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TW097106127A TWI427057B (zh) 2007-02-23 2008-02-21 用於純化含有以氟為基溶劑之溶液的方法及裝置以及清洗裝置

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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5620056B2 (ja) * 2008-10-10 2014-11-05 スリーエム イノベイティブプロパティズカンパニー フッ素系溶剤の精製方法
JP5368131B2 (ja) * 2009-02-20 2013-12-18 大日本スクリーン製造株式会社 溶剤再生装置及びその方法
JP5821844B2 (ja) * 2010-06-07 2015-11-24 セントラル硝子株式会社 保護膜形成用薬液
US9607864B2 (en) 2012-05-23 2017-03-28 Stmicroelectronics, Inc. Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing
CN103730409B (zh) * 2012-10-16 2016-12-28 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 半导体器件的制作方法、清洗方法和清洗系统
JP6149421B2 (ja) * 2013-02-20 2017-06-21 栗田工業株式会社 溶液の供給方法及び供給装置
CN103083998B (zh) * 2013-03-01 2014-12-03 成都广亚科技有限公司 一种溶剂净化装置及其处理方法
US9104104B2 (en) 2013-04-24 2015-08-11 Orthogonal, Inc. Method of patterning a device
EP3024810B1 (en) * 2013-07-25 2018-06-20 3M Innovative Properties Company Nitrogen containing hydrofluoroethers and methods of making same
EP3150645B1 (en) 2014-05-30 2020-03-04 AGC Inc. Process for producing a fluorinated polymer
JP2016168530A (ja) * 2015-03-12 2016-09-23 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 フッ素含有溶剤分離方法、フッ素含有溶剤汚染物除去方法、及び装置
JP6542392B2 (ja) * 2016-01-05 2019-07-10 富士フイルム株式会社 処理液、基板の洗浄方法、および、半導体デバイスの製造方法
JP6480017B2 (ja) * 2016-01-05 2019-03-06 富士フイルム株式会社 処理液、基板の洗浄方法、及び、半導体デバイスの製造方法
JP6542393B2 (ja) * 2016-01-05 2019-07-10 富士フイルム株式会社 処理液、基板の洗浄方法および半導体デバイスの製造方法
JPWO2018043697A1 (ja) * 2016-09-02 2019-06-24 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
KR102257694B1 (ko) * 2016-09-30 2021-05-31 후지필름 가부시키가이샤 반도체 칩의 제조 방법, 키트
JP2018118183A (ja) * 2017-01-23 2018-08-02 光治郎 大川 被洗浄物洗浄装置
WO2019003605A1 (ja) * 2017-06-26 2019-01-03 Ａｇｃ株式会社 真空蒸着用のマスクの洗浄方法及びリンス組成物
CN111278578A (zh) * 2017-11-10 2020-06-12 日本瑞翁株式会社 清洗溶剂组合物的再生方法和再生装置、以及被清洗物的清洗方法和清洗系统
JP7126830B2 (ja) * 2018-01-19 2022-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生装置
WO2020031732A1 (ja) * 2018-08-10 2020-02-13 日本ゼオン株式会社 フッ素系溶剤含有物の精製方法およびフッ素系溶剤含有精製物
CN111100750A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 台境企业股份有限公司 废氟素油的处理方法及系统
CN109365386A (zh) * 2018-12-06 2019-02-22 深圳市盈石科技有限公司 一种净洗装置及其净洗方法
JP2021000603A (ja) * 2019-06-21 2021-01-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フッ素化液体の精製方法、及び該方法を用いる精製装置
WO2021045956A1 (en) * 2019-09-03 2021-03-11 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Systems and methods for purifying solvents
JP2021041337A (ja) * 2019-09-10 2021-03-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー アルコール含有フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生システム
CN111863298B (zh) * 2020-06-10 2022-08-05 中国原子能科学研究院 一种purex流程污溶剂的深度净化方法
CN114284130B (zh) * 2020-09-27 2025-03-21 东莞新科技术研究开发有限公司 去除晶圆表面杂质的方法
CN114560758B (zh) * 2022-02-22 2023-08-18 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 一种电子级九氟丁基甲醚的纯化方法
CN116832582B (zh) * 2023-07-06 2024-03-08 山东众海机械有限公司 一种激光光纤金属切割高压空气提纯的工艺
US20250019268A1 (en) 2023-07-14 2025-01-16 Claros Technologies Inc. Methods and Systems of Photo-Electrochemical PFAS Destruction

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54148707A (en) * 1978-05-09 1979-11-21 Mitsubishi Electric Corp Method and apparatus for purification and recovery of freon solvents
US4477354A (en) * 1982-09-07 1984-10-16 Electric Power Research Institute Destruction of polychlorinated biphenyls during solvent distillation
KR910002331B1 (ko) * 1984-12-18 1991-04-20 미쯔비시 주우 고오교오 가부시기가이샤 드라이클리이닝장치와 그 방법
DE3522932A1 (de) * 1985-06-27 1987-01-08 Henkel Kgaa Verfahren zur filtration von flotten in der chemischreinigung und dabei verwendete filterhilfsmittel in form praeparierter schichtsilikate
JPH0271802A (ja) * 1988-09-06 1990-03-12 Terumo Corp 疎水性溶剤の精製方法
CA2075956A1 (en) * 1991-02-06 1992-08-07 Masanori Ikeda Refrigerant composition comprising a fluoroalkane refrigerant and a fluorine-containing aromatic lubricant having a high miscibility therewith
JPH0798122B2 (ja) * 1991-07-12 1995-10-25 動力炉・核燃料開発事業団 核燃料サイクルから発生する使用済溶媒の再生方法
JP2812640B2 (ja) * 1992-07-31 1998-10-22 シャープ株式会社 排水処理装置および排水処理方法
JP3290919B2 (ja) * 1997-04-18 2002-06-10 新オオツカ株式会社 洗浄装置
TW499414B (en) * 1999-04-20 2002-08-21 Daikin Ind Ltd Method for recovering fluorine-containing solvents
JP4774138B2 (ja) * 1999-11-09 2011-09-14 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 溶剤再生装置
US6908556B2 (en) * 1999-12-02 2005-06-21 The University Of Tulsa Methods for forming microcultures within porous media
JP4501213B2 (ja) * 2000-04-12 2010-07-14 住友化学株式会社 ハロゲン化物イオンの除去方法
JP4070392B2 (ja) * 2000-08-01 2008-04-02 富士通株式会社 フッ素系溶媒の調製方法及び装置ならびに精製方法
US6652758B2 (en) * 2000-09-26 2003-11-25 Ionics, Incorporated Simultaneous ammonia and fluoride treatment for wastewater
JP5129911B2 (ja) * 2001-08-08 2013-01-30 新オオツカ株式会社 水分除去装置
JP2004167416A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Olympus Corp 水分離方法
CN1218886C (zh) * 2003-07-23 2005-09-14 上海三爱富新材料股份有限公司 含氟醚的降解方法和含氟醚废水的处理方法
WO2006009981A1 (en) * 2004-06-21 2006-01-26 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Polymeriyation process and reactor system

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