JPH10317182A - 塩化物除去洗浄装置 - Google Patents
塩化物除去洗浄装置Info
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- JPH10317182A JPH10317182A JP14866897A JP14866897A JPH10317182A JP H10317182 A JPH10317182 A JP H10317182A JP 14866897 A JP14866897 A JP 14866897A JP 14866897 A JP14866897 A JP 14866897A JP H10317182 A JPH10317182 A JP H10317182A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】塩化物を一切有さないフッ素系溶剤が貯溜され
たすすぎ槽と、このすすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化
物を除去する除去手段とを備えることで、有機溶剤によ
る洗浄後のワークからフッ素系溶剤と除去手段とを用い
て塩素イオンなどの塩化物をを除去することができ、純
水洗浄に代替できない精密部品等のワークをシミ、斑
点、錆の発生がない状態に洗浄、すすぎ処理することが
できる塩化物除去洗浄装置の提供を目的とする。 【解決手段】塩化物が抽出される有機溶剤でワークを洗
浄した後に、該ワークをすすぎ処理する塩化物除去洗浄
装置１１であって、塩化物を有さないフッ素系溶剤Ａが
貯溜されたすすぎ槽１４，１５と、上記すすぎ槽１４，
１５内の溶剤Ａに溶け込んだ塩化物を除去する除去手段
２９とを備えたことを特徴とする。
たすすぎ槽と、このすすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化
物を除去する除去手段とを備えることで、有機溶剤によ
る洗浄後のワークからフッ素系溶剤と除去手段とを用い
て塩素イオンなどの塩化物をを除去することができ、純
水洗浄に代替できない精密部品等のワークをシミ、斑
点、錆の発生がない状態に洗浄、すすぎ処理することが
できる塩化物除去洗浄装置の提供を目的とする。 【解決手段】塩化物が抽出される有機溶剤でワークを洗
浄した後に、該ワークをすすぎ処理する塩化物除去洗浄
装置１１であって、塩化物を有さないフッ素系溶剤Ａが
貯溜されたすすぎ槽１４，１５と、上記すすぎ槽１４，
１５内の溶剤Ａに溶け込んだ塩化物を除去する除去手段
２９とを備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば塩素イオ
ンなどの塩化物が抽出される有機溶剤で精密部品のよう
なワークを洗浄した後に、該ワークをすすぎ処理する塩
化物除去洗浄装置に関する。
ンなどの塩化物が抽出される有機溶剤で精密部品のよう
なワークを洗浄した後に、該ワークをすすぎ処理する塩
化物除去洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密部品のワークの洗浄には有機
溶剤（塩化物を含む）が用いられており、この有機溶剤
を用いない限り充分なワーク洗浄ができない現状である
が、塩化物を含む有機溶剤でワークを洗浄すると、洗浄
後のワークに塩素イオンが抽出され、この塩素イオンが
次に［化１］で示すように空気中の水分Ｈ2 Ｏと反応し
て塩化水素ＨＣｌが生成されるので、この塩化水素ＨＣ
ｌによりワークにはシミ、斑点、錆が発生する問題点が
あり、この点がユーザで問題になっていた。
溶剤（塩化物を含む）が用いられており、この有機溶剤
を用いない限り充分なワーク洗浄ができない現状である
が、塩化物を含む有機溶剤でワークを洗浄すると、洗浄
後のワークに塩素イオンが抽出され、この塩素イオンが
次に［化１］で示すように空気中の水分Ｈ2 Ｏと反応し
て塩化水素ＨＣｌが生成されるので、この塩化水素ＨＣ
ｌによりワークにはシミ、斑点、錆が発生する問題点が
あり、この点がユーザで問題になっていた。
【０００３】
【化１】
【０００４】このような問題点を解決するには、ワーク
を純水（電気低抗値１０ＭΩ）で洗浄することが考えら
れるが、錆が発生するような金属部品やウオータマーク
（水の成分に起因する斑点）を嫌う部品（ワーク）につ
いては上述の純水による洗浄は不可能であった。
を純水（電気低抗値１０ＭΩ）で洗浄することが考えら
れるが、錆が発生するような金属部品やウオータマーク
（水の成分に起因する斑点）を嫌う部品（ワーク）につ
いては上述の純水による洗浄は不可能であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明の請求項１記
載の発明は、塩化物を一切有さないフッ素系溶剤（塩素
を含まないフッ素系化合物）が貯溜されたすすぎ槽と、
このすすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化物を除去する除
去手段とを備えることで、有機溶剤による洗浄後のワー
クからフッ素系溶剤と除去手段とを用いて塩素イオンな
どの塩化物を除去することができ、純水洗浄に代替でき
ない精密部品等のワークをシミ、斑点、錆の発生がない
状態に洗浄、すすぎ処理することができる塩化物除去洗
浄装置の提供を目的とする。
載の発明は、塩化物を一切有さないフッ素系溶剤（塩素
を含まないフッ素系化合物）が貯溜されたすすぎ槽と、
このすすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化物を除去する除
去手段とを備えることで、有機溶剤による洗浄後のワー
クからフッ素系溶剤と除去手段とを用いて塩素イオンな
どの塩化物を除去することができ、純水洗浄に代替でき
ない精密部品等のワークをシミ、斑点、錆の発生がない
状態に洗浄、すすぎ処理することができる塩化物除去洗
浄装置の提供を目的とする。
【０００６】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の目的と併せて、上述の塩素を含まな
いフッ素系化合物をＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カー
ボン）、ＰＦＣもしくはＨＦＥに、また除去手段を活性
炭（active carbon ）またはイオン交換樹脂による塩素
除去手段にそれぞれ設定することで、ＨＦＣなどの洗浄
力と活性炭などの吸着特性とにより塩素イオンなどの塩
化物を確実に除去することができる塩化物の除去洗浄装
置の提供を目的とする。
求項１記載の発明の目的と併せて、上述の塩素を含まな
いフッ素系化合物をＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カー
ボン）、ＰＦＣもしくはＨＦＥに、また除去手段を活性
炭（active carbon ）またはイオン交換樹脂による塩素
除去手段にそれぞれ設定することで、ＨＦＣなどの洗浄
力と活性炭などの吸着特性とにより塩素イオンなどの塩
化物を確実に除去することができる塩化物の除去洗浄装
置の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、塩化物が抽出される有機溶剤でワークを洗浄
した後に、該ワークをすすぎ処理する塩化物除去洗浄装
置であって、塩化物を有さないフッ素系溶剤（塩素を含
まないフッ素系化合物）が貯溜されたすすぎ槽と、上記
すすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化物を除去する除去手
段とを備えた塩化物除去洗浄装置であることを特徴とす
る。
の発明は、塩化物が抽出される有機溶剤でワークを洗浄
した後に、該ワークをすすぎ処理する塩化物除去洗浄装
置であって、塩化物を有さないフッ素系溶剤（塩素を含
まないフッ素系化合物）が貯溜されたすすぎ槽と、上記
すすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩化物を除去する除去手
段とを備えた塩化物除去洗浄装置であることを特徴とす
る。
【０００８】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の構成と併せて、上記塩化物を有さな
いフッ素系溶剤（塩素を含まないフッ素系化合物）がＨ
ＦＣ、ＰＦＣもしくはＨＦＥに設定される一方、上記除
去手段を活性炭またはイオン交換樹脂による塩素除去手
段に設定した塩化物除去洗浄装置であることを特徴とす
る。
求項１記載の発明の構成と併せて、上記塩化物を有さな
いフッ素系溶剤（塩素を含まないフッ素系化合物）がＨ
ＦＣ、ＰＦＣもしくはＨＦＥに設定される一方、上記除
去手段を活性炭またはイオン交換樹脂による塩素除去手
段に設定した塩化物除去洗浄装置であることを特徴とす
る。
【０００９】
【発明の作用及び効果】この発明の請求項１記載の発明
によれば、塩素イオンなどの塩化物が抽出されるような
有機溶剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ
槽に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤が塩化物を
有さないフッ素系溶剤に溶け込み、このフッ素系溶剤に
溶け込んだ塩化物は除去手段にて除去される。この結
果、純水洗浄に代替できない精密部品等のワークをシ
ミ、斑点、錆の発生がない状態に洗浄、すすぎ処理する
ことができる効果がある。
によれば、塩素イオンなどの塩化物が抽出されるような
有機溶剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ
槽に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤が塩化物を
有さないフッ素系溶剤に溶け込み、このフッ素系溶剤に
溶け込んだ塩化物は除去手段にて除去される。この結
果、純水洗浄に代替できない精密部品等のワークをシ
ミ、斑点、錆の発生がない状態に洗浄、すすぎ処理する
ことができる効果がある。
【００１０】この発明の請求項２記載の発明によれば、
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、塩素イオンな
どの塩化物をが抽出されるような有機溶剤でワークを洗
浄した後に、このワークをすすぎ槽のＨＦＣ、ＰＦＣも
しくはＨＦＥの液中に浸漬すると、ワークに残存する有
機溶剤がＨＦＣ（化学式ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ
3 で示される塩素を含まないフッ素系化合物を）、ＰＦ
ＣもしくはＨＦＥに溶け込み、このＨＦＣ液、ＰＦＣ液
もしくはＨＦＥ液に溶け込んだ塩素イオンは活性炭また
はイオン交換樹脂による塩素除去手段にて除去される。
このように、上述のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カー
ボン）などの溶剤の洗浄力と活性炭の吸着力またはイオ
ン交換樹脂とにより塩素イオンなどの塩化物をを確実に
除去することができる効果がある。
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、塩素イオンな
どの塩化物をが抽出されるような有機溶剤でワークを洗
浄した後に、このワークをすすぎ槽のＨＦＣ、ＰＦＣも
しくはＨＦＥの液中に浸漬すると、ワークに残存する有
機溶剤がＨＦＣ（化学式ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ
3 で示される塩素を含まないフッ素系化合物を）、ＰＦ
ＣもしくはＨＦＥに溶け込み、このＨＦＣ液、ＰＦＣ液
もしくはＨＦＥ液に溶け込んだ塩素イオンは活性炭また
はイオン交換樹脂による塩素除去手段にて除去される。
このように、上述のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カー
ボン）などの溶剤の洗浄力と活性炭の吸着力またはイオ
ン交換樹脂とにより塩素イオンなどの塩化物をを確実に
除去することができる効果がある。
【００１１】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は塩化物除去洗浄装置を示し、この装置は
塩素イオンなどの塩化物をが抽出される有機溶剤でワー
クを洗浄した後に、このワークをすすぎ処理する塩化物
除去洗浄装置である。図１において、この塩化物除去洗
浄装置１１は、上面にワーク出入口１２が開放形成され
たタンク本体１３を設け、このタンク本体１３の下部に
は第１すすぎ槽１４と第２すすぎ槽１５とを仕切板１６
を介して隣設形成している。
述する。図面は塩化物除去洗浄装置を示し、この装置は
塩素イオンなどの塩化物をが抽出される有機溶剤でワー
クを洗浄した後に、このワークをすすぎ処理する塩化物
除去洗浄装置である。図１において、この塩化物除去洗
浄装置１１は、上面にワーク出入口１２が開放形成され
たタンク本体１３を設け、このタンク本体１３の下部に
は第１すすぎ槽１４と第２すすぎ槽１５とを仕切板１６
を介して隣設形成している。
【００１２】また上述の第２すすぎ槽１５の前部（図１
の右部）にはタンク壁１７を介してプールタンク１８を
隣設形成している。上述の第１すすぎ槽１４の内部には
塩素を含まないフッ素系溶剤（フッ素系化合物）として
のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）を貯
溜すると共に、この第１すすぎ槽１４の内底部には超音
波振動子１９と加熱手段としてのヒータ２０とを取付け
ている。
の右部）にはタンク壁１７を介してプールタンク１８を
隣設形成している。上述の第１すすぎ槽１４の内部には
塩素を含まないフッ素系溶剤（フッ素系化合物）として
のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）を貯
溜すると共に、この第１すすぎ槽１４の内底部には超音
波振動子１９と加熱手段としてのヒータ２０とを取付け
ている。
【００１３】同様に上述のすすぎ槽１５の内部にも塩素
を含まないフッ素系溶剤（フッ素系化合物）としてのＨ
ＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）を貯溜す
ると共に、この第２すすぎ槽１５の内底部にも超音波振
動子２１と加熱手段としてのヒータ２２とを取付けてい
る。
を含まないフッ素系溶剤（フッ素系化合物）としてのＨ
ＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）を貯溜す
ると共に、この第２すすぎ槽１５の内底部にも超音波振
動子２１と加熱手段としてのヒータ２２とを取付けてい
る。
【００１４】そして、上述の各ヒータ２０，２２で第１
および第２の各すすぎ槽１４，１５内のＨＦＣ（Ａ）を
超音波効果が最良となる温度例えば３５〜５０℃（沸点
５４℃以下）に加熱すべく構成している。一方、上述の
第１すすぎ槽１４のアウトレットポート１４ａおよび第
２すすぎ槽１５のアウトレットポート１５ａと、プール
タンク１８のインレットポート１８ａとの間には循環路
（循環手段）２３を槽外配置している。
および第２の各すすぎ槽１４，１５内のＨＦＣ（Ａ）を
超音波効果が最良となる温度例えば３５〜５０℃（沸点
５４℃以下）に加熱すべく構成している。一方、上述の
第１すすぎ槽１４のアウトレットポート１４ａおよび第
２すすぎ槽１５のアウトレットポート１５ａと、プール
タンク１８のインレットポート１８ａとの間には循環路
（循環手段）２３を槽外配置している。
【００１５】この循環路２３は上述の各アウトレットポ
ート１４ａ，１５ａに接続した２つのサクションライン
２４，２５を共に送液ポンプ２６のサクション部に連通
接続すると共に、この送液ポンプ２６の吐出部と上述の
インレットポート１８ａとを結ぶ吐出ライン２７には、
フィルタ２７および活性炭による塩素除去手段２９を介
設し、この塩素除去手段２９中の活性炭により、ＨＦＣ
（Ａ）に溶け込んだ塩素イオンを吸着除去（トラップ）
すべく構成している。
ート１４ａ，１５ａに接続した２つのサクションライン
２４，２５を共に送液ポンプ２６のサクション部に連通
接続すると共に、この送液ポンプ２６の吐出部と上述の
インレットポート１８ａとを結ぶ吐出ライン２７には、
フィルタ２７および活性炭による塩素除去手段２９を介
設し、この塩素除去手段２９中の活性炭により、ＨＦＣ
（Ａ）に溶け込んだ塩素イオンを吸着除去（トラップ）
すべく構成している。
【００１６】ところで、上述の仕切板１６およびタンク
壁１７には多数の小孔１６…，１７…を穿設形成し、プ
ールタンク１８から第２すすぎ槽１５内に還流されるＨ
ＦＣ（Ａ）の液を該すすぎ槽１５内において層流と成し
て、塩素イオンなどの塩化物をのフィルティング効果の
向上を図るように構成する一方、各槽１４，１５の液面
とワーク出入口１２との上下方向略中間部には、タンク
本体１３の内面に沿って冷却ジャケット１０を配設し
て、ワークの出し入れを阻害しないように成すと共に、
溶剤流出ロスを低減するように構成している。なお上述
の冷却ジャケット３０は図示しない冷凍サイクルに接続
されている。ここで、塩化物を一切有さないフッ素系溶
剤（塩素を含まないフッ素系化合物）としてのＨＦＣ
（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）の物性を列記
すると、次の通りである。
壁１７には多数の小孔１６…，１７…を穿設形成し、プ
ールタンク１８から第２すすぎ槽１５内に還流されるＨ
ＦＣ（Ａ）の液を該すすぎ槽１５内において層流と成し
て、塩素イオンなどの塩化物をのフィルティング効果の
向上を図るように構成する一方、各槽１４，１５の液面
とワーク出入口１２との上下方向略中間部には、タンク
本体１３の内面に沿って冷却ジャケット１０を配設し
て、ワークの出し入れを阻害しないように成すと共に、
溶剤流出ロスを低減するように構成している。なお上述
の冷却ジャケット３０は図示しない冷凍サイクルに接続
されている。ここで、塩化物を一切有さないフッ素系溶
剤（塩素を含まないフッ素系化合物）としてのＨＦＣ
（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）の物性を列記
すると、次の通りである。
【００１７】ＨＣＦの物性 分子量……２５２ 沸 点……５４℃ 比 重……１．５８ 粘 度……０．６７cp 表面張力…１４．１dynes/cm 比 熱……０．２８３cal/gm℃ 引火性……なし 化学式……ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ3 図示実施例は上記の如く構成するものにして、以下作用
を説明する。
を説明する。
【００１８】塩素イオンなどの塩化物が抽出される有機
溶剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ処理
するには、上述のワークをまず塩化物除去洗浄装置１１
のワーク出入口１２から第１すすぎ槽１４内のＨＦＣ
（Ａ）の液中に浸漬して超音波洗浄する。この時、ワー
クに残存する有機溶剤がＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込む。
溶剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ処理
するには、上述のワークをまず塩化物除去洗浄装置１１
のワーク出入口１２から第１すすぎ槽１４内のＨＦＣ
（Ａ）の液中に浸漬して超音波洗浄する。この時、ワー
クに残存する有機溶剤がＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込む。
【００１９】このＨＦＣ（Ａ）に溶け込んだ有機溶剤中
の塩素イオンなどの塩化物をは送液ポンプ２６の駆動に
より循環路２３を流通する間に、塩素除去手段２９の活
性炭により吸着除去されるので、この塩素除去手段２９
の下流からは塩素イオンなどの塩化物をがない洗浄なＨ
ＦＣ（Ａ）がプールタンク１８に還流される。
の塩素イオンなどの塩化物をは送液ポンプ２６の駆動に
より循環路２３を流通する間に、塩素除去手段２９の活
性炭により吸着除去されるので、この塩素除去手段２９
の下流からは塩素イオンなどの塩化物をがない洗浄なＨ
ＦＣ（Ａ）がプールタンク１８に還流される。
【００２０】上述の第１すすぎ槽１４内での超音波洗浄
が終了したワークは、同槽１４から引き上げられて次段
の第２すすぎ槽１５におけるＨＦＣ（Ａ）の液中に浸漬
して超音波洗浄する。この場合も第１すすぎ槽１４内で
の作用と同様にして、ワークに残存する塩化物、有機溶
剤がＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込み、溶け込んだ塩化物は
塩素除去手段２９の活性炭にて吸着除去される。
が終了したワークは、同槽１４から引き上げられて次段
の第２すすぎ槽１５におけるＨＦＣ（Ａ）の液中に浸漬
して超音波洗浄する。この場合も第１すすぎ槽１４内で
の作用と同様にして、ワークに残存する塩化物、有機溶
剤がＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込み、溶け込んだ塩化物は
塩素除去手段２９の活性炭にて吸着除去される。
【００２１】以上要するに、塩素イオンなどの塩化物を
が抽出されるような有機溶剤でワークを洗浄した後に、
このワークをすすぎ槽（１４，１５のうちの少なくとも
何れか一方）に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤
（ＨＦＣ参照）が塩化物を有さないフッ素系溶剤に溶け
込み、このフッ素系溶剤に溶け込んだ塩素イオンなどの
塩化物をは除去手段（塩素除去手段２９参照）にて除去
される。この結果、純水洗浄に代替できない精密部品等
のワークをシミ、斑点、錆の発生がない状態に洗浄、す
すぎ処理することができる効果がある。
が抽出されるような有機溶剤でワークを洗浄した後に、
このワークをすすぎ槽（１４，１５のうちの少なくとも
何れか一方）に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤
（ＨＦＣ参照）が塩化物を有さないフッ素系溶剤に溶け
込み、このフッ素系溶剤に溶け込んだ塩素イオンなどの
塩化物をは除去手段（塩素除去手段２９参照）にて除去
される。この結果、純水洗浄に代替できない精密部品等
のワークをシミ、斑点、錆の発生がない状態に洗浄、す
すぎ処理することができる効果がある。
【００２２】加えて、塩化物が抽出されるような有機溶
剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ槽（１
４，１５のうちの少なくとも何れか一方）のＨＦＣ
（Ａ）の液中に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤
がＨＦＣ（化学式ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ3 で示
される塩素を含まないフッ素系化合物）（Ａ）に溶け込
み、このＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込んだ塩化物は活性炭
による塩素除去手段２９にて除去される。このように、
上述のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）
の洗浄力と活性炭の吸着力とにより塩素イオンなどの塩
化物をを確実に除去することができる効果がある。
剤でワークを洗浄した後に、このワークをすすぎ槽（１
４，１５のうちの少なくとも何れか一方）のＨＦＣ
（Ａ）の液中に浸漬すると、ワークに残存する有機溶剤
がＨＦＣ（化学式ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ3 で示
される塩素を含まないフッ素系化合物）（Ａ）に溶け込
み、このＨＦＣ（Ａ）の液に溶け込んだ塩化物は活性炭
による塩素除去手段２９にて除去される。このように、
上述のＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）
の洗浄力と活性炭の吸着力とにより塩素イオンなどの塩
化物をを確実に除去することができる効果がある。
【００２３】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明のすすぎ槽は、実施例の各すすぎ槽
１４，１５のうちの少なくとも何れか一方に対応し、以
下同様に、除去手段は、活性炭による塩素除去手段２９
に対応し、塩化物を有さないフッ素系溶剤は、ＨＦＣ
（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）に対応する
も、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定される
ものではない。
において、この発明のすすぎ槽は、実施例の各すすぎ槽
１４，１５のうちの少なくとも何れか一方に対応し、以
下同様に、除去手段は、活性炭による塩素除去手段２９
に対応し、塩化物を有さないフッ素系溶剤は、ＨＦＣ
（ハイドロ・フルオロ・カーボン）（Ａ）に対応する
も、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定される
ものではない。
【００２４】例えば上記ＨＦＣに代えてＰＦＣもしくは
ＨＦＥを用いてもよく、活性炭に代えてイオン交換樹脂
を用いても同等の作用、効果が得られる。また上記実施
例においては２槽構造のすすぎ槽１４，１５を図示した
が、これは１槽構造であってもよく、或は３槽以上の複
数槽構造であってもよい。
ＨＦＥを用いてもよく、活性炭に代えてイオン交換樹脂
を用いても同等の作用、効果が得られる。また上記実施
例においては２槽構造のすすぎ槽１４，１５を図示した
が、これは１槽構造であってもよく、或は３槽以上の複
数槽構造であってもよい。
【図１】 本発明の塩化物除去洗浄槽を示す系統図。
１４，１５…すすぎ槽 ２９…塩素除去手段 Ａ…ＨＦＣ
Claims (2)
- 【請求項１】塩化物が抽出される有機溶剤でワークを洗
浄した後に、該ワークをすすぎ処理する塩化物除去洗浄
装置であって、塩化物を有さないフッ素系溶剤が貯溜さ
れたすすぎ槽と、上記すすぎ槽内の溶剤に溶け込んだ塩
化物を除去する除去手段とを備えた塩化物除去洗浄装
置。 - 【請求項２】上記塩化物を有さないフッ素系溶剤がＨＦ
Ｃ、ＰＦＣもしくはＨＦＥに設定される一方、上記除去
手段を活性炭またはイオン交換樹脂による塩素除去手段
に設定した請求項１記載の塩化物除去洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14866897A JPH10317182A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 塩化物除去洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14866897A JPH10317182A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 塩化物除去洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10317182A true JPH10317182A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=15457956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14866897A Pending JPH10317182A (ja) | 1997-05-21 | 1997-05-21 | 塩化物除去洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10317182A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7077915B2 (en) | 1999-05-20 | 2006-07-18 | Renesas Technology Corp. | Method of and apparatus for washing photomask and washing solution for photomask |
| CN114904486A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-08-16 | 天津晟元远卓科技有限公司 | 一种高效的活性炭加工生产用漂洗装置 |
-
1997
- 1997-05-21 JP JP14866897A patent/JPH10317182A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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