JPH0639375A - 排水処理装置 - Google Patents
排水処理装置Info
- Publication number
- JPH0639375A JPH0639375A JP19955992A JP19955992A JPH0639375A JP H0639375 A JPH0639375 A JP H0639375A JP 19955992 A JP19955992 A JP 19955992A JP 19955992 A JP19955992 A JP 19955992A JP H0639375 A JPH0639375 A JP H0639375A
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- JP
- Japan
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- detergent
- surfactant
- reverse osmosis
- wastewater treatment
- osmosis membrane
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体部品、精密機械部品などの洗浄工程から
の排水から効率よく洗剤、界面活性剤および水洗水を回
収する。 【構成】洗浄工程で排出された洗剤、界面活性剤などを
含む排水を濾過して洗剤、界面活性剤を回収する限外濾
過膜装置７、および限外濾過膜装置７からの透過水を清
浄化する逆浸透膜９を連接した排水処理装置。
の排水から効率よく洗剤、界面活性剤および水洗水を回
収する。 【構成】洗浄工程で排出された洗剤、界面活性剤などを
含む排水を濾過して洗剤、界面活性剤を回収する限外濾
過膜装置７、および限外濾過膜装置７からの透過水を清
浄化する逆浸透膜９を連接した排水処理装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体部品、精密機械部
品などの被洗浄体を洗剤で洗浄する工程で排出される排
水から洗剤および界面活性剤を効率よく濾別・回収する
とともに、清浄化した排水を洗浄水として有効に活用す
るための排水処理装置に関するものである。
品などの被洗浄体を洗剤で洗浄する工程で排出される排
水から洗剤および界面活性剤を効率よく濾別・回収する
とともに、清浄化した排水を洗浄水として有効に活用す
るための排水処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体部品、精密機械部品などの不純物
を洗浄除去するためには、安価で洗浄効果が優れ、かつ
回収が容易であることから、従来からフロンが広く利用
されている。しかし、回収時に漏れる微量のフロンが大
気圏に蓄積してそのオゾン層を破壊し、地球表面への紫
外線照射量を増加させるという問題が起こっている。こ
のため、地球環境を破壊しないフロン代替用洗剤の開発
が急がれ、各種の洗剤の検討とともに、これらの洗剤を
用いる洗浄の検討がおこなわれている。しかし、これら
の洗剤はフロンに比較して回収が困難であるという問題
がある。
を洗浄除去するためには、安価で洗浄効果が優れ、かつ
回収が容易であることから、従来からフロンが広く利用
されている。しかし、回収時に漏れる微量のフロンが大
気圏に蓄積してそのオゾン層を破壊し、地球表面への紫
外線照射量を増加させるという問題が起こっている。こ
のため、地球環境を破壊しないフロン代替用洗剤の開発
が急がれ、各種の洗剤の検討とともに、これらの洗剤を
用いる洗浄の検討がおこなわれている。しかし、これら
の洗剤はフロンに比較して回収が困難であるという問題
がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記した問題
点に鑑み、フロン以外の洗剤を使用した洗浄工程から排
出される排水から効率よく洗剤および界面活性剤を回収
するするとともに、清浄化した排水を有効に活用するこ
とを可能にする廃水処理装置の提供を目的とするもので
ある。
点に鑑み、フロン以外の洗剤を使用した洗浄工程から排
出される排水から効率よく洗剤および界面活性剤を回収
するするとともに、清浄化した排水を有効に活用するこ
とを可能にする廃水処理装置の提供を目的とするもので
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記した本発明の目的
は、洗浄工程から排出された洗剤、界面活性剤、油分を
主成分とするエマルジョンを含有する排水を濾過して洗
剤、油分、界面活性剤を回収するための限外濾過膜装置
および該限外濾過膜装置からの透過水の残存界面活性剤
などを除去し清浄化水を得るための逆浸透膜装置を連設
してなる排水処理装置によって達成することができる。
は、洗浄工程から排出された洗剤、界面活性剤、油分を
主成分とするエマルジョンを含有する排水を濾過して洗
剤、油分、界面活性剤を回収するための限外濾過膜装置
および該限外濾過膜装置からの透過水の残存界面活性剤
などを除去し清浄化水を得るための逆浸透膜装置を連設
してなる排水処理装置によって達成することができる。
【０００５】図１は本発明の廃水処理装置を構成する各
処理槽の好適なフローを示し、以下図１に基づいて本発
明の廃水処理装置での処理操作を述べる。図１において
半導体部品、精密機械部品などの被洗浄体を洗浄工程に
導き、洗剤槽１、エマルジョン槽２、水洗槽３、４、乾
燥室５の順で連続または半連続で処理を行なって清浄化
された物品を得る。この洗浄工程では、洗剤槽１におい
て被洗浄体に付着しているロジンフラックス、切削油な
どの油分は洗剤によって溶解されるとともに、洗剤に含
まれている界面活性剤によっても油分は除去される。次
いでエマルジョン槽２では水によって洗剤、油分、界面
活性剤をエマルジョン溶液とする。なお、洗剤槽２およ
びエマルジョン槽２では超音波洗浄を行なって油分など
の除去効果を助長させる。
処理槽の好適なフローを示し、以下図１に基づいて本発
明の廃水処理装置での処理操作を述べる。図１において
半導体部品、精密機械部品などの被洗浄体を洗浄工程に
導き、洗剤槽１、エマルジョン槽２、水洗槽３、４、乾
燥室５の順で連続または半連続で処理を行なって清浄化
された物品を得る。この洗浄工程では、洗剤槽１におい
て被洗浄体に付着しているロジンフラックス、切削油な
どの油分は洗剤によって溶解されるとともに、洗剤に含
まれている界面活性剤によっても油分は除去される。次
いでエマルジョン槽２では水によって洗剤、油分、界面
活性剤をエマルジョン溶液とする。なお、洗剤槽２およ
びエマルジョン槽２では超音波洗浄を行なって油分など
の除去効果を助長させる。
【０００６】水洗槽３、４では被洗浄体からのエマルジ
ョン（洗剤／油／界面活性剤／水の乳化物）、ごみなど
が水洗除去され、このエマルジョン溶液を限外濾過濃縮
槽６に受け入れた後、これを限外濾過膜装置７に導入す
る。限外濾過装置７では限外濾過膜によってエマルジョ
ン溶液やごみを水溶液から濾別し、濾別したエマルジョ
ン溶液やごみを限外濾過濃縮槽６に戻す。この繰返しに
よって限外濾過濃縮槽６中のエマルジョン濃度が上昇す
ると、エマルジョンがごみを凝集させるとともに限外濾
過濃縮槽６の表面に浮上する。この浮上したエマルジョ
ンをデカンター１０に移し、再分離を行ない浮上エマル
ジョンを廃棄した後に下層エマルジョンをエマルジョン
槽２に戻し、再利用する。
ョン（洗剤／油／界面活性剤／水の乳化物）、ごみなど
が水洗除去され、このエマルジョン溶液を限外濾過濃縮
槽６に受け入れた後、これを限外濾過膜装置７に導入す
る。限外濾過装置７では限外濾過膜によってエマルジョ
ン溶液やごみを水溶液から濾別し、濾別したエマルジョ
ン溶液やごみを限外濾過濃縮槽６に戻す。この繰返しに
よって限外濾過濃縮槽６中のエマルジョン濃度が上昇す
ると、エマルジョンがごみを凝集させるとともに限外濾
過濃縮槽６の表面に浮上する。この浮上したエマルジョ
ンをデカンター１０に移し、再分離を行ない浮上エマル
ジョンを廃棄した後に下層エマルジョンをエマルジョン
槽２に戻し、再利用する。
【０００７】一方、限外濾過膜装置７でエマルジョンを
濾別したあとの透過水中には界面活性剤など水に溶解す
る成分が僅かではあるが含まれているため、この透過水
を逆浸透膜装置９に導入する。逆浸透膜装置９の逆浸透
膜で界面活性剤などの溶解成分が除去された清浄な透過
液は水洗槽４に戻して水洗水として再利用する。また、
界面活性剤などを含む逆浸透膜での濃縮液は逆浸透濾過
濃縮槽８に戻すことで濃縮液の濃度が上昇するが、この
濃度の高くなった濃縮液の大部分はエマルジョン槽２の
メイクアップ用に再使用し、一部分は廃棄する。
濾別したあとの透過水中には界面活性剤など水に溶解す
る成分が僅かではあるが含まれているため、この透過水
を逆浸透膜装置９に導入する。逆浸透膜装置９の逆浸透
膜で界面活性剤などの溶解成分が除去された清浄な透過
液は水洗槽４に戻して水洗水として再利用する。また、
界面活性剤などを含む逆浸透膜での濃縮液は逆浸透濾過
濃縮槽８に戻すことで濃縮液の濃度が上昇するが、この
濃度の高くなった濃縮液の大部分はエマルジョン槽２の
メイクアップ用に再使用し、一部分は廃棄する。
【０００８】前記限外濾過膜としては、洗浄水の水温が
６０〜８０℃程度に高くでき、広範囲な温度に対しても
処理水質や透過水量が安定し、また濾過／逆洗の繰返し
に対しても形状変化に対して強いなどの点でセラミック
ス製で逆洗が可能なものが好適である。 また、逆浸透
膜としては限外濾過膜装置からの透過水中の低分子有機
物を効率よく除去し純水化できる点でのスパイラル型逆
浸透膜エレメントが好適である。
６０〜８０℃程度に高くでき、広範囲な温度に対しても
処理水質や透過水量が安定し、また濾過／逆洗の繰返し
に対しても形状変化に対して強いなどの点でセラミック
ス製で逆洗が可能なものが好適である。 また、逆浸透
膜としては限外濾過膜装置からの透過水中の低分子有機
物を効率よく除去し純水化できる点でのスパイラル型逆
浸透膜エレメントが好適である。
【０００９】また、本発明で適用する洗剤はフロンを除
く他かに特に制限はないが、デュポン社製の脂肪族炭化
水素をベースにしたフロン代替洗浄剤である“アクサレ
ル”３２、“アクサレル”５２、“アクサレル”５６な
どが好適である。
く他かに特に制限はないが、デュポン社製の脂肪族炭化
水素をベースにしたフロン代替洗浄剤である“アクサレ
ル”３２、“アクサレル”５２、“アクサレル”５６な
どが好適である。
【００１０】
【効果】本発明の排水処理装置は前記した構成を有する
ため、洗剤、界面活性剤および水洗水を有効に回収、再
利用でき、洗浄工程の低コスト化を図ることが可能にな
る。
ため、洗剤、界面活性剤および水洗水を有効に回収、再
利用でき、洗浄工程の低コスト化を図ることが可能にな
る。
【図１】本発明の排水処理装置を構成する各処理槽の好
適なフローを示す。
適なフローを示す。
１：洗剤槽 ２：エマルジョン槽 ３、４：水洗槽 ７：限外濾過膜装置 ９：逆浸透膜装置
Claims (4)
- 【請求項１】洗浄工程から排出された洗剤、界面活性
剤、油分を主成分とするエマルジョンを含有する排水を
濾過して洗剤、油分、界面活性剤を回収するための限外
濾過膜装置および該限外濾過膜装置からの透過水の残存
界面活性剤などを除去し清浄化水を得るための逆浸透膜
装置を連設してなる排水処理装置。 - 【請求項２】洗浄工程からの排水中に含まれる洗剤が脂
肪族炭化水素をベースとした洗剤である請求項１記載の
排水処理装置。 - 【請求項３】限外濾過膜がセラミックス製で逆洗可能な
ものである請求項１または請求項２記載の排水処理装
置。 - 【請求項４】逆浸透膜がスパイラル型逆浸透膜エレメン
トである請求項１または請求項２記載の排水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19955992A JPH0639375A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 排水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19955992A JPH0639375A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 排水処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0639375A true JPH0639375A (ja) | 1994-02-15 |
Family
ID=16409842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19955992A Pending JPH0639375A (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 排水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0639375A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277203B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-08-21 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
| US6589358B1 (en) | 1999-06-30 | 2003-07-08 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for cleaning an article |
| KR100429763B1 (ko) * | 2002-01-08 | 2004-05-03 | 정건용 | 인쇄회로기판의 세척폐액으로부터 유효성분의 회수방법 |
| CN115487683A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-20 | 中冶南方都市环保工程技术股份有限公司 | 一种焦化废水反渗透膜清洗药剂 |
-
1992
- 1992-07-27 JP JP19955992A patent/JPH0639375A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277203B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-08-21 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
| US6319330B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-11-20 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
| US6589358B1 (en) | 1999-06-30 | 2003-07-08 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for cleaning an article |
| KR100429763B1 (ko) * | 2002-01-08 | 2004-05-03 | 정건용 | 인쇄회로기판의 세척폐액으로부터 유효성분의 회수방법 |
| CN115487683A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-20 | 中冶南方都市环保工程技术股份有限公司 | 一种焦化废水反渗透膜清洗药剂 |
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