JP3290919B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D11/00—Solvent extraction
- B01D11/04—Solvent extraction of solutions which are liquid
- B01D11/0492—Applications, solvents used
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば電子部
品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各
種被洗浄物（ワーク）を洗浄処理するような洗浄装置に
関する。
品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各
種被洗浄物（ワーク）を洗浄処理するような洗浄装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、上述例の各種被洗浄物を洗浄処理
するには、例えばグリコールエーテル系の洗浄剤でワー
クを洗浄し、洗浄後のワークに付着した洗浄剤をＩＰＡ
（イソプロピルエーテル）でリンスする手段がとられて
いた。上述のＩＰＡは比重０．８、沸点８２．４℃、引
火点が常温以下の可燃性液体（危険物）であるため、洗
浄装置に防爆構造を付加する必要があり、装置構造が複
雑化するばかりでなく、装置コストが高価となる問題点
があった。
するには、例えばグリコールエーテル系の洗浄剤でワー
クを洗浄し、洗浄後のワークに付着した洗浄剤をＩＰＡ
（イソプロピルエーテル）でリンスする手段がとられて
いた。上述のＩＰＡは比重０．８、沸点８２．４℃、引
火点が常温以下の可燃性液体（危険物）であるため、洗
浄装置に防爆構造を付加する必要があり、装置構造が複
雑化するばかりでなく、装置コストが高価となる問題点
があった。
【０００３】このような問題点を解決するために本出願
人は既に特開平９−２２２０１号公報に記載の洗浄装置
を発明した。すなわち、グルコールエーテル系溶剤とし
てＰＳ−２（商品名）を用い、この洗浄溶剤（ＰＳ−
２）を貯溜した洗浄槽の液面上部にフッ素系溶剤（リン
ス溶剤）としてのＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボ
ン）またはＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）の
蒸気層を形成し、洗浄溶剤にて被洗浄物としてのワーク
を洗浄し、洗浄後のワークを蒸気層まで引き上げて、リ
ンス（ワークに付着したＰＳ−２を除去）すると共に、
上述の洗浄槽にプール槽を隣設し、洗浄溶剤にリンス溶
剤が混入された溶液を該プール槽にて一旦貯溜した後
に、この溶液を比重分離部に導出して、ＰＳ−２の比重
＝０．９４〜０，９６とＨＦＣの比重＝１．５８（また
はＨＦＥの比重＝１．５２）との比重差を利用して比重
分離すべく構成した洗浄装置である。
人は既に特開平９−２２２０１号公報に記載の洗浄装置
を発明した。すなわち、グルコールエーテル系溶剤とし
てＰＳ−２（商品名）を用い、この洗浄溶剤（ＰＳ−
２）を貯溜した洗浄槽の液面上部にフッ素系溶剤（リン
ス溶剤）としてのＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボ
ン）またはＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）の
蒸気層を形成し、洗浄溶剤にて被洗浄物としてのワーク
を洗浄し、洗浄後のワークを蒸気層まで引き上げて、リ
ンス（ワークに付着したＰＳ−２を除去）すると共に、
上述の洗浄槽にプール槽を隣設し、洗浄溶剤にリンス溶
剤が混入された溶液を該プール槽にて一旦貯溜した後
に、この溶液を比重分離部に導出して、ＰＳ−２の比重
＝０．９４〜０，９６とＨＦＣの比重＝１．５８（また
はＨＦＥの比重＝１．５２）との比重差を利用して比重
分離すべく構成した洗浄装置である。
【０００４】ここで、上述のＰＳ−２、ＨＦＣ、ＨＦＥ
のそれぞれの物性は次の通りである。ＰＳ−２の物性（洗浄溶剤の物性） 外 観……無色透明液体 有効成分……９９％以上 比 重……０．９４０〜０．９６０ 引火点 ……１００℃以上 粘 度……５．３ｍＰａ・Ｓ 沸 点……２１０〜２３０℃ ｐＨ ……化学的中性 表面張力……２７．７dyne/cm 浸透力 ……１．７秒 臭 気……グリコールエーテル臭 なお、上記ＰＳ−２（グリコールエーテル系溶剤）は危
険物第４類第３石油類に該当し、優れた洗浄性および高
絶縁信頼性を有する非水系洗浄剤である。
のそれぞれの物性は次の通りである。ＰＳ−２の物性（洗浄溶剤の物性） 外 観……無色透明液体 有効成分……９９％以上 比 重……０．９４０〜０．９６０ 引火点 ……１００℃以上 粘 度……５．３ｍＰａ・Ｓ 沸 点……２１０〜２３０℃ ｐＨ ……化学的中性 表面張力……２７．７dyne/cm 浸透力 ……１．７秒 臭 気……グリコールエーテル臭 なお、上記ＰＳ−２（グリコールエーテル系溶剤）は危
険物第４類第３石油類に該当し、優れた洗浄性および高
絶縁信頼性を有する非水系洗浄剤である。
【０００５】ＨＦＣの物性（リンス溶剤の物性） 化学式 ……ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ3 分子量 ……２５２ 沸 点……５４℃ 凝固点 ……マイナス８０℃ 比 重……１．５８ 粘 度……０．６７cp 表面張力……１４．１dyne/cm 比 熱……０．２８３cal/gm℃ 蒸発潜熱……２４．２cal/gm 引火点 ……なしＨＦＥの物性（リンス溶剤の物性） 化学式 ……ＣＦ4 Ｆ9 ＯＣＨ3 沸 点……６０℃ 表面張力……１３．６dyne/cm 比 熱……０．２８cal/gm℃ 引火点 ……なし ＶＯＣ ……なし ＯＤＰ ……０ 比 重……１．５２ 上述の如く構成すると、ＩＰＡを何等使用する必要がな
いので、被洗浄物（ワーク）に対して確実な洗浄効果、
リンス効果を得ることができ、また防爆構造を省略する
ことができる利点がある。しかし、この構成によると、
上述の比重分離部においてＰＳ−２とＨＦＣ（またはＨ
ＦＥ）とを比重分離する時、ＰＳ−２とＨＦＣ（または
ＨＦＥ）とが溶け込む不都合が発生し、これら各溶剤の
充分な再利用化が達成できないという新たな問題点が発
生した。
いので、被洗浄物（ワーク）に対して確実な洗浄効果、
リンス効果を得ることができ、また防爆構造を省略する
ことができる利点がある。しかし、この構成によると、
上述の比重分離部においてＰＳ−２とＨＦＣ（またはＨ
ＦＥ）とを比重分離する時、ＰＳ−２とＨＦＣ（または
ＨＦＥ）とが溶け込む不都合が発生し、これら各溶剤の
充分な再利用化が達成できないという新たな問題点が発
生した。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この発明の請求項１記
載の発明は、リンス時にフッ素系溶剤に溶け込んだグリ
コールエーテル系溶剤を、水を加えて、つまり加水処理
によりフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤およ
び水とに分離することで、フッ素系溶剤とグリコールエ
ーテル系溶剤とを完全に分離することができ、良好な洗
浄、リンス効果を確保しつつ、防爆構造も不要となる洗
浄装置の提供を目的とする。
載の発明は、リンス時にフッ素系溶剤に溶け込んだグリ
コールエーテル系溶剤を、水を加えて、つまり加水処理
によりフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤およ
び水とに分離することで、フッ素系溶剤とグリコールエ
ーテル系溶剤とを完全に分離することができ、良好な洗
浄、リンス効果を確保しつつ、防爆構造も不要となる洗
浄装置の提供を目的とする。
【０００７】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の目的と併せて、分離手段に、溶剤と
水とを撹拌する撹拌手段を設けることで、撹拌処理によ
り水の分子がグリコールエーテル系溶剤に良好に結合
し、撹拌後の静置比重分離効果を高めることができる洗
浄装置の提供を目的とする。
求項１記載の発明の目的と併せて、分離手段に、溶剤と
水とを撹拌する撹拌手段を設けることで、撹拌処理によ
り水の分子がグリコールエーテル系溶剤に良好に結合
し、撹拌後の静置比重分離効果を高めることができる洗
浄装置の提供を目的とする。
【０００８】この発明の請求項３記載の発明は、上記請
求項１または２記載の発明の目的と併せて、上述の分離
手段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用すること
で、リサイクル化を達成することができる洗浄装置の提
供を目的とする。
求項１または２記載の発明の目的と併せて、上述の分離
手段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用すること
で、リサイクル化を達成することができる洗浄装置の提
供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、グリコールエーテル系溶剤で被洗浄物を洗浄
した後に、フッ素系溶剤の液または蒸気で被洗浄物をリ
ンスする洗浄装置であって、上記リンス時にフッ素系溶
剤に溶け込んだグリコールエーテル系溶剤を、水を加え
てフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤および水
とに分離する分離手段が設けられた洗浄装置であること
を特徴とする。
の発明は、グリコールエーテル系溶剤で被洗浄物を洗浄
した後に、フッ素系溶剤の液または蒸気で被洗浄物をリ
ンスする洗浄装置であって、上記リンス時にフッ素系溶
剤に溶け込んだグリコールエーテル系溶剤を、水を加え
てフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤および水
とに分離する分離手段が設けられた洗浄装置であること
を特徴とする。
【００１０】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の構成と併せて、上記分離手段には溶
剤と水とを撹拌する撹拌手段が設けられた洗浄装置であ
ることを特徴とする。
求項１記載の発明の構成と併せて、上記分離手段には溶
剤と水とを撹拌する撹拌手段が設けられた洗浄装置であ
ることを特徴とする。
【００１１】この発明の請求項３記載の発意は、上記請
求項１または２記載の発明の構成と併せて、上記分離手
段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用する洗浄装置
であることを特徴とする。
求項１または２記載の発明の構成と併せて、上記分離手
段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用する洗浄装置
であることを特徴とする。
【００１２】
【発明の作用及び効果】この発明の請求項１記載の発明
によれば、グリコールエーテル系溶剤で被洗浄物（ワー
ク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤の液または蒸気で被
洗浄物をリンスするので、被洗浄物に対して確実な洗浄
効果およびリンス効果を得ることができると共に、従来
の如きＩＰＡを一切使用しないので、装置の防爆構造を
省略して、その構造の簡素化とコストダウンの両立を図
ることができる効果がある。
によれば、グリコールエーテル系溶剤で被洗浄物（ワー
ク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤の液または蒸気で被
洗浄物をリンスするので、被洗浄物に対して確実な洗浄
効果およびリンス効果を得ることができると共に、従来
の如きＩＰＡを一切使用しないので、装置の防爆構造を
省略して、その構造の簡素化とコストダウンの両立を図
ることができる効果がある。
【００１３】しかも上述の分離手段は、リンス時にフッ
素系溶剤に溶け込んだグリコールエーテル系溶剤を、水
を加えてフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤お
よび水とに分離する。これを模式的に示すと、（フッ素
系溶剤＋グリコールエーテル系溶剤）は加水処理により
（グリコールエーテル系溶剤＋Ｈ2 Ｏ）と（フッ素系溶
剤）とに分離される。このようにグリコールエーテル系
溶剤の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤とグリコール
エーテル系溶剤とを完全に分離することができる効果が
あり、溶剤の再利用化が可能となる効果がある。
素系溶剤に溶け込んだグリコールエーテル系溶剤を、水
を加えてフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤お
よび水とに分離する。これを模式的に示すと、（フッ素
系溶剤＋グリコールエーテル系溶剤）は加水処理により
（グリコールエーテル系溶剤＋Ｈ2 Ｏ）と（フッ素系溶
剤）とに分離される。このようにグリコールエーテル系
溶剤の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤とグリコール
エーテル系溶剤とを完全に分離することができる効果が
あり、溶剤の再利用化が可能となる効果がある。
【００１４】この発明の請求項２記載の発明によれば、
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、上述の分離手
段に設けられた撹拌手段が溶剤（フッ素系溶剤、グリコ
ールエーテル系溶剤）と水とを撹拌するので、この撹拌
処理により水の分子がグリコールエーテル系溶剤に良好
に結合し、撹拌後の静置比重分離効果を大幅に高めるこ
とができる効果がある。
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、上述の分離手
段に設けられた撹拌手段が溶剤（フッ素系溶剤、グリコ
ールエーテル系溶剤）と水とを撹拌するので、この撹拌
処理により水の分子がグリコールエーテル系溶剤に良好
に結合し、撹拌後の静置比重分離効果を大幅に高めるこ
とができる効果がある。
【００１５】この発明の請求項３記載の発明によれば、
上記請求項１または２記載の発明の効果と併せて、上述
の分離手段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用する
ので、そのリサイクル化を達成することができる効果が
ある。
上記請求項１または２記載の発明の効果と併せて、上述
の分離手段で比重分離されたフッ素系溶剤を再利用する
ので、そのリサイクル化を達成することができる効果が
ある。
【００１６】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は洗浄装置を示し、図１において、この洗
浄装置は炭化水素系溶剤の１つとしての洗浄溶剤Ｇを貯
溜した２つの洗浄槽１，２と、分離手段としてのプール
タンク３と、被洗浄物としてのワーク（図示せず）を洗
浄、リンスおよび乾燥する洗浄乾燥部４とを備えてい
る。
述する。図面は洗浄装置を示し、図１において、この洗
浄装置は炭化水素系溶剤の１つとしての洗浄溶剤Ｇを貯
溜した２つの洗浄槽１，２と、分離手段としてのプール
タンク３と、被洗浄物としてのワーク（図示せず）を洗
浄、リンスおよび乾燥する洗浄乾燥部４とを備えてい
る。
【００１７】ここで、上述のグリコールエーテル系溶剤
（洗浄溶剤）ＧとしてはＰＳ−２（商品名）を用いる。
このＰＳ−２の物性については前述した通りであって、
各洗浄槽１，２においては洗浄溶剤Ｇをその引火点（１
００℃以下）に対して低温の４０℃前後に加熱してワー
ク洗浄に供する。一方、上述の洗浄乾燥部４は、上面に
ワーク出入口５が形成されたタンク６の下部に蒸溜槽
７、煮沸槽８、超音波槽９、水分離槽１０をこの順に形
成している。
（洗浄溶剤）ＧとしてはＰＳ−２（商品名）を用いる。
このＰＳ−２の物性については前述した通りであって、
各洗浄槽１，２においては洗浄溶剤Ｇをその引火点（１
００℃以下）に対して低温の４０℃前後に加熱してワー
ク洗浄に供する。一方、上述の洗浄乾燥部４は、上面に
ワーク出入口５が形成されたタンク６の下部に蒸溜槽
７、煮沸槽８、超音波槽９、水分離槽１０をこの順に形
成している。
【００１８】上述の蒸溜槽７にはフッ素系溶剤のリンス
溶剤Ｆを貯溜すると共に、このリンス溶剤Ｆをその沸点
に加熱する加熱手段としてのヒータ１１を取付けてい
る。図１の実施例では上述のフッ素系溶剤（リンス溶
剤）ＦとしてＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）
を用いるのでヒータ１１にてリンス溶剤Ｆをその沸点
（５４℃）に加熱するが、ＨＦＣに代えてＨＦＥを用い
る場合にはその沸点（６０℃）に加熱するとよい。な
お、これら各溶剤（ＨＦＣ、ＨＦＥ）の物性は前述した
通りである。
溶剤Ｆを貯溜すると共に、このリンス溶剤Ｆをその沸点
に加熱する加熱手段としてのヒータ１１を取付けてい
る。図１の実施例では上述のフッ素系溶剤（リンス溶
剤）ＦとしてＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）
を用いるのでヒータ１１にてリンス溶剤Ｆをその沸点
（５４℃）に加熱するが、ＨＦＣに代えてＨＦＥを用い
る場合にはその沸点（６０℃）に加熱するとよい。な
お、これら各溶剤（ＨＦＣ、ＨＦＥ）の物性は前述した
通りである。
【００１９】上述の蒸溜槽７にオーバフロー部１４を介
して隣設された煮沸槽８にはフッ素系溶剤のリンス溶剤
Ｆを貯溜すると共に、このリンス溶剤ＦつまりＨＦＣを
その沸点としての５４℃に加熱するヒータ１３を取付け
ている。上述の煮沸槽８にオーバフロー部１４を介して
隣設された超音波槽９にも上述同様にリンス溶剤Ｆを貯
溜している。また、この超音波槽９には超音波振動子１
５を取付けると共に、最良に超音波効果が得られる温度
（例えば４５〜５０℃）にリンス溶剤Ｆを加熱するヒー
タ（図示せず）を配置している。
して隣設された煮沸槽８にはフッ素系溶剤のリンス溶剤
Ｆを貯溜すると共に、このリンス溶剤ＦつまりＨＦＣを
その沸点としての５４℃に加熱するヒータ１３を取付け
ている。上述の煮沸槽８にオーバフロー部１４を介して
隣設された超音波槽９にも上述同様にリンス溶剤Ｆを貯
溜している。また、この超音波槽９には超音波振動子１
５を取付けると共に、最良に超音波効果が得られる温度
（例えば４５〜５０℃）にリンス溶剤Ｆを加熱するヒー
タ（図示せず）を配置している。
【００２０】さらに上述のタンク６の上下方向中間部の
内周部にワークの出し入れを阻害しないように配設した
冷却手段としての冷却ジャケット１６と各槽７，８，９
の液面との間には蒸溜槽７でのリンス溶剤Ｆの加熱によ
る溶剤蒸気（ＨＦＣ蒸気）のリンス層１７（図示の便宜
上、多点にて示す）を形成している。このリンス層１７
で各槽７，８，９の液面を抑制することもできる。
内周部にワークの出し入れを阻害しないように配設した
冷却手段としての冷却ジャケット１６と各槽７，８，９
の液面との間には蒸溜槽７でのリンス溶剤Ｆの加熱によ
る溶剤蒸気（ＨＦＣ蒸気）のリンス層１７（図示の便宜
上、多点にて示す）を形成している。このリンス層１７
で各槽７，８，９の液面を抑制することもできる。
【００２１】一方、上述の水分離槽１０の直上部には冷
却手段としての冷却コイル１８を配設し、この冷却コイ
ル１８にてリンス溶剤Ｆの蒸気を液化し、液化したリン
ス溶剤Ｆを水分離槽１０に貯溜すべく構成すると共に、
このリンス溶剤Ｆ（比重＝１．５８）の液面上に浮遊
（浮上）した水（Ｈ2 Ｏ、比重＝１．０）をタンク６外
部へ分離除去すべく構成している。また上述の水分離槽
１０にはその下域部においてのみリンス溶剤Ｆの流動を
許容する仕切板１９（仕切手段）を立設配置している。
却手段としての冷却コイル１８を配設し、この冷却コイ
ル１８にてリンス溶剤Ｆの蒸気を液化し、液化したリン
ス溶剤Ｆを水分離槽１０に貯溜すべく構成すると共に、
このリンス溶剤Ｆ（比重＝１．５８）の液面上に浮遊
（浮上）した水（Ｈ2 Ｏ、比重＝１．０）をタンク６外
部へ分離除去すべく構成している。また上述の水分離槽
１０にはその下域部においてのみリンス溶剤Ｆの流動を
許容する仕切板１９（仕切手段）を立設配置している。
【００２２】ところで、前述のプールタンク３の底部に
設けられたポート３ａと蒸溜槽７との間を送液ポンプ２
０のサクションライン２１と吐出ライン２２とで連通
し、これら両ライン２１，２２には開閉弁２３，２４を
介設している。これら各要素２０〜２４はリンス時に煮
沸槽８、超音波槽９のＨＦＣ液に対して少量のＰＳ−２
が混入した溶剤がオーバフロー部１４，１２を介して蒸
溜槽７に溢流するが、この蒸溜槽７の溶剤（ＨＦＣ＋Ｐ
Ｓ−２）をこれら両者の分離に際して図１に点線で示す
経路を介してプールタンク３内へ送液するための手段で
ある。
設けられたポート３ａと蒸溜槽７との間を送液ポンプ２
０のサクションライン２１と吐出ライン２２とで連通
し、これら両ライン２１，２２には開閉弁２３，２４を
介設している。これら各要素２０〜２４はリンス時に煮
沸槽８、超音波槽９のＨＦＣ液に対して少量のＰＳ−２
が混入した溶剤がオーバフロー部１４，１２を介して蒸
溜槽７に溢流するが、この蒸溜槽７の溶剤（ＨＦＣ＋Ｐ
Ｓ−２）をこれら両者の分離に際して図１に点線で示す
経路を介してプールタンク３内へ送液するための手段で
ある。
【００２３】また上述のプールタンク３の下域および上
衣機に対応して設けられたポート３ｂ，３ｃと、送液ポ
ンプ２０および開閉弁２３間との間を、撹拌ライン２５
で連通し、この撹拌ライン２５には開閉弁２６を介設し
ている。さらに上述のプールタンク３の底部に設けられ
たポート３ｄと蒸溜槽７における液中との間を還流ライ
ン２７で連通し、この還流ライン２７にも開閉弁２８を
介設している。なお２９はエア抜きライン、３０は排出
ラインである。
衣機に対応して設けられたポート３ｂ，３ｃと、送液ポ
ンプ２０および開閉弁２３間との間を、撹拌ライン２５
で連通し、この撹拌ライン２５には開閉弁２６を介設し
ている。さらに上述のプールタンク３の底部に設けられ
たポート３ｄと蒸溜槽７における液中との間を還流ライ
ン２７で連通し、この還流ライン２７にも開閉弁２８を
介設している。なお２９はエア抜きライン、３０は排出
ラインである。
【００２４】このプールタンク３内の液体は上層Ａと下
層Ｂとに比重分離されるが、撹拌前においては上層Ａは
水（Ｈ2 Ｏ、比重＝１．０）、下層Ｂはリンス時におい
てＨＦＣ（比重＝１．５８）に対してＰＳ−２（比重＝
０．９４０〜０．９６０）が少量混入した溶剤であり、
撹拌後においては上層ＡはＰＳ−２と水とが結合した液
体、下層ＢはＨＦＣとなる。ここで、上述の各要素３
ｃ，３ｂ，２６，２５，２０，２４，２２，３ａを図１
に実線矢印で示す如く順に循環するループにて、溶剤
（ＰＳ−２、ＨＦＣ）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する撹拌
手段３１が構成されている。
層Ｂとに比重分離されるが、撹拌前においては上層Ａは
水（Ｈ2 Ｏ、比重＝１．０）、下層Ｂはリンス時におい
てＨＦＣ（比重＝１．５８）に対してＰＳ−２（比重＝
０．９４０〜０．９６０）が少量混入した溶剤であり、
撹拌後においては上層ＡはＰＳ−２と水とが結合した液
体、下層ＢはＨＦＣとなる。ここで、上述の各要素３
ｃ，３ｂ，２６，２５，２０，２４，２２，３ａを図１
に実線矢印で示す如く順に循環するループにて、溶剤
（ＰＳ−２、ＨＦＣ）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する撹拌
手段３１が構成されている。
【００２５】図示実施例は上記の如く構成するものにし
て以下作用を説明する。被洗浄物としてのワークを洗
浄、リンスおよび乾燥する場合には、まず上述のワーク
の前位の洗浄槽１内に浸漬して洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が
高いＰＳ−２）で洗浄する。
て以下作用を説明する。被洗浄物としてのワークを洗
浄、リンスおよび乾燥する場合には、まず上述のワーク
の前位の洗浄槽１内に浸漬して洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が
高いＰＳ−２）で洗浄する。
【００２６】次に前位の洗浄槽１の液中から引き上げた
ワークを次段の後位の洗浄槽２内に浸漬して上述同様の
洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。次
に後位の洗浄槽２の液中から引き上げ、かつ液切りを行
なった後のワークを、洗浄乾燥部４におけるワーク出入
口５から煮沸槽８内に浸漬してリンス溶剤Ｆでリンス
（ワークに付着したＰＳ−２を除去する）。
ワークを次段の後位の洗浄槽２内に浸漬して上述同様の
洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。次
に後位の洗浄槽２の液中から引き上げ、かつ液切りを行
なった後のワークを、洗浄乾燥部４におけるワーク出入
口５から煮沸槽８内に浸漬してリンス溶剤Ｆでリンス
（ワークに付着したＰＳ−２を除去する）。
【００２７】次に上述の煮沸槽８から引き上げたワーク
を次段の超音波槽９の液中に浸漬して、リンス溶剤Ｆと
超音波振動とにより超音波洗浄する。次に、このワーク
をＨＦＣ蒸気のリンス層１７まで引き上げ、このリンス
層１７にてワークをリンスした後に、リンス後のワーク
をワーク出入口５と冷却ジャケット１６との間の乾燥部
３１まで引き上げて乾燥処理し、一連の洗浄、リンスお
よび乾燥処理終了後のワークはワーク出入口５から引き
上げられて次工程へ搬送される。
を次段の超音波槽９の液中に浸漬して、リンス溶剤Ｆと
超音波振動とにより超音波洗浄する。次に、このワーク
をＨＦＣ蒸気のリンス層１７まで引き上げ、このリンス
層１７にてワークをリンスした後に、リンス後のワーク
をワーク出入口５と冷却ジャケット１６との間の乾燥部
３１まで引き上げて乾燥処理し、一連の洗浄、リンスお
よび乾燥処理終了後のワークはワーク出入口５から引き
上げられて次工程へ搬送される。
【００２８】ところで、上述のリンス時には煮沸槽８お
よび超音波槽１５のリンス溶剤Ｆ（ＨＦＣ液）に対して
少量の洗浄溶剤Ｇ（ＰＳ−２）が混入する。両者が混入
された溶剤（ＨＦＣ＋ＰＳ−２）はオーバフロー部１
４，１２を介して蒸溜槽１１内に溢流する。そこで、こ
れら両溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）を分離する際には、送
液ポンプ２０（揚水源と撹拌源とを兼ねる単一の送液手
段）を駆動して蒸溜槽１１内の溶剤を各要素２１，２
３，２０，２４，２２，３ａを介して点線矢印で示す如
くプールタンク３内に送液する。
よび超音波槽１５のリンス溶剤Ｆ（ＨＦＣ液）に対して
少量の洗浄溶剤Ｇ（ＰＳ−２）が混入する。両者が混入
された溶剤（ＨＦＣ＋ＰＳ−２）はオーバフロー部１
４，１２を介して蒸溜槽１１内に溢流する。そこで、こ
れら両溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）を分離する際には、送
液ポンプ２０（揚水源と撹拌源とを兼ねる単一の送液手
段）を駆動して蒸溜槽１１内の溶剤を各要素２１，２
３，２０，２４，２２，３ａを介して点線矢印で示す如
くプールタンク３内に送液する。
【００２９】次に、このプールタンク３内に送液された
溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）に対して水（Ｈ2 Ｏ）を加え
た後に、各要素３ｃ，３ｄ，２６，２５，２０，２４，
２２，３ａのループ構成の撹拌手段３１を駆動して、実
線矢印の経路に沿って、溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）と水
（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する。
溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）に対して水（Ｈ2 Ｏ）を加え
た後に、各要素３ｃ，３ｄ，２６，２５，２０，２４，
２２，３ａのループ構成の撹拌手段３１を駆動して、実
線矢印の経路に沿って、溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−２）と水
（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する。
【００３０】この撹拌により水（Ｈ2 Ｏ）の分子が洗浄
溶剤Ｇとしてのグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）
と良好に結合するので、撹拌後においてプールタンク３
内の液体を静置すると、その上層ＡにはＰＳ−２と水と
が結合した液体、下層Ｂにはリンス溶剤ＦとしてのＨＦ
Ｃが位置するように比重分離される。この下層Ｂに位置
するＨＦＣは還流ライン２７を介して蒸溜槽７に還流さ
れ、再利用に供される。なお上層Ａに位置する液体（Ｐ
Ｓ−２＋Ｈ2 Ｏ）は排出ライン３０を介してプールタン
ク３外へ適宜排出される。
溶剤Ｇとしてのグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）
と良好に結合するので、撹拌後においてプールタンク３
内の液体を静置すると、その上層ＡにはＰＳ−２と水と
が結合した液体、下層Ｂにはリンス溶剤ＦとしてのＨＦ
Ｃが位置するように比重分離される。この下層Ｂに位置
するＨＦＣは還流ライン２７を介して蒸溜槽７に還流さ
れ、再利用に供される。なお上層Ａに位置する液体（Ｐ
Ｓ−２＋Ｈ2 Ｏ）は排出ライン３０を介してプールタン
ク３外へ適宜排出される。
【００３１】以上要するに図１で示した実施例によれ
ば、グリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）で被洗浄物
（ワーク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤（ＨＦＣ）の
液または蒸気で被洗浄物をリンスするので、被洗浄物に
対して確実な洗浄効果およびリンス効果を得ることがで
きると共に、従来の如きＩＰＡを一切使用しないので、
装置の防爆構造を省略して、その構造の簡素化とコスト
ダウンの両立を図ることができる効果がある。
ば、グリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）で被洗浄物
（ワーク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤（ＨＦＣ）の
液または蒸気で被洗浄物をリンスするので、被洗浄物に
対して確実な洗浄効果およびリンス効果を得ることがで
きると共に、従来の如きＩＰＡを一切使用しないので、
装置の防爆構造を省略して、その構造の簡素化とコスト
ダウンの両立を図ることができる効果がある。
【００３２】しかも上述の分離手段（プールタンク３参
照）は、リンス時にフッ素系溶剤（ＨＦＣ）に溶け込ん
だグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）を、水（Ｈ2
Ｏ）を加えてフッ素系溶剤（ＨＦＣ）と、グリコールエ
ーテル系溶剤（ＰＳ−２）および水（Ｈ2 Ｏ）とに分離
する。これを模式的に示すと、（ＨＦＣ＋ＰＳ−２）は
加水処理により（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）と（ＨＦＣ）とに
分離される。このようにグリコールエーテル系溶剤（Ｐ
Ｓ−２）の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤（ＨＦ
Ｃ）とグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）とを完全
に分離することができる効果があり、溶剤の再利用化が
可能となる効果がある。
照）は、リンス時にフッ素系溶剤（ＨＦＣ）に溶け込ん
だグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）を、水（Ｈ2
Ｏ）を加えてフッ素系溶剤（ＨＦＣ）と、グリコールエ
ーテル系溶剤（ＰＳ−２）および水（Ｈ2 Ｏ）とに分離
する。これを模式的に示すと、（ＨＦＣ＋ＰＳ−２）は
加水処理により（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）と（ＨＦＣ）とに
分離される。このようにグリコールエーテル系溶剤（Ｐ
Ｓ−２）の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤（ＨＦ
Ｃ）とグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）とを完全
に分離することができる効果があり、溶剤の再利用化が
可能となる効果がある。
【００３３】また、上述の分離手段（プールタンク３参
照）に設けられた撹拌手段３１が溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−
２参照）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌するので、この撹拌処
理により水（Ｈ2 Ｏ）の分子がグリコールエーテル系溶
剤（ＰＳ−２）に良好に結合し、撹拌後の静置比重分離
の効果を大幅に高めることができる効果がある。
照）に設けられた撹拌手段３１が溶剤（ＨＦＣ、ＰＳ−
２参照）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌するので、この撹拌処
理により水（Ｈ2 Ｏ）の分子がグリコールエーテル系溶
剤（ＰＳ−２）に良好に結合し、撹拌後の静置比重分離
の効果を大幅に高めることができる効果がある。
【００３４】さらに上述の分離手段（プールタンク３参
照）で比重分離されたフッ素系溶剤（ＨＦＣ）を再利用
するので、そのリサイクル化を達成することができる効
果がある。
照）で比重分離されたフッ素系溶剤（ＨＦＣ）を再利用
するので、そのリサイクル化を達成することができる効
果がある。
【００３５】図２は洗浄装置の他の実施例を示し、この
実施例ではリンス溶剤ＦとしてＨＦＥ（ハイドロ・フル
オロ・エーテル）を用いている。また図１の蒸溜槽７に
代えて蒸溜塔３２を用いる構成と成している。なお、図
２において図１と同一の部分には同一符号を付して、そ
の詳しい説明を省略する。
実施例ではリンス溶剤ＦとしてＨＦＥ（ハイドロ・フル
オロ・エーテル）を用いている。また図１の蒸溜槽７に
代えて蒸溜塔３２を用いる構成と成している。なお、図
２において図１と同一の部分には同一符号を付して、そ
の詳しい説明を省略する。
【００３６】さらに、この実施例においてはオーバフロ
ー部１２の図示左側にバッファタンク３３を隣設し、こ
のバッファタンク３３と蒸溜塔３２Ｔ”×の加熱槽３４
とを送液ライン３５を接続している。上述の加熱槽３４
にはリンス溶剤Ｆとして用いるＨＦＥに対して洗浄溶剤
Ｇとしてのクリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）が混
入した溶液をＨＦＥの沸点（６０℃）に加熱するヒータ
３６を設け、溶剤蒸気を蒸溜塔３２内および蒸気ライン
３７を介してリンス層１７に供給すべく構成している。
ー部１２の図示左側にバッファタンク３３を隣設し、こ
のバッファタンク３３と蒸溜塔３２Ｔ”×の加熱槽３４
とを送液ライン３５を接続している。上述の加熱槽３４
にはリンス溶剤Ｆとして用いるＨＦＥに対して洗浄溶剤
Ｇとしてのクリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）が混
入した溶液をＨＦＥの沸点（６０℃）に加熱するヒータ
３６を設け、溶剤蒸気を蒸溜塔３２内および蒸気ライン
３７を介してリンス層１７に供給すべく構成している。
【００３７】ここで、上述の溶剤蒸気が蒸溜塔３２内を
通過する時、ＰＳ−２はその内部要素に吸着され、この
蒸溜塔３２の蒸溜出口部３２ａからは清浄なＨＦＥ蒸気
のみが供給される。なお、リンス溶剤ＦとしてＨＦＥを
用いるので煮沸槽８におけるヒータ１３でこのリンス溶
剤ＦをＨＦＥの沸点（６０℃）に加熱することは勿論で
ある。このように構成した図２の洗浄装置の作用を以下
に詳述する。
通過する時、ＰＳ−２はその内部要素に吸着され、この
蒸溜塔３２の蒸溜出口部３２ａからは清浄なＨＦＥ蒸気
のみが供給される。なお、リンス溶剤ＦとしてＨＦＥを
用いるので煮沸槽８におけるヒータ１３でこのリンス溶
剤ＦをＨＦＥの沸点（６０℃）に加熱することは勿論で
ある。このように構成した図２の洗浄装置の作用を以下
に詳述する。
【００３８】被洗浄物としてのワークを洗浄、リンスお
よび乾燥する場合には、先の図１の実施例と同様にし
て、まず上述のワークの前位の洗浄槽１内に浸漬して洗
浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。
よび乾燥する場合には、先の図１の実施例と同様にし
て、まず上述のワークの前位の洗浄槽１内に浸漬して洗
浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。
【００３９】次に前位の洗浄槽１の液中から引き上げた
ワークを次段の後位の洗浄槽２内に浸漬して上述同様の
洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。次
に後位の洗浄槽２の液中から引き上げ、かつ液切りを行
なった後のワークを、洗浄乾燥部４におけるワーク出入
口５から煮沸槽８内に浸漬してリンス溶剤Ｆでリンス
（ワークに付着したＰＳ−２を除去する）。
ワークを次段の後位の洗浄槽２内に浸漬して上述同様の
洗浄溶剤Ｇ（洗浄能力が高いＰＳ−２）で洗浄する。次
に後位の洗浄槽２の液中から引き上げ、かつ液切りを行
なった後のワークを、洗浄乾燥部４におけるワーク出入
口５から煮沸槽８内に浸漬してリンス溶剤Ｆでリンス
（ワークに付着したＰＳ−２を除去する）。
【００４０】次に上述の煮沸槽８から引き上げたワーク
を次段の超音波槽９の液中に浸漬して、リンス溶剤Ｆと
超音波振動とにより超音波洗浄する。次に、このワーク
をＨＦＥ蒸気のリンス層１７まで引き上げ、このリンス
層１７にてワークをリンスした後に、リンス後のワーク
をワーク出入口５と冷却ジャケット１６との間の乾燥部
３１まで引き上げて乾燥処理し、一連の洗浄、リンスお
よび乾燥処理終了後のワークはワーク出入口５から引き
上げられて次工程へ搬送される。
を次段の超音波槽９の液中に浸漬して、リンス溶剤Ｆと
超音波振動とにより超音波洗浄する。次に、このワーク
をＨＦＥ蒸気のリンス層１７まで引き上げ、このリンス
層１７にてワークをリンスした後に、リンス後のワーク
をワーク出入口５と冷却ジャケット１６との間の乾燥部
３１まで引き上げて乾燥処理し、一連の洗浄、リンスお
よび乾燥処理終了後のワークはワーク出入口５から引き
上げられて次工程へ搬送される。
【００４１】ところで、上述のリンス時には煮沸槽８お
よび超音波槽１５のリンス溶剤Ｆ（ＨＦＥ液）に対して
少量の洗浄溶剤Ｇ（ＰＳ−２）が混入する。両者が混入
された溶剤（ＨＦＥ＋ＰＳ−２）はオーバフロー部１
４，１２、バッファタンク３３、送液ライン３５を介し
て加熱槽３４内に送液される。そこで、これら両溶剤
（ＨＦＥ、ＰＳ−２）を分離する際には、送液ポンプ２
０を駆動して加熱槽３４内の溶剤を各要素２３，２１，
２０，２４，２２，３ａを介して点線矢印で示す如くプ
ールタンク３内に送液する。
よび超音波槽１５のリンス溶剤Ｆ（ＨＦＥ液）に対して
少量の洗浄溶剤Ｇ（ＰＳ−２）が混入する。両者が混入
された溶剤（ＨＦＥ＋ＰＳ−２）はオーバフロー部１
４，１２、バッファタンク３３、送液ライン３５を介し
て加熱槽３４内に送液される。そこで、これら両溶剤
（ＨＦＥ、ＰＳ−２）を分離する際には、送液ポンプ２
０を駆動して加熱槽３４内の溶剤を各要素２３，２１，
２０，２４，２２，３ａを介して点線矢印で示す如くプ
ールタンク３内に送液する。
【００４２】次に、このプールタンク３内に送液された
溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−２）に対して水（Ｈ2 Ｏ）を加え
た後に、各要素３ｃ，３ｄ，２５，２６，２０，２４，
２２，３ａのループ構成の撹拌手段３１を駆動して、実
線矢印の経路に沿って、溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−２）と水
（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する。
溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−２）に対して水（Ｈ2 Ｏ）を加え
た後に、各要素３ｃ，３ｄ，２５，２６，２０，２４，
２２，３ａのループ構成の撹拌手段３１を駆動して、実
線矢印の経路に沿って、溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−２）と水
（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌する。
【００４３】この撹拌により水（Ｈ2 Ｏ）の分子が洗浄
溶剤Ｆとしてのグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）
と良好に結合するので、撹拌後においてプールタンク３
内の液体を静置すると、その上層ＡにはＰＳ−２と水と
が結合した液体、下層Ｂにはリンス溶剤ＦとしてのＨＦ
Ｅが位置するように比重分離される。この下層Ｂに位置
するＨＦＥは還流ライン２７を介して加熱槽３４に還流
され、再利用に供される。なお上層Ａに位置する液体
（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）は排出ライン３０を介してプール
タンク３外へ適宜排出される。
溶剤Ｆとしてのグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）
と良好に結合するので、撹拌後においてプールタンク３
内の液体を静置すると、その上層ＡにはＰＳ−２と水と
が結合した液体、下層Ｂにはリンス溶剤ＦとしてのＨＦ
Ｅが位置するように比重分離される。この下層Ｂに位置
するＨＦＥは還流ライン２７を介して加熱槽３４に還流
され、再利用に供される。なお上層Ａに位置する液体
（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）は排出ライン３０を介してプール
タンク３外へ適宜排出される。
【００４４】以上要するに図２で示した実施例によれ
ば、グリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）で被洗浄物
（ワーク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤（ＨＦＥ）の
液または蒸気（蒸気層１７参照）で被洗浄物をリンスす
るので、被洗浄物に対して確実な洗浄効果およびリンス
効果を得ることができると共に、従来の如きＩＰＡを一
切使用しないので、装置の防爆構造を省略して、その構
造の簡素化とコストダウンの両立を図ることができる効
果がある。
ば、グリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）で被洗浄物
（ワーク）を洗浄した後に、フッ素系溶剤（ＨＦＥ）の
液または蒸気（蒸気層１７参照）で被洗浄物をリンスす
るので、被洗浄物に対して確実な洗浄効果およびリンス
効果を得ることができると共に、従来の如きＩＰＡを一
切使用しないので、装置の防爆構造を省略して、その構
造の簡素化とコストダウンの両立を図ることができる効
果がある。
【００４５】しかも上述の分離手段（プールタンク３参
照）は、リンス時にフッ素系溶剤（ＨＦＥ）に溶け込ん
だグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）を、水（Ｈ2
Ｏ）を加えてフッ素系溶剤（ＨＦＥ）と、グリコールエ
ーテル系溶剤（ＰＳ−２）および水（Ｈ2 Ｏ）とに分離
する。これを模式的に示すと、（ＨＦＥ＋ＰＳ−２）は
加水処理により（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）と（ＨＦＥ）とに
分離される。このようにグリコールエーテル系溶剤（Ｐ
Ｓ−２）の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤（ＨＦ
Ｅ）とグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）とを完全
に分離することができる効果があり、溶剤の再利用化が
可能となる効果がある。
照）は、リンス時にフッ素系溶剤（ＨＦＥ）に溶け込ん
だグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）を、水（Ｈ2
Ｏ）を加えてフッ素系溶剤（ＨＦＥ）と、グリコールエ
ーテル系溶剤（ＰＳ−２）および水（Ｈ2 Ｏ）とに分離
する。これを模式的に示すと、（ＨＦＥ＋ＰＳ−２）は
加水処理により（ＰＳ−２＋Ｈ2 Ｏ）と（ＨＦＥ）とに
分離される。このようにグリコールエーテル系溶剤（Ｐ
Ｓ−２）の相溶性を有効利用してフッ素系溶剤（ＨＦ
Ｅ）とグリコールエーテル系溶剤（ＰＳ−２）とを完全
に分離することができる効果があり、溶剤の再利用化が
可能となる効果がある。
【００４６】また、上述の分離手段（プールタンク３参
照）に設けられた撹拌手段３１が溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−
２参照）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌するので、この撹拌処
理により水（Ｈ2 Ｏ）の分子がグリコールエーテル系溶
剤（ＰＳ−２）に良好に結合し、撹拌後の静置比重分離
の効果を大幅に高めることができる効果がある。
照）に設けられた撹拌手段３１が溶剤（ＨＦＥ、ＰＳ−
２参照）と水（Ｈ2 Ｏ）とを撹拌するので、この撹拌処
理により水（Ｈ2 Ｏ）の分子がグリコールエーテル系溶
剤（ＰＳ−２）に良好に結合し、撹拌後の静置比重分離
の効果を大幅に高めることができる効果がある。
【００４７】さらに、上述の分離手段（プールタンク３
参照）で比重分離されたフッ素系溶剤（ＨＦＥ）を再利
用するので、そのリサイクル化を達成することができる
効果がある。
参照）で比重分離されたフッ素系溶剤（ＨＦＥ）を再利
用するので、そのリサイクル化を達成することができる
効果がある。
【００４８】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明のグリコールエーテル系溶剤は、実
施例の洗浄溶剤ＧとしてのＰＳ−２（商品名、非水系洗
浄剤）に対応し、以下同様に、フッ素系溶剤は、リンス
溶剤ＦとしてのＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボ
ン）またはＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に
対応し、分離手段は、プールタンク３に対応し、撹拌手
段は、ループ経路構成の撹拌手段３１に対応するも、こ
の発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるもので
はない。
において、この発明のグリコールエーテル系溶剤は、実
施例の洗浄溶剤ＧとしてのＰＳ−２（商品名、非水系洗
浄剤）に対応し、以下同様に、フッ素系溶剤は、リンス
溶剤ＦとしてのＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボ
ン）またはＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に
対応し、分離手段は、プールタンク３に対応し、撹拌手
段は、ループ経路構成の撹拌手段３１に対応するも、こ
の発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるもので
はない。
【００４９】例えば上記実施例においては２つの洗浄槽
１，２を設けたが、これは単槽構造であってもよく、或
は３槽以上の複数槽構造であってもよい。また煮沸槽８
と超音波槽９との合計２槽構造のリンス槽を例示した
が、これは単槽構造あるいは３槽以上の複数槽構造の何
れであってもよい。
１，２を設けたが、これは単槽構造であってもよく、或
は３槽以上の複数槽構造であってもよい。また煮沸槽８
と超音波槽９との合計２槽構造のリンス槽を例示した
が、これは単槽構造あるいは３槽以上の複数槽構造の何
れであってもよい。
【図１】 本発明の洗浄装置を示す系統図。
【図２】 本発明の洗浄装置の他の実施例を示す系統
図。
図。
３…プールタンク（分離手段） ３１…撹拌手段 Ｇ…洗浄溶剤（グリコールエーテル系溶剤） Ｆ…リンス溶剤（フッ素系溶剤）
Claims (3)
- 【請求項１】グリコールエーテル系溶剤で被洗浄物を洗
浄した後に、フッ素系溶剤の液または蒸気で被洗浄物を
リンスする洗浄装置であって、上記リンス時にフッ素系
溶剤に溶け込んだグリコールエーテル系溶剤を、水を加
えてフッ素系溶剤と、グリコールエーテル系溶剤および
水とに分離する分離手段が設けられた洗浄装置。 - 【請求項２】上記分離手段には溶剤と水とを撹拌する撹
拌手段が設けられた請求項１記載の洗浄装置。 - 【請求項３】上記分離手段で比重分離されたフッ素系溶
剤を再利用する請求項１または２記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617697A JP3290919B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617697A JP3290919B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10290963A JPH10290963A (ja) | 1998-11-04 |
| JP3290919B2 true JP3290919B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=14680684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11617697A Expired - Fee Related JP3290919B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3290919B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7604702B2 (en) * | 2004-10-29 | 2009-10-20 | Crest Ultrasonics Corp. | Method, apparatus, and system for bi-solvent based cleaning of precision components |
| JP5085954B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-11-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フッ素系溶剤含有溶液の精製方法及び精製装置ならびに洗浄装置 |
| JP5217697B2 (ja) * | 2008-07-03 | 2013-06-19 | 旭硝子株式会社 | 物品の水切り方法 |
| CN105320162B (zh) * | 2015-11-23 | 2018-01-30 | 深圳市深联电路有限公司 | 一种沉铜线除胶缸补水方法及系统 |
| JP2017170424A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 株式会社クリンビー | ワーク洗浄装置およびワーク洗浄方法 |
| JP2018118183A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 光治郎 大川 | 被洗浄物洗浄装置 |
| CN109454042A (zh) * | 2017-09-06 | 2019-03-12 | 株式会社富利美 | 工件清洁装置以及工件清洁方法 |
| JP7126830B2 (ja) * | 2018-01-19 | 2022-08-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生装置 |
| JP2021000603A (ja) * | 2019-06-21 | 2021-01-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フッ素化液体の精製方法、及び該方法を用いる精製装置 |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP11617697A patent/JP3290919B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10290963A (ja) | 1998-11-04 |
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