CN116765059A - 一种去除处理槽金属的洗槽方法 - Google Patents

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孟令猛
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Shanghai Zhongxin Wafer Semiconductor Technology Co ltd
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Shanghai Zhongxin Wafer Semiconductor Technology Co ltd
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Abstract

本发明公开了一种去除处理槽金属的洗槽方法,通过将清洗液在处理槽、管道和过滤器中循环清洗,从而将处理槽、管道和过滤器中残留的金属同步清洗去除,从而实现对后续硅片进行清洗时,处理槽、管道和过滤器中均无残留金属。高效去除金属污染。

Description

一种去除处理槽金属的洗槽方法
技术领域
本发明涉及硅片清洗领域,具体涉及一种去除处理槽金属的洗槽方法。
背景技术
硅片清洗中,需要用到石英槽、Teflon(特氟聚四氟乙烯)槽、过滤器和连接管路,对于石英槽和Teflon中槽残留的金属,现有技术通过浸泡去除金属,但是对于过滤器和连接管路中残留的金属,则无法去除,而管道和过滤器内残留金属对后续硅片的继续清洗会产生较大影响。
发明内容
针对现有技术存在的问题,本发明提供一种去除处理槽金属的洗槽方法,通过将清洗液在处理槽、管道和过滤器中循环清洗,从而将处理槽、管道和过滤器中残留的金属同步清洗去除,从而实现对后续硅片进行清洗时,处理槽、管道和过滤器中均无残留金属。高效去除金属污染。
本发明的技术方案是:一种去除处理槽金属的洗槽方法,所述处理槽是针对硅片清洗的处理槽,通过将清洗液在处理槽、管道和过滤器中循环清洗,从而将处理槽、管道和过滤器中残留的金属同步清洗去除,从而实现对后续硅片进行清洗时,处理槽、管道和过滤器中均无残留金属。
进一步的,所述处理槽为石英槽。具体清洗方法如下:
步骤一、将49wt%HF,500cc加入放了纯水的石英槽内;
步骤二、将步骤一中石英槽内的加有49wt%HF的混合液在石英槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在石英槽内只加入纯水,在石英槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、完成清洗。
进一步的,所述处理槽为Teflon槽。具体清洗方法如下:
步骤一、将30wt%H2O2,1L加入放了纯水的Teflon槽内;
步骤二、将步骤一中Teflon槽内的加有30wt%H2O2的混合液在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在Teflon槽内只加入纯水,在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、完成清洗。
本发明的有益效果是:提供一种去除处理槽金属的洗槽方法,通过将清洗液在处理槽、管道和过滤器中循环清洗,从而将处理槽、管道和过滤器中残留的金属同步清洗去除,从而实现对后续硅片进行清洗时,处理槽、管道和过滤器中均无残留金属。高效去除金属污染。
具体实施方式
实施例一
石英槽具体清洗方法如下:
步骤一、将49wt%HF,500cc加入放了纯水的石英槽内;
步骤二、将步骤一中石英槽内的加有49wt%HF的混合液在石英槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在石英槽内只加入纯水,在石英槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、加入正常药液,对硅片进行清洗并测试表面金属。均符合要求。
实施例二
Teflon槽具体清洗方法如下:
步骤一、将30wt%H2O2,1L加入放了纯水的Teflon槽内;
步骤二、将步骤一中Teflon槽内的加有30wt%H2O2的混合液在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在Teflon槽内只加入纯水,在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、加入正常药液,对硅片进行清洗并测试表面金属。均符合要求。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种去除处理槽金属的洗槽方法,所述处理槽是针对硅片清洗的处理槽,其特征在于:通过将清洗液在处理槽、管道和过滤器中循环清洗,从而将处理槽、管道和过滤器中残留的金属同步清洗去除,从而实现对后续硅片进行清洗时,处理槽、管道和过滤器中均无残留金属。
2.根据权利要求1所述的一种去除处理槽金属的洗槽方法,其特征在于:所述处理槽为石英槽。
3.根据权利要求2所述的一种去除处理槽金属的洗槽方法,其特征在于:具体清洗方法如下:
步骤一、将49wt%HF,500cc加入放了纯水的石英槽内;
步骤二、将步骤一中石英槽内的加有49wt%HF的混合液在石英槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在石英槽内只加入纯水,在石英槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、完成清洗。
4.根据权利要求1所述的一种去除处理槽金属的洗槽方法,其特征在于:所述处理槽为Teflon槽。
5.根据权利要求4所述的一种去除处理槽金属的洗槽方法,其特征在于:具体清洗方法如下:
步骤一、将30wt%H2O2,1L加入放了纯水的Teflon槽内;
步骤二、将步骤一中Teflon槽内的加有30wt%H2O2的混合液在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗25-35分钟;
步骤三、将步骤二中的循环清洗液体排出;
步骤四、在Teflon槽内只加入纯水,在Teflon槽、管道和过滤器中循环清洗15-25分钟;
步骤五、将步骤四中的循环清洗液体排出;
步骤六、重复一次步骤四和步骤五;
步骤七、完成清洗。
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