JP2008208048A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008208048A5
JP2008208048A5 JP2007044315A JP2007044315A JP2008208048A5 JP 2008208048 A5 JP2008208048 A5 JP 2008208048A5 JP 2007044315 A JP2007044315 A JP 2007044315A JP 2007044315 A JP2007044315 A JP 2007044315A JP 2008208048 A5 JP2008208048 A5 JP 2008208048A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
contaminant
purification
cleaning
soluble organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007044315A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5085954B2 (ja
JP2008208048A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2007044315A external-priority patent/JP5085954B2/ja
Priority to JP2007044315A priority Critical patent/JP5085954B2/ja
Priority to KR1020097018237A priority patent/KR101381494B1/ko
Priority to US12/527,903 priority patent/US20100126934A1/en
Priority to EP08728908A priority patent/EP2114831A4/en
Priority to CN2008800060429A priority patent/CN101622201B/zh
Priority to PCT/US2008/052896 priority patent/WO2008103536A1/en
Priority to TW097106127A priority patent/TWI427057B/zh
Publication of JP2008208048A publication Critical patent/JP2008208048A/ja
Publication of JP2008208048A5 publication Critical patent/JP2008208048A5/ja
Publication of JP5085954B2 publication Critical patent/JP5085954B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2007044315A 2007-02-23 2007-02-23 フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置 Active JP5085954B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007044315A JP5085954B2 (ja) 2007-02-23 2007-02-23 フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置
CN2008800060429A CN101622201B (zh) 2007-02-23 2008-02-04 含氟基溶剂的溶液的纯化方法
US12/527,903 US20100126934A1 (en) 2007-02-23 2008-02-04 Purification process of fluorine-based solvent-containing solution
EP08728908A EP2114831A4 (en) 2007-02-23 2008-02-04 CLEANING PROCEDURE FOR A FLUORIN-BASED SOLVENT-BASED SOLUTION
KR1020097018237A KR101381494B1 (ko) 2007-02-23 2008-02-04 불소계 용매-함유 용액의 정제 방법
PCT/US2008/052896 WO2008103536A1 (en) 2007-02-23 2008-02-04 Purification process of fluorine-based solvent-containing solution
TW097106127A TWI427057B (zh) 2007-02-23 2008-02-21 用於純化含有以氟為基溶劑之溶液的方法及裝置以及清洗裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007044315A JP5085954B2 (ja) 2007-02-23 2007-02-23 フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008208048A JP2008208048A (ja) 2008-09-11
JP2008208048A5 true JP2008208048A5 (enExample) 2010-04-08
JP5085954B2 JP5085954B2 (ja) 2012-11-28

Family

ID=39710425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007044315A Active JP5085954B2 (ja) 2007-02-23 2007-02-23 フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20100126934A1 (enExample)
EP (1) EP2114831A4 (enExample)
JP (1) JP5085954B2 (enExample)
KR (1) KR101381494B1 (enExample)
CN (1) CN101622201B (enExample)
TW (1) TWI427057B (enExample)
WO (1) WO2008103536A1 (enExample)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5620056B2 (ja) * 2008-10-10 2014-11-05 スリーエム イノベイティブプロパティズカンパニー フッ素系溶剤の精製方法
JP5368131B2 (ja) * 2009-02-20 2013-12-18 大日本スクリーン製造株式会社 溶剤再生装置及びその方法
SG185632A1 (en) * 2010-06-07 2012-12-28 Central Glass Co Ltd Liquid chemical for foaming protecting film
US9607864B2 (en) * 2012-05-23 2017-03-28 Stmicroelectronics, Inc. Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing
CN103730409B (zh) * 2012-10-16 2016-12-28 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 半导体器件的制作方法、清洗方法和清洗系统
JP6149421B2 (ja) * 2013-02-20 2017-06-21 栗田工業株式会社 溶液の供給方法及び供給装置
CN103083998B (zh) * 2013-03-01 2014-12-03 成都广亚科技有限公司 一种溶剂净化装置及其处理方法
US9104104B2 (en) 2013-04-24 2015-08-11 Orthogonal, Inc. Method of patterning a device
EP3024810B1 (en) * 2013-07-25 2018-06-20 3M Innovative Properties Company Nitrogen containing hydrofluoroethers and methods of making same
JP6686883B2 (ja) * 2014-05-30 2020-04-22 Ａｇｃ株式会社 含フッ素重合体の製造方法
JP2016168530A (ja) 2015-03-12 2016-09-23 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 フッ素含有溶剤分離方法、フッ素含有溶剤汚染物除去方法、及び装置
WO2017119350A1 (ja) * 2016-01-05 2017-07-13 富士フイルム株式会社 処理液、基板の洗浄方法、及び、半導体デバイスの製造方法
JP6542392B2 (ja) * 2016-01-05 2019-07-10 富士フイルム株式会社 処理液、基板の洗浄方法、および、半導体デバイスの製造方法
KR102027793B1 (ko) * 2016-01-05 2019-10-02 후지필름 가부시키가이샤 처리액, 기판의 세정 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법
WO2018043697A1 (ja) * 2016-09-02 2018-03-08 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
WO2018062470A1 (ja) 2016-09-30 2018-04-05 富士フイルム株式会社 半導体チップの製造方法、キット
JP2018118183A (ja) * 2017-01-23 2018-08-02 光治郎 大川 被洗浄物洗浄装置
WO2019003605A1 (ja) * 2017-06-26 2019-01-03 Ａｇｃ株式会社 真空蒸着用のマスクの洗浄方法及びリンス組成物
WO2019093251A1 (ja) * 2017-11-10 2019-05-16 日本ゼオン株式会社 洗浄溶剤組成物の再生方法および再生装置、並びに、被洗浄物の洗浄方法および洗浄システム
JP7126830B2 (ja) * 2018-01-19 2022-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生装置
KR20210035800A (ko) * 2018-08-10 2021-04-01 니폰 제온 가부시키가이샤 불소계 용제 함유물의 정제 방법 및 불소계 용제 함유 정제물
CN111100750A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 台境企业股份有限公司 废氟素油的处理方法及系统
CN109365386A (zh) * 2018-12-06 2019-02-22 深圳市盈石科技有限公司 一种净洗装置及其净洗方法
JP2021000603A (ja) * 2019-06-21 2021-01-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フッ素化液体の精製方法、及び該方法を用いる精製装置
WO2021045956A1 (en) * 2019-09-03 2021-03-11 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Systems and methods for purifying solvents
JP2021041337A (ja) * 2019-09-10 2021-03-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー アルコール含有フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生システム
CN111863298B (zh) * 2020-06-10 2022-08-05 中国原子能科学研究院 一种purex流程污溶剂的深度净化方法
CN114284130B (zh) * 2020-09-27 2025-03-21 东莞新科技术研究开发有限公司 去除晶圆表面杂质的方法
WO2022190013A1 (en) * 2021-03-12 2022-09-15 3M Innovative Properties Company Fluorinated fluid conditioning system
CN114560758B (zh) * 2022-02-22 2023-08-18 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 一种电子级九氟丁基甲醚的纯化方法
CN116832582B (zh) * 2023-07-06 2024-03-08 山东众海机械有限公司 一种激光光纤金属切割高压空气提纯的工艺
JP2026525425A (ja) 2023-07-14 2026-07-30 クラロス テクノロジーズ インコーポレイテッド 水溶液からヨウ素を捕捉する方法及びシステム
US12534390B2 (en) 2023-07-14 2026-01-27 Claros Technologies Inc. Methods and systems of nitrate removal in aqueous systems for improved PFAS destruction
US12545601B2 (en) 2023-07-14 2026-02-10 Claros Technologies Inc. Methods and systems of photosensitizer recovery for improved PFAS destruction
WO2026008470A1 (en) 2024-07-02 2026-01-08 Syensqo Specialty Polymers Italy S.p.A. (per)fluoropolyether polymer composition

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54148707A (en) * 1978-05-09 1979-11-21 Mitsubishi Electric Corp Method and apparatus for purification and recovery of freon solvents
US4477354A (en) * 1982-09-07 1984-10-16 Electric Power Research Institute Destruction of polychlorinated biphenyls during solvent distillation
KR910002331B1 (ko) * 1984-12-18 1991-04-20 미쯔비시 주우 고오교오 가부시기가이샤 드라이클리이닝장치와 그 방법
DE3522932A1 (de) * 1985-06-27 1987-01-08 Henkel Kgaa Verfahren zur filtration von flotten in der chemischreinigung und dabei verwendete filterhilfsmittel in form praeparierter schichtsilikate
JPH0271802A (ja) * 1988-09-06 1990-03-12 Terumo Corp 疎水性溶剤の精製方法
CA2075956A1 (en) * 1991-02-06 1992-08-07 Masanori Ikeda Refrigerant composition comprising a fluoroalkane refrigerant and a fluorine-containing aromatic lubricant having a high miscibility therewith
JPH0798122B2 (ja) * 1991-07-12 1995-10-25 動力炉・核燃料開発事業団 核燃料サイクルから発生する使用済溶媒の再生方法
JP2812640B2 (ja) * 1992-07-31 1998-10-22 シャープ株式会社 排水処理装置および排水処理方法
JP3290919B2 (ja) * 1997-04-18 2002-06-10 新オオツカ株式会社 洗浄装置
TW499414B (en) * 1999-04-20 2002-08-21 Daikin Ind Ltd Method for recovering fluorine-containing solvents
JP4774138B2 (ja) * 1999-11-09 2011-09-14 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 溶剤再生装置
US6908556B2 (en) * 1999-12-02 2005-06-21 The University Of Tulsa Methods for forming microcultures within porous media
JP4501213B2 (ja) * 2000-04-12 2010-07-14 住友化学株式会社 ハロゲン化物イオンの除去方法
JP4070392B2 (ja) * 2000-08-01 2008-04-02 富士通株式会社 フッ素系溶媒の調製方法及び装置ならびに精製方法
US6652758B2 (en) * 2000-09-26 2003-11-25 Ionics, Incorporated Simultaneous ammonia and fluoride treatment for wastewater
JP5129911B2 (ja) * 2001-08-08 2013-01-30 新オオツカ株式会社 水分除去装置
JP2004167416A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Olympus Corp 水分離方法
CN1218886C (zh) * 2003-07-23 2005-09-14 上海三爱富新材料股份有限公司 含氟醚的降解方法和含氟醚废水的处理方法
US7342079B2 (en) * 2004-06-21 2008-03-11 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Polymerization process and reactor system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5085954B2 (ja) フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置
CN1694847A (zh) 从水中脱除有机杂质的方法
KR101773052B1 (ko) 보호막 형성용 약액의 조제 방법
JP3296405B2 (ja) 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
JP2002151459A (ja) 洗浄方法
WO2023210370A1 (ja) 有機溶媒の精製方法及び精製装置
WO2017056947A1 (ja) 金属汚染防止剤、金属汚染防止膜、金属汚染防止方法及び製品洗浄方法
JP4361056B2 (ja) オゾン処理方法及びオゾン処理装置
JP2016168530A (ja) フッ素含有溶剤分離方法、フッ素含有溶剤汚染物除去方法、及び装置
JP2012210568A (ja) 現像廃液の再生装置及び再生方法
JP2009273975A (ja) 有機溶剤含有ガス処理システム
JP3459718B2 (ja) シリコンウエハ洗浄装置
KR100856909B1 (ko) 세척기술과 동전기 기술을 결합한 티피에이치 오염 토양의정화
TWI679058B (zh) 氣體淨化濃縮系統及濾材的再生方法
JPH07105371B2 (ja) 半導体基材の洗浄方法
JPH1036999A (ja) メッキ液中の不純物除去方法と装置
JP3930295B2 (ja) 有機塩素化合物含有機器の処理方法
KR20100057326A (ko) 웨이퍼 세정 방법
JPH07195091A (ja) 洗浄システムから排出される排水の処理方法
JP5358266B2 (ja) 排スラリー中の有用固形成分の回収方法
JPH09251972A (ja) 電子デバイス用基板の清浄化処理法
JP2011215355A (ja) レジスト剥離液の再生方法及び装置
JPH0639375A (ja) 排水処理装置
JP2893493B2 (ja) シリコンウェーハの洗浄方法
JP7746706B2 (ja) 有機酸の除去方法