JPH10202209A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH10202209A JPH10202209A JP2220197A JP2220197A JPH10202209A JP H10202209 A JPH10202209 A JP H10202209A JP 2220197 A JP2220197 A JP 2220197A JP 2220197 A JP2220197 A JP 2220197A JP H10202209 A JPH10202209 A JP H10202209A
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- cleaning
- tank
- cleaned
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】炭化水素系溶剤で被洗浄物を洗浄し、洗浄後の
被洗浄物をフッ素系不活性溶剤でリンスすることで、Ｉ
ＰＡを何等使用することなく被洗浄物に対する確実な洗
浄効果、リンス効果を得ることができ、防爆構造を省略
することができる洗浄装置の提供を目的とする。 【解決手段】炭化水素系溶剤Ａを用いて被洗浄物を洗浄
する洗浄槽（１８，１９の少なくとも何れか一方）と、
フッ素系不活性溶剤Ｂを用いて洗浄後の被洗浄物をリン
スするリンス層２８とを備えたことを特徴とする。
被洗浄物をフッ素系不活性溶剤でリンスすることで、Ｉ
ＰＡを何等使用することなく被洗浄物に対する確実な洗
浄効果、リンス効果を得ることができ、防爆構造を省略
することができる洗浄装置の提供を目的とする。 【解決手段】炭化水素系溶剤Ａを用いて被洗浄物を洗浄
する洗浄槽（１８，１９の少なくとも何れか一方）と、
フッ素系不活性溶剤Ｂを用いて洗浄後の被洗浄物をリン
スするリンス層２８とを備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば電子部
品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各
種被洗浄物（ワーク）を洗浄処理するような洗浄装置に
関する。
品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各
種被洗浄物（ワーク）を洗浄処理するような洗浄装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、上述例の各種被洗浄物を洗浄処理
するには、例えばグリコールエーテル系の洗浄剤でワー
クを洗浄し、洗浄後のワークに付着した洗浄剤をＩＰＡ
（イソプロピルエーテル）でリンスする手段がとられて
いた。上述のＩＰＡは比重０．８、沸点８２．４℃、引
火点が常温以下の可燃性液体（危険物）であるため、洗
浄装置に防爆構造を付加する必要があり、装置構造が複
雑化するばかりでなく、装置コストが効果となる問題点
があった。
するには、例えばグリコールエーテル系の洗浄剤でワー
クを洗浄し、洗浄後のワークに付着した洗浄剤をＩＰＡ
（イソプロピルエーテル）でリンスする手段がとられて
いた。上述のＩＰＡは比重０．８、沸点８２．４℃、引
火点が常温以下の可燃性液体（危険物）であるため、洗
浄装置に防爆構造を付加する必要があり、装置構造が複
雑化するばかりでなく、装置コストが効果となる問題点
があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明の請求項１記
載の発明は、炭化水素系溶剤で被洗浄物を洗浄し、洗浄
後の被洗浄物をフッ素系不活性溶剤でリンスすること
で、ＩＰＡを何等使用することなく被洗浄物に対する確
実な洗浄効果、リンス効果を得ることができ、防爆構造
を省略することができる洗浄装置の提供を目的とする。
載の発明は、炭化水素系溶剤で被洗浄物を洗浄し、洗浄
後の被洗浄物をフッ素系不活性溶剤でリンスすること
で、ＩＰＡを何等使用することなく被洗浄物に対する確
実な洗浄効果、リンス効果を得ることができ、防爆構造
を省略することができる洗浄装置の提供を目的とする。
【０００４】この発明の請求項２記載の発明は、ＨＣ
（ハイドロカーボン、なかんずくグリコールエーテル系
溶剤）で被洗浄物を洗浄し、洗浄後の被洗浄物をＨＦＣ
（ハイドロフルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロ
フロロエーテル）でリンスすることで、ＩＰＡを何等使
用することなく被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リン
ス効果を得ることができ、防爆構造を省略することがで
きる洗浄装置の提供を目的とする。
（ハイドロカーボン、なかんずくグリコールエーテル系
溶剤）で被洗浄物を洗浄し、洗浄後の被洗浄物をＨＦＣ
（ハイドロフルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロ
フロロエーテル）でリンスすることで、ＩＰＡを何等使
用することなく被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リン
ス効果を得ることができ、防爆構造を省略することがで
きる洗浄装置の提供を目的とする。
【０００５】この発明の請求項３記載の発明は、上記請
求項１または２記載の発明の目的と併せて、炭化水素系
溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重分離し、比重分離さ
れた炭化水素系溶剤を洗浄槽に還流することで、複雑な
装置を用いることなく炭化水素系溶剤とフッ素系不活性
溶剤とを両者の比重差を有効利用して確実に分離するこ
とができると共に、比重分離後の炭化水素系溶剤を洗浄
槽に還流して再利用（リサイクル）することができる洗
浄装置の提供を目的とする。
求項１または２記載の発明の目的と併せて、炭化水素系
溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重分離し、比重分離さ
れた炭化水素系溶剤を洗浄槽に還流することで、複雑な
装置を用いることなく炭化水素系溶剤とフッ素系不活性
溶剤とを両者の比重差を有効利用して確実に分離するこ
とができると共に、比重分離後の炭化水素系溶剤を洗浄
槽に還流して再利用（リサイクル）することができる洗
浄装置の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、炭化水素系溶剤を用いて被洗浄物を洗浄する
洗浄槽と、フッ素系不活性溶剤を用いて洗浄後の被洗浄
物をリンスするリンス層とを備えた洗浄装置であること
を特徴とする。
の発明は、炭化水素系溶剤を用いて被洗浄物を洗浄する
洗浄槽と、フッ素系不活性溶剤を用いて洗浄後の被洗浄
物をリンスするリンス層とを備えた洗浄装置であること
を特徴とする。
【０００７】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の構成と併せて、上記炭化水素系溶剤
をＨＣに設定すると共に、上記フッ素系不活性溶剤をＨ
ＦＣまたはＨＦＥ（商品名）に設定した洗浄装置である
ことを特徴とする。
求項１記載の発明の構成と併せて、上記炭化水素系溶剤
をＨＣに設定すると共に、上記フッ素系不活性溶剤をＨ
ＦＣまたはＨＦＥ（商品名）に設定した洗浄装置である
ことを特徴とする。
【０００８】この発明の請求項３記載の発明は、上記請
求項１または２記載の発明の構成と併せて、上記炭化水
素系溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重分離する比重分
離手段を設け、比重分離された炭化水素系溶剤を上記洗
浄槽に還流すべく構成した請求項１または２記載の洗浄
装置であることを特徴とする。
求項１または２記載の発明の構成と併せて、上記炭化水
素系溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重分離する比重分
離手段を設け、比重分離された炭化水素系溶剤を上記洗
浄槽に還流すべく構成した請求項１または２記載の洗浄
装置であることを特徴とする。
【０００９】
【発明の作用及び効果】この発明の請求項１記載の発明
によれば、上述の被洗浄物は洗浄槽内において炭化水素
系溶剤で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリンス層まで引
き上げられて、このリンス層においてフッ素性不活性溶
剤でリンス（被洗浄物に付着した炭化水素系溶剤の除
去）される。
によれば、上述の被洗浄物は洗浄槽内において炭化水素
系溶剤で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリンス層まで引
き上げられて、このリンス層においてフッ素性不活性溶
剤でリンス（被洗浄物に付着した炭化水素系溶剤の除
去）される。
【００１０】このようにＩＰＡを一切使用することなく
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、また炭化水素
系溶剤およびフッ素系不活性溶剤にて洗浄およびリンス
するので、被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リンス効
果を得ることができ、防爆構造の省略化と装置のコスト
ダウンとの両立を図ることができる効果がある。
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、また炭化水素
系溶剤およびフッ素系不活性溶剤にて洗浄およびリンス
するので、被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リンス効
果を得ることができ、防爆構造の省略化と装置のコスト
ダウンとの両立を図ることができる効果がある。
【００１１】この発明の請求項２記載の発明によれば、
上述の被洗浄物は洗浄槽内においてＨＣ（ハイドロカー
ボン）で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリンス層まで引
き上げられて、このリンス層においてＨＦＣ（ハイドロ
フルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロフロロエー
テル）でリンス（被洗浄物に付着したＨＣの除去）され
る。
上述の被洗浄物は洗浄槽内においてＨＣ（ハイドロカー
ボン）で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリンス層まで引
き上げられて、このリンス層においてＨＦＣ（ハイドロ
フルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロフロロエー
テル）でリンス（被洗浄物に付着したＨＣの除去）され
る。
【００１２】このようにＩＰＡを一切使用することなく
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、またＨＣおよ
びＨＦＣまたはＨＦＥにて洗浄およびリンスするので、
被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リンス効果を得るこ
とができ、防爆構造の省略化と装置のコストダウンとの
両立を図ることができる効果がある。
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、またＨＣおよ
びＨＦＣまたはＨＦＥにて洗浄およびリンスするので、
被洗浄物に対する確実な洗浄効果、リンス効果を得るこ
とができ、防爆構造の省略化と装置のコストダウンとの
両立を図ることができる効果がある。
【００１３】この発明の請求項３記載の発明によれば、
上記請求項１または２記載の発明の効果と併せて、上述
の比重分離手段にて炭化水素系溶剤とフッ素系不活性溶
剤とが比重分離される。この場合、比重差により炭化水
素系溶剤が上層に位置し、フッ素系不活性溶剤が下層に
位置する。
上記請求項１または２記載の発明の効果と併せて、上述
の比重分離手段にて炭化水素系溶剤とフッ素系不活性溶
剤とが比重分離される。この場合、比重差により炭化水
素系溶剤が上層に位置し、フッ素系不活性溶剤が下層に
位置する。
【００１４】而して、比重分離された炭化水素系溶剤は
洗浄槽に還流されて再利用に供される。このように炭化
水素系溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重差を有効利用
して分離するので、比重分離手段の構造簡略化が達成で
き、また比重分離後の炭化水素系溶剤を還流させるの
で、その再利用を達成することができる効果がある。
洗浄槽に還流されて再利用に供される。このように炭化
水素系溶剤とフッ素系不活性溶剤とを比重差を有効利用
して分離するので、比重分離手段の構造簡略化が達成で
き、また比重分離後の炭化水素系溶剤を還流させるの
で、その再利用を達成することができる効果がある。
【００１５】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は洗浄装置を示し、図１において、この洗
浄装置は洗浄溶剤Ａとリンス溶剤Ｂとを比重分離する比
重分離手段としての比重分離部１１と、被洗浄物として
のワーク（図示せず）を洗浄、リンスおよび乾燥する洗
浄乾燥部１２と、リンス溶剤Ｂの蒸気を回収液化する回
収部１３とを備えている。
述する。図面は洗浄装置を示し、図１において、この洗
浄装置は洗浄溶剤Ａとリンス溶剤Ｂとを比重分離する比
重分離手段としての比重分離部１１と、被洗浄物として
のワーク（図示せず）を洗浄、リンスおよび乾燥する洗
浄乾燥部１２と、リンス溶剤Ｂの蒸気を回収液化する回
収部１３とを備えている。
【００１６】上述の洗浄溶剤Ａとしては炭化水素系溶剤
のＨＣ（ハイドロカーボン）の中でグリコールエーテル
系溶剤のＰＳ−２（商品名）を用い、上述のリンス溶剤
Ｂとしてはフッ素系不活性溶剤としてのＨＦＣ（ハイド
ロフルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロフロロエ
ーテル）を用いる。ここで、上述のＰＳ−２（グリコー
ルエーテル系溶剤）およびＨＦＣの物性を列記すると次
の通りである。
のＨＣ（ハイドロカーボン）の中でグリコールエーテル
系溶剤のＰＳ−２（商品名）を用い、上述のリンス溶剤
Ｂとしてはフッ素系不活性溶剤としてのＨＦＣ（ハイド
ロフルオロカーボン）またはＨＦＥ（ハイドロフロロエ
ーテル）を用いる。ここで、上述のＰＳ−２（グリコー
ルエーテル系溶剤）およびＨＦＣの物性を列記すると次
の通りである。
【００１７】ＰＳ−２の物性（洗浄溶剤Ａの物性） 外 観……無色透明液体 有効成分……９９％以上 比 重……０．９４０〜０．９６０ 引火点 ……１００℃以上 粘 度……５．３ｍＰａ・Ｓ 沸 点……２１０〜２３０℃ ｐＨ ……化学的中性 表面張力……２７．７dyne/cm 浸透力 ……１．７秒 臭 気……グリコールエーテル臭 相溶性 ……水に完溶 なお、上記ＰＳ−２（グリコールエーテル系溶剤）は危
険物第４類第３石油類に該当し、優れた洗浄性および高
絶縁信頼性を有する非水系洗浄剤である。
険物第４類第３石油類に該当し、優れた洗浄性および高
絶縁信頼性を有する非水系洗浄剤である。
【００１８】ＨＦＣの物性（リンス溶剤Ｂの物性） 化学式 ……ＣＦ3 ＣＦＨＣＦＨＣＦ2 ＣＦ3 分子量 ……２５２ 沸 点……５４℃ 凝固点 ……マイナス８０℃ 比 重……１．５８ 粘 度……０．６７cp 表面張力……１４．１dyne/cm 比 熱……０．２８３cal/gm℃ 蒸発潜熱……２４．２cal/gm 引火性 ……なし 上述のＨＦＣとＰＳ−２（グリコールエーテル系溶剤）
とは極めて２液混合されにくいことが、各種実験の結果
から明らかとなった。このため各溶剤の洗浄効果、リン
ス効果が長期にわたって良好に維持され、仮りに僅少量
の混合が生じても容易に分離することができて、これら
両者の再利用が達成される。
とは極めて２液混合されにくいことが、各種実験の結果
から明らかとなった。このため各溶剤の洗浄効果、リン
ス効果が長期にわたって良好に維持され、仮りに僅少量
の混合が生じても容易に分離することができて、これら
両者の再利用が達成される。
【００１９】上述の洗浄乾燥部１２は上面にワーク出入
口１４が形成されたタンク１５の下部に蒸溜槽１６、プ
ール槽１７、温浴槽１８，１９、水分離槽２０を形成し
ている。上述の蒸溜槽１６にはリンス溶剤Ｂを貯溜する
と共に、このリンス溶剤Ｂをその沸点に加熱する加熱手
段としてのヒータ２１を配設している。
口１４が形成されたタンク１５の下部に蒸溜槽１６、プ
ール槽１７、温浴槽１８，１９、水分離槽２０を形成し
ている。上述の蒸溜槽１６にはリンス溶剤Ｂを貯溜する
と共に、このリンス溶剤Ｂをその沸点に加熱する加熱手
段としてのヒータ２１を配設している。
【００２０】上述のプール槽１７はその後位の温浴槽１
８からオーバフロー部２２を介して溢流する洗浄溶剤Ａ
を貯溜するためのタンクである。また上述の温浴槽１８
には洗浄溶剤Ａを貯溜すると共に、この洗浄溶剤Ａをそ
の引火点１００℃以上に対して低温の４０℃前後に加熱
する加熱手段としてのヒータ２３を配設している。
８からオーバフロー部２２を介して溢流する洗浄溶剤Ａ
を貯溜するためのタンクである。また上述の温浴槽１８
には洗浄溶剤Ａを貯溜すると共に、この洗浄溶剤Ａをそ
の引火点１００℃以上に対して低温の４０℃前後に加熱
する加熱手段としてのヒータ２３を配設している。
【００２１】上述の温浴槽１９には洗浄溶剤Ａを貯溜
し、この洗浄溶剤Ａをその引火点１００℃以上に対して
低温の４０℃前後に加熱する加熱手段としてのヒータ２
４を配設すると共に、同槽１９内に超音波振動子２５を
配設して、超音波振動により液中に作られるキャビテー
ションで洗浄溶剤Ａの液中に負圧の空洞を作ってワーク
表面の付着物を効果的に除去すべく構成している。なお
後位の温浴槽１９から溢流した洗浄溶剤Ａは隣接槽１
９，１８間のオーバフロー２６を介して前位の温浴槽１
８にオーバーフローする。
し、この洗浄溶剤Ａをその引火点１００℃以上に対して
低温の４０℃前後に加熱する加熱手段としてのヒータ２
４を配設すると共に、同槽１９内に超音波振動子２５を
配設して、超音波振動により液中に作られるキャビテー
ションで洗浄溶剤Ａの液中に負圧の空洞を作ってワーク
表面の付着物を効果的に除去すべく構成している。なお
後位の温浴槽１９から溢流した洗浄溶剤Ａは隣接槽１
９，１８間のオーバフロー２６を介して前位の温浴槽１
８にオーバーフローする。
【００２２】さらに上述のタンク１５の上下方向中間部
の内周部にワークの出し入れを阻害しないように配設し
た冷却手段としての冷却ジャケット２７と各槽１６，１
７，１８，１９の液面との間には蒸溜槽１６でのリンス
溶剤Ｂの加熱による溶剤蒸気（ＨＦＣ蒸気）のリンス槽
２８（図示の便宜上、多点にて示す）を形成している。
このリンス槽２８で各槽１６，１７，１８，１９の液面
を抑制することもできる。
の内周部にワークの出し入れを阻害しないように配設し
た冷却手段としての冷却ジャケット２７と各槽１６，１
７，１８，１９の液面との間には蒸溜槽１６でのリンス
溶剤Ｂの加熱による溶剤蒸気（ＨＦＣ蒸気）のリンス槽
２８（図示の便宜上、多点にて示す）を形成している。
このリンス槽２８で各槽１６，１７，１８，１９の液面
を抑制することもできる。
【００２３】一方、上述の水分離槽２０の直上部には冷
却手段としての冷却コイル２９を配設し、この冷却コイ
ル２９にてリンス溶剤Ｂの蒸気を液化し、液化したリン
ス溶剤Ｂを水分離槽２０に貯溜すべく構成すると共に、
このリンス溶剤Ｂ（比重＝１．５８）の液面上に浮遊
（浮上）した水（Ｈ2 Ｏ）をタンク１５外部へ分離除去
すべく構成している。また上述の水分離槽２０にはその
下域部においてのみリンス溶剤の流動を許容する仕切板
３０（仕切手段）を立設配置している。
却手段としての冷却コイル２９を配設し、この冷却コイ
ル２９にてリンス溶剤Ｂの蒸気を液化し、液化したリン
ス溶剤Ｂを水分離槽２０に貯溜すべく構成すると共に、
このリンス溶剤Ｂ（比重＝１．５８）の液面上に浮遊
（浮上）した水（Ｈ2 Ｏ）をタンク１５外部へ分離除去
すべく構成している。また上述の水分離槽２０にはその
下域部においてのみリンス溶剤の流動を許容する仕切板
３０（仕切手段）を立設配置している。
【００２４】ところで、上述の温浴槽１８の底部と上部
とにそれぞれ設けられたポート３１，３２間には、循環
路３３を外付け配設し、この循環路３３には送液ポンプ
３４とフィルタ３５とを介設している。同様に、上述の
温浴槽１９の底部と上部とにそれぞれ設けられたポート
３６，３７間には、上述の循環路３３に対して独立構成
の別の循環路３８を外付け配設し、この循環路３８には
送液ポンプ３９、フィルタ４０、熱交換器４１を介設し
ている。
とにそれぞれ設けられたポート３１，３２間には、循環
路３３を外付け配設し、この循環路３３には送液ポンプ
３４とフィルタ３５とを介設している。同様に、上述の
温浴槽１９の底部と上部とにそれぞれ設けられたポート
３６，３７間には、上述の循環路３３に対して独立構成
の別の循環路３８を外付け配設し、この循環路３８には
送液ポンプ３９、フィルタ４０、熱交換器４１を介設し
ている。
【００２５】前述の比重分離部１１は合計３つのポート
４２，４３，４４を有する比重分離槽４５の内部を仕切
板４６で２室に仕切った比重分離手段である。而して上
述のプール槽１７に設けたポート４７と比重分離槽４５
における上側のインレットポート４２との間に送液ライ
ン４８を外付け配設し、この送液ライン４８に送液ポン
プ４９を介設して、プール槽１７の洗浄溶剤Ａ（但し、
この洗浄溶剤Ａに僅かではあるがリンス溶剤Ｂが混入し
ている）を比重分離槽４５に送液すべく構成している。
４２，４３，４４を有する比重分離槽４５の内部を仕切
板４６で２室に仕切った比重分離手段である。而して上
述のプール槽１７に設けたポート４７と比重分離槽４５
における上側のインレットポート４２との間に送液ライ
ン４８を外付け配設し、この送液ライン４８に送液ポン
プ４９を介設して、プール槽１７の洗浄溶剤Ａ（但し、
この洗浄溶剤Ａに僅かではあるがリンス溶剤Ｂが混入し
ている）を比重分離槽４５に送液すべく構成している。
【００２６】この比重分離槽４５においては仕切板４６
より図示左側の室において洗浄溶剤Ａとリンス溶剤Ｂと
が比重分離される。この場合、比重＝０．９４〜０．９
６の洗浄溶剤Ａは上層に分離され、比重＝１．５８のリ
ンス溶剤Ｂは下層に分離される。
より図示左側の室において洗浄溶剤Ａとリンス溶剤Ｂと
が比重分離される。この場合、比重＝０．９４〜０．９
６の洗浄溶剤Ａは上層に分離され、比重＝１．５８のリ
ンス溶剤Ｂは下層に分離される。
【００２７】このようにして比重分離された上層側の洗
浄溶剤Ａは仕切板４６の上端部（オーバフロー部）を溢
流して図示右側の室に流入する。この右側の室の上部に
形成されたアウトレットポート４４と、温浴槽１９の上
部に設けられたインレットポート５０とを還流手段とし
てのリターンライン５１で連通接続して、比重分離され
た洗浄溶剤Ａを例えば水頭（落差）を利用して温浴槽１
９内に還流すべく構成している。
浄溶剤Ａは仕切板４６の上端部（オーバフロー部）を溢
流して図示右側の室に流入する。この右側の室の上部に
形成されたアウトレットポート４４と、温浴槽１９の上
部に設けられたインレットポート５０とを還流手段とし
てのリターンライン５１で連通接続して、比重分離され
た洗浄溶剤Ａを例えば水頭（落差）を利用して温浴槽１
９内に還流すべく構成している。
【００２８】また上述の比重分離槽４５の図示左側の室
の下部に形成されたアウトレットポート４３と、蒸留槽
１６に設けられたインレットポート５２とを還流手段と
してのリターンライン５３で連通接続して、比重分離さ
れたリンス溶剤Ｂを例えば水頭（落差）を利用して蒸留
槽１６内に還流すべく構成している。
の下部に形成されたアウトレットポート４３と、蒸留槽
１６に設けられたインレットポート５２とを還流手段と
してのリターンライン５３で連通接続して、比重分離さ
れたリンス溶剤Ｂを例えば水頭（落差）を利用して蒸留
槽１６内に還流すべく構成している。
【００２９】一方、前述の水分離槽２０における仕切板
３０を隔てた反冷却コイル側にポート５４を設け、上述
の蒸留槽１６の液面上方にポート５５を設けて、これら
各ポート５４，５５間を還流手段としての外付けタイプ
のリターンライン５６で連通接続し、水分離除去後のリ
ンス溶剤Ｂを蒸留槽１６内に還流すべく構成している。
３０を隔てた反冷却コイル側にポート５４を設け、上述
の蒸留槽１６の液面上方にポート５５を設けて、これら
各ポート５４，５５間を還流手段としての外付けタイプ
のリターンライン５６で連通接続し、水分離除去後のリ
ンス溶剤Ｂを蒸留槽１６内に還流すべく構成している。
【００３０】ところで、前述の回収部１３はポート５
７，５８を有する回収タンク５９の上端開口をリッド部
材６０で閉止すると共に、回収タンク５９内に冷却コイ
ル６１を配置した回収手段で、上述の冷却ジャケット２
７上端部位に対応してタンク１５に形成されたポート６
２，６３（図示の便宜上、２箇所に分離して示してい
る）と、水分離槽２０に形成されたポート６４とを結ぶ
ライン６５に介設されている。
７，５８を有する回収タンク５９の上端開口をリッド部
材６０で閉止すると共に、回収タンク５９内に冷却コイ
ル６１を配置した回収手段で、上述の冷却ジャケット２
７上端部位に対応してタンク１５に形成されたポート６
２，６３（図示の便宜上、２箇所に分離して示してい
る）と、水分離槽２０に形成されたポート６４とを結ぶ
ライン６５に介設されている。
【００３１】上述のライン６５にはエアポンプ６６、回
収部１３、送液ポンプ６７をこの順に介設し、リンス溶
剤Ｂの蒸気をポート６２，６３部位から吸引して回収部
１３に送給し、回収部１３内において液化したリンス溶
剤Ｂを上述の水分離槽２０に還流すべく構成している。
なお、上述の冷却ジャケット２７、冷却コイル２９，６
１内を流通する媒体には冷凍サイクルにおける冷媒を用
い、上述の熱交換器４１内を流通する媒体には冷媒また
は冷却水を用いる。
収部１３、送液ポンプ６７をこの順に介設し、リンス溶
剤Ｂの蒸気をポート６２，６３部位から吸引して回収部
１３に送給し、回収部１３内において液化したリンス溶
剤Ｂを上述の水分離槽２０に還流すべく構成している。
なお、上述の冷却ジャケット２７、冷却コイル２９，６
１内を流通する媒体には冷凍サイクルにおける冷媒を用
い、上述の熱交換器４１内を流通する媒体には冷媒また
は冷却水を用いる。
【００３２】要するに、互の２液混合が極めて困難な溶
剤を選定し、洗浄溶剤ＡとしてのＰＳ−２を、リンス溶
剤ＢとしてＨＦＣを用いると共に、温浴槽１８，１９の
洗浄溶剤Ａを独立循環させる循環手段と、水分離のリン
ス溶剤Ｂを蒸留槽１６に還流する還流手段と、プール槽
１７から導出した溶剤を比重分離した後に洗浄溶剤Ａを
温浴槽１９に、またリンス溶剤Ｂを蒸留槽１６にそれぞ
れ還流する還流手段と、リンス溶剤Ｂの蒸気を回収液化
した後に水分離槽２０に還流する還流手段とを備えた溶
剤ロスのない洗浄システムである。
剤を選定し、洗浄溶剤ＡとしてのＰＳ−２を、リンス溶
剤ＢとしてＨＦＣを用いると共に、温浴槽１８，１９の
洗浄溶剤Ａを独立循環させる循環手段と、水分離のリン
ス溶剤Ｂを蒸留槽１６に還流する還流手段と、プール槽
１７から導出した溶剤を比重分離した後に洗浄溶剤Ａを
温浴槽１９に、またリンス溶剤Ｂを蒸留槽１６にそれぞ
れ還流する還流手段と、リンス溶剤Ｂの蒸気を回収液化
した後に水分離槽２０に還流する還流手段とを備えた溶
剤ロスのない洗浄システムである。
【００３３】図示実施例は上記の如く構成するものにし
て以下作用を説明する。被洗浄物としてのワークを洗
浄、リンスおよび乾燥する場合には、まず上述のワーク
を温浴槽１８内に浸漬して洗浄溶剤Ａ（洗浄能力が高い
ＰＳ−２）で洗浄する。
て以下作用を説明する。被洗浄物としてのワークを洗
浄、リンスおよび乾燥する場合には、まず上述のワーク
を温浴槽１８内に浸漬して洗浄溶剤Ａ（洗浄能力が高い
ＰＳ−２）で洗浄する。
【００３４】次に温浴槽１８の液中から引き上げたワー
クを次段の温浴槽１９内に浸漬して洗浄溶剤Ａと超音波
振動により超音波洗浄する。次に温浴槽１９の液中から
リンス溶剤Ｂの蒸気によるリンス層２８までワークを引
き上げて、このリンス層２８にてワークをリンス（ワー
クに付着したＰＳ−２を除去）する。
クを次段の温浴槽１９内に浸漬して洗浄溶剤Ａと超音波
振動により超音波洗浄する。次に温浴槽１９の液中から
リンス溶剤Ｂの蒸気によるリンス層２８までワークを引
き上げて、このリンス層２８にてワークをリンス（ワー
クに付着したＰＳ−２を除去）する。
【００３５】次にリンス後のワークをワーク出入口１４
と冷却ジャケット２７との間の乾燥部６８まで引き上げ
て乾燥処理し、一連の洗浄、リンスおよび乾燥処理終了
後のワークはワーク出入口１４から引き上げられて次工
程へ搬送される。
と冷却ジャケット２７との間の乾燥部６８まで引き上げ
て乾燥処理し、一連の洗浄、リンスおよび乾燥処理終了
後のワークはワーク出入口１４から引き上げられて次工
程へ搬送される。
【００３６】このように、上述の被洗浄物（ワーク）は
洗浄槽（温浴槽１８，１９の少なくとも何れか一方）内
においてＰＳ−２で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリン
ス層２８まで引き上げられて、このリンス層２８におい
てＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）でリンス（被洗
浄物に付着したＰＳ−２の除去）される。
洗浄槽（温浴槽１８，１９の少なくとも何れか一方）内
においてＰＳ−２で洗浄され、洗浄後の被洗浄物はリン
ス層２８まで引き上げられて、このリンス層２８におい
てＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）でリンス（被洗
浄物に付着したＰＳ−２の除去）される。
【００３７】このようにＩＰＡを一切使用することなく
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、またＰＳ−２
およびＨＦＣにて洗浄およびリンスするので、被洗浄物
に対する確実な洗浄効果、リンス効果を得ることがで
き、防爆構造の省略化と装置のコストダウンとの両立を
図ることができる効果があり、しかもＰＳ−２とＨＦＣ
とはその２液混合が極めて困難なため溶剤の混合が僅少
でこれら溶剤の長期有効利用を図ることができる。
被洗浄物を洗浄、リンスすることができ、またＰＳ−２
およびＨＦＣにて洗浄およびリンスするので、被洗浄物
に対する確実な洗浄効果、リンス効果を得ることがで
き、防爆構造の省略化と装置のコストダウンとの両立を
図ることができる効果があり、しかもＰＳ−２とＨＦＣ
とはその２液混合が極めて困難なため溶剤の混合が僅少
でこれら溶剤の長期有効利用を図ることができる。
【００３８】また、上述の比重分離部１１にてＰＳ−２
とＨＦＣとが比重分離される。この場合、比重差により
ＰＳ−２が上層に位置し、ＨＦＣが下層に位置する。而
して、比重分離されたＰＳ−２は温浴槽１９に還流され
て再利用に供される。このようにＰＳ−２とＨＦＣとを
比重差を有効利用して分離するので、比重分離部１１の
構造簡略化が達成でき、また比重分離後のＰＳ−２を還
流させるので、その再利用を達成することができる効果
がある。
とＨＦＣとが比重分離される。この場合、比重差により
ＰＳ−２が上層に位置し、ＨＦＣが下層に位置する。而
して、比重分離されたＰＳ−２は温浴槽１９に還流され
て再利用に供される。このようにＰＳ−２とＨＦＣとを
比重差を有効利用して分離するので、比重分離部１１の
構造簡略化が達成でき、また比重分離後のＰＳ−２を還
流させるので、その再利用を達成することができる効果
がある。
【００３９】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の炭化水素系溶剤は、実施例の洗浄
溶剤Ａ（グリコールエーテル系溶剤の中のＰＳ−２）に
対応し、以下同様に、被洗浄物は、ワークに対応し、洗
浄槽は、温浴槽１８，１９の少なくとも何れか一方に対
応し、フッ素系不活性溶剤は、リンス溶剤Ｂ（特にＨＦ
Ｃ）に対応し、比重分離手段は、比重分離部１１に対応
するも、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定さ
れるものではない。
において、この発明の炭化水素系溶剤は、実施例の洗浄
溶剤Ａ（グリコールエーテル系溶剤の中のＰＳ−２）に
対応し、以下同様に、被洗浄物は、ワークに対応し、洗
浄槽は、温浴槽１８，１９の少なくとも何れか一方に対
応し、フッ素系不活性溶剤は、リンス溶剤Ｂ（特にＨＦ
Ｃ）に対応し、比重分離手段は、比重分離部１１に対応
するも、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定さ
れるものではない。
【００４０】例えばＨＦＣに代えてＨＦＣに類する溶剤
やＨＦＥを用いてもよく、ＰＳ−２に代えて他のグリコ
ールエーテル系溶剤を用いてもよい。
やＨＦＥを用いてもよく、ＰＳ−２に代えて他のグリコ
ールエーテル系溶剤を用いてもよい。
【図１】 この発明の洗浄装置を示す系統図。
１１…比重分離部 １８，１９…温浴槽 ２８…リンス層 Ａ…洗浄溶剤 Ｂ…リンス溶剤
Claims (3)
- 【請求項１】炭化水素系溶剤を用いて被洗浄物を洗浄す
る洗浄槽と、 フッ素系不活性溶剤を用いて洗浄後の被洗浄物をリンス
するリンス層とを備えた洗浄装置。 - 【請求項２】上記炭化水素系溶剤をＨＣに設定すると共
に、上記フッ素系不活性溶剤をＨＦＣまたはＨＦＥに設
定した請求項１記載の洗浄装置。 - 【請求項３】上記炭化水素系溶剤とフッ素系不活性溶剤
とを比重分離する比重分離手段を設け、比重分離された
炭化水素系溶剤を上記洗浄槽に還流すべく構成した請求
項１または２記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2220197A JPH10202209A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2220197A JPH10202209A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10202209A true JPH10202209A (ja) | 1998-08-04 |
Family
ID=12076195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2220197A Pending JPH10202209A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10202209A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Asahi Glass Company, Limited | 洗浄すすぎ方法 |
| JP2006257446A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Shin Ootsuka Kk | 被洗浄物防錆方法及び被洗浄物防錆装置 |
| JP2009189918A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Kojiro Okawa | ２液式洗浄装置 |
| CN104362114A (zh) * | 2014-09-30 | 2015-02-18 | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 | 一种大直径区熔用多晶棒料的清洗装置及其清洗方法 |
| JP2017170425A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 株式会社クリンビー | ワーク洗浄方法およびワーク洗浄装置 |
-
1997
- 1997-01-20 JP JP2220197A patent/JPH10202209A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2009200896B2 (en) * | 2003-06-27 | 2010-11-11 | Asahi Glass Company, Limited | Cleaning/rinsing method |
| JPWO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-08-10 | 旭硝子株式会社 | 洗浄すすぎ方法 |
| EP1867709A1 (en) * | 2003-06-27 | 2007-12-19 | Asahi Glass Company, Limited | Cleaning/rinsing method |
| CN100412184C (zh) * | 2003-06-27 | 2008-08-20 | 旭硝子株式会社 | 清洗漂洗方法 |
| AU2004252335B2 (en) * | 2003-06-27 | 2009-04-09 | Asahi Glass Company, Limited | Cleaning/rinsing method |
| US7662192B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-02-16 | Asahi Glass Company, Limited | Cleaning and rinsing method |
| JP2010242097A (ja) * | 2003-06-27 | 2010-10-28 | Asahi Glass Co Ltd | 洗浄すすぎ方法 |
| WO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Asahi Glass Company, Limited | 洗浄すすぎ方法 |
| JP4655931B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2011-03-23 | 旭硝子株式会社 | 洗浄すすぎ方法 |
| JP2006257446A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Shin Ootsuka Kk | 被洗浄物防錆方法及び被洗浄物防錆装置 |
| JP2009189918A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Kojiro Okawa | ２液式洗浄装置 |
| CN104362114A (zh) * | 2014-09-30 | 2015-02-18 | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 | 一种大直径区熔用多晶棒料的清洗装置及其清洗方法 |
| JP2017170425A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 株式会社クリンビー | ワーク洗浄方法およびワーク洗浄装置 |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070130 |