551A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Oki Semiconductor Co Ltd | 露光装置のアライメント方法 |
JP2011146689A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-07-28 | Canon Inc | インプリント装置及びパターン転写方法 |
JP2012160617A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Canon Inc | 検査方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2012204833A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | オーバーレイ制御方法、半導体製造方法および半導体製造装置 |
JP2012256680A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Toshiba Corp | テンプレート、テンプレートの製造方法及びテンプレートの製造装置 |
JP2013008815A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Toshiba Corp | パターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラム |
JP2013055157A (ja) * | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2013102132A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-23 | Canon Inc | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013098291A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Canon Inc | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013110162A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020017581A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法および物品製造方法 |
KR20200011020A (ko) * | 2018-07-23 | 2020-01-31 | 캐논 가부시끼가이샤 | 패턴 제조 방법 및 물품 제조 방법 |
US10754257B2 (en) | 2018-07-23 | 2020-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing pattern and article manufacturing method |
JP7222623B2 (ja) | 2018-07-23 | 2023-02-15 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法および物品製造方法 |
KR102587433B1 (ko) * | 2018-07-23 | 2023-10-11 | 캐논 가부시끼가이샤 | 패턴 제조 방법 및 물품 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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