JP2007055993A5 - - Google Patents

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[２] 下記式（ＩＩ）
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする[１]に記
載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
[３] 下記式（ＩＩＩ）
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする[１]に記
載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
[４] 下記式（ＩＶ）
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする[１]に記
載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
[５] 下記式（Ｖ）
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とから下記式（ＶＩ）
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1はＨ 2 ＳＯ 4 、ＨＮＯ 3 、ＨＣｌ、Ｈ 2 ＣＯ 3 、または
Ｈ 3 ＰＯ 4 を示す。）で表されるジヒドロキシアミン塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン塩化合物と、下記式（ＶＩＩ）
[６] 前記各工程における反応を水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族
系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行うことを特徴とする[５]に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
[７] 式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（Ｖ
Ｉ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする[５]または[６]に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
[８] 式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素す
ることにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程における反応温度が、０℃〜１５０℃であることを特徴とする[５]または[６] に記載のエチ
レン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
[９] 下記式（Ｖ）
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とから下記式（ＶＩ）
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1はＨ 2 ＳＯ 4 、ＨＮＯ 3 、ＨＣｌ、Ｈ 2 ＣＯ 3 、または
Ｈ 3 ＰＯ 4 を示す。）で表されるジヒドロキシアミン塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン塩化合物と、下記式（ＸＩ）
[１０] 前記各工程における反応を水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香
族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行うことを特徴とする[９]に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
[１１] 式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（
ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする[９]または[１０]に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
[１２] 下記式（Ｉａ）
[１３] 下記式（ＩＩａ）
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする[１２]に記載の反応性モノマー。
[１４] 下記式（ＩＩＩａ）
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする[１２]に記載の反応性モノマー。
[１５] 下記式（ＩＶａ）
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする[１２]に記載の反応性モノマー。
[１６] 式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１であることを特徴とする[１２]〜[１５]のいずれかに記載の反応性モノマー。
[１７] 式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフルオレン骨格を有する基であり、ｎ＝２であることを特徴とする[１２]〜[１５]のいずれかに記載の反応性モノマー。
[１８] 式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１であることを特徴とする[１２]〜[１５]のいずれかに記載の反応性モノマー。
[１９] 式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがアルキル基、キシリレン基、またはノルボルナン基であり、ｎ＝２であることを特徴とする[１２]〜[１５]のいずれかに記載の反応性モノマー。
[２０] 式（Ｉａ）のＸ−Ｒ5が、ｍ−キシリレンジアミンの残基、または２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−キシリレンジアミンの残基であるか、あるいは、Ｘが下記式（ＸＶＩＩ）
で表わされることを特徴とする[１９]に記載の反応性モノマー。
[２１] 式（Ｉａ）のＲ5がチオエーテル基であり、Ｘが直鎖または分岐の飽和脂肪族基
、またはフェニル基であることを特徴とする[１２]〜[１５]のいずれかに記載の反応性モノマー。
[２２] 下記式（Ｉ）
[２３] 前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であるこ
とを特徴とする[２２]に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
[２４] 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
Figure 2007055993
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする[２２]
または[２３]に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
[２５] 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
Figure 2007055993
 （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする[２２]
または[２３]に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。

[２６] 下記式（Ｉ）
[２７] 前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であるこ
とを特徴とする[２６]に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
[２８] 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
Figure 2007055993
 で表わされることを特徴とする［２６］または［２７］に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
[２９] 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
Figure 2007055993
 で表わされることを特徴とする［２６］または［２７］に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
[３０] [１２]〜[２１]のいずれかに記載の反応性モノマーと、重合開始剤と、を含有
することを特徴とする硬化性組成物。
[３１] [３０]に記載の硬化性組成物を硬化することにより形成された硬化物。
[３２] [２７]〜[２９]のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ
）と、顔料（Ｂ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
[３３] 光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする[３２]に記載の硬化性組成物
。
[３４] エチレン性不飽和モノマー（Ｆ）を含有することを特徴とする[３３]に記載の
硬化性組成物。
[３５] １０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６
０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２５質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、を含有することを特徴とする[３
４]に記載の硬化性組成物。
[３６] １０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６
０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２０質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、２〜２０質量％の多官能チオール（Ｈ）と、を含有することを特徴とする[３４]に記載の硬化性組成物。
[３７] カラーフィルタを形成するために用いられることを特徴とする[３４]〜 [３６]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[３８] 顔料（Ｂ）が、カーボンブラックであることを特徴とする[３７]に記載の硬化
性組成物。
[３９] [２７]〜[２９]のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ
）と、熱硬化性ポリマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、熱重合触媒（Ｅ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
[４０] ソルダーレジストとして用いられることを特徴とする[３９]に記載の硬化性組
成物。
[４１] [４０]に記載の硬化性組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
[４２] [４１]に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。

Claims (42)

  1. 下記式（Ｉ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
    を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
    リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
  2. 下記式（ＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
  3. 下記式（ＩＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
  4. 下記式（ＩＶ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
  5. 下記式（Ｖ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
    れるジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とから下記式（ＶＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1はＨ 2 ＳＯ 4 、ＨＮＯ 3 、ＨＣｌ、Ｈ 2 ＣＯ 3 、または
    Ｈ 3 ＰＯ 4 を示す。）で表されるジヒドロキシアミン塩化合物を得る工程と、
    前記ジヒドロキシアミン塩化合物と、下記式（ＶＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアル
    キル基、またはアリール基を示し、Ｙ1は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素
    数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＶＩＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1〜Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工
    程と、
    前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（Ｘ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるイソシアネート化合物を得る工程と、
    前記イソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、下記式（Ｉ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  6. 前記各工程における反応を水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行うことを特徴とする請求項５に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  7. 式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項５または６に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  8. 式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程における反応温度が、０℃〜１５０℃であることを特徴とする請求項５または６に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  9. 下記式（Ｖ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
    れるジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とから下記式（ＶＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1はＨ 2 ＳＯ 4 、ＨＮＯ 3 、ＨＣｌ、Ｈ 2 ＣＯ 3 、または
    Ｈ 3 ＰＯ 4 を示す。）で表されるジヒドロキシアミン塩化合物を得る工程と、
    前記ジヒドロキシアミン塩化合物と、下記式（ＸＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはアリール基を示し、Ｙ1
    は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工程と、
    前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1、Ｒ3、およびＲ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含
    有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  10. 前記各工程における反応を水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行うことを特徴とする請求項９に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  11. 式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、およびリン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項９または１０に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
  12. 下記式（Ｉａ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
    を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
    リール基を示し、Ｒ5はエーテル基、チオエーテル基、またはＮＨ基を示し、Ｘは脂肪族
    基、芳香族基、または複素環基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）で表わされる反応性モノマー。
  13. 下記式（ＩＩａ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項１２に記載の反応性モノマー。
  14. 下記式（ＩＩＩａ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項１２に記載の反応性モノマー。
  15. 下記式（ＩＶａ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項１２に記載の反応性モノマー。
  16. 式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１〜２で
    あることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれかに記載の反応性モノマー。
  17. 式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフルオレン骨格を有する基であり、ｎ＝２
    であることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれかに記載の反応性モノマー。
  18. 式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１であること
    を特徴とする請求項１２〜１５のいずれかに記載の反応性モノマー。
  19. 式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがアルキル基、キシリレン基、またはノルボルナ
    ン基であり、ｎ＝２であることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれかに記載の反応性モノマー。
  20. 式（Ｉａ）のＸ−Ｒ5が、ｍ−キシリレンジアミンの残基、または２，３，５，６−テ
    トラフルオロ−１，４−キシリレンジアミンの残基であるか、あるいは、Ｘが下記式（ＸＶＩＩ）
    Figure 2007055993
     で表わされることを特徴とする請求項１９に記載の反応性モノマー。
  21. 式（Ｉａ）のＲ5がチオエーテル基であり、Ｘが直鎖または分岐の飽和脂肪族基、また
    はフェニル基であることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれかに記載の反応性モノマー。
  22. 下記式（Ｉ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
    を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
    リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させることを特徴とする反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
  23. 前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項２２に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
  24. 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
    ２２または２３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
  25. 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
    ２２または２３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
  26. 下記式（Ｉ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
    を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
    リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られた反応性（メタ）アクリレートポリマー。
  27. 前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項２６に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
  28. 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
    ２６または２７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
  29. 前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
    Figure 2007055993
     （式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
    ２６または２７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
  30. 請求項１２〜２１のいずれかに記載の反応性モノマーと、重合開始剤と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
  31. 請求項３０に記載の硬化性組成物を硬化することにより形成された硬化物。
  32. 請求項２７〜２９のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
  33. 光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項３２に記載の硬化性組成物。
  34. エチレン性不飽和モノマー（Ｆ）を含有することを特徴とする請求項３３に記載の硬化性組成物。
  35. １０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２５質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、を含有することを特徴とする請求項３４に記載の硬化性組成物。
  36. １０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２０質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、２〜２０質量％の多官能チオール（Ｈ）と、を含有することを特徴とする請求項３４に記載の硬化性組成物。
  37. カラーフィルタを形成するために用いられることを特徴とする請求項３４〜３６のいず
    れかに記載の硬化性組成物。
  38. 顔料（Ｂ）が、カーボンブラックであることを特徴とする請求項３７に記載の硬化性組成物。
  39. 請求項２７〜２９のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、熱硬化性ポリマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、熱重合触媒（Ｅ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
  40. ソルダーレジストとして用いられることを特徴とする請求項３９に記載の硬化性組成物。
  41. 請求項４０に記載の硬化性組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
  42. 請求項４１に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。
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