JP2005117019A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ダイシングテープ4に貼り付けられたチップ1を剥離する吸着駒102の中心部には、ダイシングテープ4を上方に突き上げる3個のブロック110a〜110cが組み込まれている。ブロック110a〜110cは、直径が最も大きい第1のブロック110aの内側に、それよりも径の小さい第2のブロック110bが配置され、さらにその内側に最も径の小さい第3のブロック110cが配置されている。ブロック110a〜110cをダイシングテープ4の裏面に突き当ててチップ1を剥離するには、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げる。
【選択図】 図20
Description
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前期第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいるものである。
本実施の形態は、配線基板上にチップを実装する半導体パッケージの製造に適用したものであり、その製造方法を図1〜図25を用いて工程順に説明する。
前記実施の形態1では、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げることによって、チップ1とダイシングテープ4とを剥離する方法を採用している。
前記実施の形態1では、剥離の対象となるチップ1が正方形である場合について説明したが、縦と横の長さが異なる長方形のチップ1を剥離する場合には、例えば図31に示すように、大きさが異なる3個の長方形のブロック210a〜210cを使用する。これにより、チップ1にかかる曲げ応力を軽減しながら、チップ1とダイシングテープ4との剥離起点に応力を集中させ、効率的に剥離を進行させることができる。このとき、最も径の大きい外側のブロック210aは、剥離の対象となるチップ1よりも一回り径の小さいものを使用し、チップ1の最外周部に強い荷重がかからないようにすることが望ましい。
図39は、本実施の形態で使用する吸着駒502の断面図、図40は、この吸着駒502の上面近傍の拡大斜視図である。
1A 半導体ウエハ
1A’ チップ形成領域
2 ボンディングパッド
3 バックグラインドテープ
4 ダイシングテープ(感圧テープ)
5 ウエハリング
6 ダイシングブレード
7 押さえ板
8 エキスパンドリング
10 接着剤
11 配線基板
12 Auワイヤ
13 電極
14 半導体チップ
15 Auワイヤ
16 電極
17 モールド樹脂
18 積層パッケージ
100 チップ剥離装置
101 ステージ
102 吸着駒
103 吸引口
104 溝
105 吸着コレット
106 吸着口
110a〜110c ブロック
111a、111b 圧縮コイルばね
112 プッシャ
210a〜210c ブロック
310a〜310c ブロック
311 切り欠き溝
410a〜410c ブロック
502 吸着駒
503 吸引口
504 溝
510a ブロック
510b 振動ブロック
511 圧縮コイルばね
512 振動子
513 共鳴部
514 圧電素子
515 ストッパ
S 隙間
Claims (25)
- 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の上面の面積が前記半導体チップの面積より小さいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記粘着テープに荷重を加える工程において、前記剥離の対象となる半導体チップに隣接する他の半導体チップの裏面上の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の上面および第2の上面は平坦であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップは、縦と横の長さが異なる長方形であり、前記第1の突き上げブロックの前記上面は、縦と横の長さが異なる長方形であることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の上面の曲率半径および前記第2の上面の曲率半径は、それぞれの上面の角部の曲率半径に比較して大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ時間は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ時間よりも短いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ速度は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ速度よりも遅いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数の突き上げブロックを用いて前記粘着テープに荷重を加える際、前記半導体チップを吸着、保持する前記吸着コレットを前記半導体チップの上面に押し付けることによって、前記半導体チップに下向きの荷重を加えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面を突き上げる工程の後、前記半導体チップを吸着、保持している前記吸着コレットを上方に引き上げ、次いで前記第2の突き上げブロックを下方に下げることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面の一部に切り欠き溝が設けられていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面の形状が長方形であり、前記上面の中央部の幅が他部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの上面と前記吸着コレットとが接触する部分の面積を、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面の面積より大きくすることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2工程の後、前記半導体チップを前記吸着コレットの吸引力で上方に引き上げる第3工程と、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面を下方に下げる第4工程とをさらに有し、
前記第3工程を前記第4工程に先立って行うことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第3工程において、前記半導体チップを上方に引き上げる速度を可変にすることを特徴とする請求項17記載の半導体装置の製造方法。
- 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重と振動とを加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、
前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部と、発振手段とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、または前記第1工程と同時に、前記第2の突き上げブロックを振動させることによって、前記粘着テープに振動を加える第2工程と、
前記第2工程の後、前記第2の突き上げブロックを振動させながら、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第3工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記振動は、前記粘着テープの面に対して垂直方向の縦振動であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記振動の周波数は1kHz〜100kHzの範囲であり、振幅は1μm〜50μmの範囲であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1工程において、前記第2の上面の高さは、前記第1の上面の高さよりも、前記縦振動の振幅の1/2以上高いことを特徴とする請求項20記載の半導体装置の製造方法。
- 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
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