JP2005117019A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005117019A
JP2005117019A JP2004200101A JP2004200101A JP2005117019A JP 2005117019 A JP2005117019 A JP 2005117019A JP 2004200101 A JP2004200101 A JP 2004200101A JP 2004200101 A JP2004200101 A JP 2004200101A JP 2005117019 A JP2005117019 A JP 2005117019A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
block
adhesive tape
manufacturing
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004200101A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4574251B2 (ja
Inventor
Hiroshi Maki
浩 牧
Hideyuki Suga
秀幸 須賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp, Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2004200101A priority Critical patent/JP4574251B2/ja
Priority to TW093126528A priority patent/TW200512847A/zh
Priority to KR1020040074158A priority patent/KR101244482B1/ko
Priority to US10/942,889 priority patent/US7115482B2/en
Priority to CN2008101357379A priority patent/CN101320678B/zh
Priority to CNB2004100797049A priority patent/CN100495650C/zh
Publication of JP2005117019A publication Critical patent/JP2005117019A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4574251B2 publication Critical patent/JP4574251B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • H01L2221/68336Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding involving stretching of the auxiliary support post dicing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

【課題】 非紫外線硬化型粘着テープに貼り付けた極めて薄いチップを、割れや欠けが生じることなく速やかに剥離する。
【解決手段】 ダイシングテープ4に貼り付けられたチップ1を剥離する吸着駒102の中心部には、ダイシングテープ4を上方に突き上げる3個のブロック110a〜110cが組み込まれている。ブロック110a〜110cは、直径が最も大きい第1のブロック110aの内側に、それよりも径の小さい第2のブロック110bが配置され、さらにその内側に最も径の小さい第3のブロック110cが配置されている。ブロック110a〜110cをダイシングテープ4の裏面に突き当ててチップ1を剥離するには、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げる。
【選択図】 図20

Description

本発明は、半導体装置の製造技術に関し、特に、粘着テープに貼り付けた半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割した後、それぞれの半導体チップを粘着テープから剥離する工程に適用して有効な技術に関する。
近年、半導体装置の高密度実装を推進する目的で、配線基板上に複数枚の半導体チップを三次元的に実装する積層パッケージが実用化されているが、このような積層パッケージを組み立てるに際しては、厚さが数十μm程度まで薄く加工された半導体チップ(以下、単にチップという)が使用される。
上記のような薄いチップを配線基板に実装するには、まず所望の集積回路を形成した半導体ウエハ(以下、単にウエハという)の主面上に集積回路を保護するためのテープを貼り付け、この状態でウエハの裏面を研磨およびエッチングすることによって、その厚さを数十μm程度まで薄くする。続いて、この薄いウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた状態でダイシングを行って、ウエハを複数個のチップに分割する。その後、粘着テープの裏面に突き上げピンなどを押し当ててチップを1個ずつ粘着テープから剥がし、剥離したチップをコレットでピックアップして配線基板上に搬送し、ペレット付けを行う。
ところで、上記のような極めて薄いチップを使用するパッケージの組立て工程では、ダイシングによって分割されたチップを粘着テープから剥離、ピックアップする際に、チップに割れや欠けが生じ易いことから、これを防止するための配慮が必要となる。
特開2000−353710号公報(特許文献1)は、突き上げピンによる突き上げではピックアップ不可能な極薄のチップ(ペレット)をダイシングテープからを剥離する技術を開示している。この文献に開示されたペレットピックアップ装置は、バックアップホルダ上部中央にピックアップ対象となるチップより大きいサイズの外形を持ち、前記チップがバックアップホルダに載置されたときにチップ外周端がその上に配置される溝部をチップの外周辺に沿って形成したもので、この溝部内を真空引きすることにより、チップをその周端部から剥がすものである。
特開2000−353710号公報
ウエハをダイシングする際に使用する粘着テープには、大別して紫外線(UV)硬化型と非UV硬化型がある。UV硬化型粘着テープは、粘着テープに貼り付けたウエハをダイシングした後、粘着テープの裏面側から紫外線を照射して粘着剤を硬化させることにより、粘着剤の粘着力を弱め、チップを粘着テープから剥離し易くするものであるが、非UV硬化型粘着テープに比べてコストが高いという短所がある。また、チップに形成された集積回路の中には、例えばフラッシュメモリのように、紫外線の照射によって特性に変動が生じる恐れのあるものがあるため、このような集積回路が形成されたウエハをダイシングする際には、非UV硬化型粘着テープを使用することが望ましい。
しかし、非UV硬化型粘着テープは、UV硬化型粘着テープのように粘着剤を硬化させることによってその粘着力を弱めることができないので、UV硬化型粘着テープに比べてチップの剥離が困難である。
このような、非UV硬化型粘着テープにチップが粘着されている場合は、例えば粘着テープの裏面側から超音波振動を加えてチップを剥離しようとしても、粘着剤の粘着力が強いので、いったん剥離したチップが粘着テープに再付着してしまう。また、多数のニードルを形成した突き上げピンを粘着テープの裏面に突き当ててチップを剥離しようとしても、剥離に長時間を要してしまう、あるいは薄いチップを採用する場合には、チップが曲げ応力に耐えられずに割れてしまうといった課題が発明者により認識された。
本発明の目的は、粘着テープに貼り付けた極めて薄いチップを、割れや欠けが生じることなく、速やかに剥離することができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明の半導体装置の製造方法は、主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前期第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいるものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
UV硬化型テープ、または非UV硬化型粘着テープに貼り付けた半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割した後、それぞれの半導体チップを粘着テープから剥離する際、極めて薄いチップであっても、割れや欠けが生じることなく、速やかに剥離することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
(実施の形態1)
本実施の形態は、配線基板上にチップを実装する半導体パッケージの製造に適用したものであり、その製造方法を図1〜図25を用いて工程順に説明する。
まず、図1に示すような単結晶シリコンからなるウエハ1Aの主面に周知の製造プロセスに従って集積回路を形成した後、格子状のスクライブラインによって区画された複数のチップ形成領域1A’のそれぞれに形成された集積回路の電気試験を行い、その良否を判定する。本実施の形態で使用するウエハ1Aのチップ形成領域1A’は、縦と横の長さが等しい正方形の平面形状を有している。
次に、図2に示すように、ウエハ1Aの集積回路形成面(図の下面側)に集積回路保護用のバックグラインドテープ3を貼り付る。そして、この状態でウエハ1Aの裏面(図の上面側)をグラインダで研削し、続いて、この研削によって生じた裏面のダメージ層を、ウエットエッチング、ドライポリッシング、プラズマエッチングなどの方法によって除去することにより、ウエハ1Aの厚さを100μm以下、例えば50μm〜90μm程度まで薄くする。前記ウエットエッチング、ドライポリッシング、プラズマエッチングなどの処理方法は、ウエハの厚さ方向に進行する処理速度が、グラインダによる研削の速度に比べて遅い反面、ウエハ内部に与えるダメージがグラインダによる研削に比較して小さいだけでなく、グラインダによる研削で発生したウエハ内部のダメージ層を除去することができ、ウエハ1Aおよびチップが割れにくくなるという効果がある。
次に、バックグラインドテープ3を除去した後、図3に示すように、ウエハ1Aの裏面(集積回路形成面の反対側の面)にダイシングテープ4を貼り付け、この状態でダイシングテープ4の周辺部をウエハリング5に固定する。ダイシングテープ4は、ポリオレフィン(PO)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)などからなるテープ基材の表面に感圧粘着剤を塗布して粘着性(tackness)を持たせたUV硬化型粘着テープを円形に裁断したものである。
次に、図4に示すように、周知のダイシングブレード6を使ってウエハ1Aをダイシングすることにより、前記複数のチップ形成領域1A’のそれぞれを正方形のチップ1に分割する。このとき、分割されたそれぞれのチップ1を円形のダイシングテープ4上に残しておく必要があるので、ダイシングテープ4は、その厚さ方向の半分程度だけ切断する。なお、ダイシングテープ4としてUV硬化型粘着テープを使用した場合は、以下で説明するチップ1の剥離工程に先立ってダイシングテープ4に紫外線を照射し、感圧粘着剤の粘着力を低下させておく。
次に、図5(平面図)および図6(断面図)に示すように、ウエハリング5に固定したダイシングテープ4の上方に押さえ板7を配置すると共に、下方にエキスパンドリング8を配置する。そして、図7に示すように、ウエハリング5の上面に押さえ板7を押し付けると同時に、ダイシングテープ4の裏面の周辺部をエキスパンドリング8で上方に押し上げる。このようにすると、ダイシングテープ4は、その中心部から周辺部に向かう強い張力を受けるので、水平方向に弛みなく引き伸ばされる。
次に、この状態でエキスパンドリング8を図8に示すチップ剥離装置100のステージ101上に位置決めし、水平に保持する。このステージ101の中央には、図示しない駆動機構によって水平方向および上下方向に移動する吸着駒102が配置されている。ダイシングテープ4は、その裏面が吸着駒102の上面と対向するように保持される。
図9は、吸着駒102の断面図、図10は、吸着駒102の上面近傍の拡大断面図、図11は、吸着駒102の上面近傍の拡大斜視図である。
吸着駒102の上面の周辺部には、複数の吸引口103と、同心円状に形成された複数の溝104とが設けられている。吸引口103および溝104のそれぞれの内部は、吸着駒102を上昇させてその上面をダイシングテープ4の裏面に接触させる際、図示しない吸引機構によって減圧される。このとき、ダイシングテープ4の裏面が下方に吸引され、吸着駒102の上面と密着する。
なお、ダイシングテープ4を下方に吸引する際、上記溝104の幅や深さが大きいと、剥離の対象となるチップ1に隣接するチップ1の下方のダイシングテープ4が溝104に吸引された際、隣接するチップ1とその下方のダイシングテープ4との界面が溝104の上部領域で剥離することがある。特に、比較的粘着力が弱い感圧粘着剤を使用したダイシングテープ4では、このような剥離が生じ易い。このような現象が発生すると、剥離の対象となるチップ1をダイシングテープ4から剥がしている作業中に、隣接するチップ1がダイシングテープ4から脱落してしまうことがあるので、好ましくない。そこで、このような現象が発生するのを防ぐには、上記溝104の幅や深さをできるだけ小さくし、隣接するチップ1の下方のダイシングテープ4と吸着駒102の上面との間にできるだけ隙間が生じないようにすることが有効である。
吸着駒102の中心部には、ダイシングテープ4を上方に突き上げる3個のブロック110a〜110cが組み込まれている。3個のブロック110a〜110cは、直径が最も大きい第1のブロック110aの内側に、それよりも径の小さい第2のブロック110bが配置され、さらにその内側に最も径の小さい第3のブロック110cが配置されている。後述するように、3個のブロック110a〜110cは、外側のブロック110aと中間のブロック110bとの間に介在する第1の圧縮コイルばね111a、中間のブロック110bと内側のブロック110cとの間に介在し、上記第1の圧縮コイルばね111aよりもばね定数の大きい第2の圧縮コイルばね111b、および内側ブロック110cに連結され、図示しない駆動機構によって上下動するプッシャ112と連動して上下動するようになっている。
上記3個のブロック110a〜110cのうち、最も径の大きい外側のブロック110aは、剥離の対象となるチップ1よりも一回り(例えば約0.5mm〜3mm程度)径の小さいものを使用するとよい。例えば、チップ1が正方形である場合には、それよりも一回り小さい正方形とすることが望ましい。また、後述する他の実施の形態で説明するように、チップ1が長方形である場合には、それよりも一回り小さい長方形とすることが望ましい。これにより、ブロック110aの上面の外周となる角部がチップ1の外縁よりもわずかに内側に位置するようになるので、チップ1とダイシングテープ4とが剥離する際の起点となる箇所(チップ1の最外周部)に両者を剥離させる力を集中させることができる。
また、ブロック110aの上面は、ダイシングテープ4との接触面積を確保するために、平坦な面または大きな局率半径を有する面にすることが望ましい。ブロック110aの上面とダイシングテープ4との接触面積が小さい場合は、ブロック110aの上面によって下から支えられるチップ1の周辺部に大きな曲げ応力が集中するので、チップ1の周辺部が割れる恐れがある。
上記ブロック110aの内側に配置された中間のブロック110bは、ブロック110aよりも1mm〜3mm程度小さい径を有している。また、このブロック110bよりもさらに内側に配置された最も径の小さいブロック110cは、中間のブロック110bよりもさらに1mm〜3mm程度小さい径を有している。本実施の形態では、加工の容易さなどを考慮して、中間のブロック110bおよび内側のブロック110cのそれぞれの形状を円柱状にしたが、外側のブロック110aと同じく四角柱状あるいはそれに近い形状にしてもよい。3個のブロック110a〜110cのそれぞれの上面の高さは、初期状態(ブロック110a〜110cの非動作時)においては互いに等しく、また吸着駒102の上面周辺部の高さとも等しくなっている。
図10に拡大して示すように、吸着駒102の周辺部と外側のブロック110aとの間、および3個のブロック110a〜110cの間には、隙間(S)が設けられている。これらの隙間(S)の内部は、図示しない吸引機構によって減圧されるようになっており、吸着駒102の上面にダイシングテープ4の裏面が接触すると、ダイシングテープ4が下方に吸引され、ブロック110a〜110cの上面と密着するようになっている。
上記のような吸着駒102を備えたチップ剥離装置100を使ってチップ1をダイシングテープ4から剥離するには、まず、図12に示すように、剥離の対象となる1個のチップ1(同図の中央部に位置するチップ1)の真下に吸着駒102の中心部(ブロック110a〜110c)を移動させると共に、このチップ1の上方に吸着コレット105を移動させる。図示しない移動機構に支持された吸着コレット105の底面の中央部には、内部が減圧される吸着口106が設けられており、剥離の対象となる1個のチップ1のみを選択的に吸着、保持できるようになっている。
次に、図13に示すように、吸着駒102を上昇させてその上面をダイシングテープ4の裏面に接触させると共に、前述した吸引口103、溝104および隙間(S)の内部を減圧する。これにより、剥離の対象となるチップ1と接触しているダイシングテープ4がブロック110a〜110cの上面に密着する。また、このチップ1に隣接する他のチップ1と接触しているダイシングテープ4が吸着駒102の上面周辺部に密着する。なお、このとき、吸着駒102を僅かに(例えば400μm程度)突き上げると、前述した押さえ板7とエキスパンドリング8によって水平方向の張力が加えられているダイシングテープ4に対して、さらに張力を加えることができるので、吸着駒102とダイシングテープ4をより確実に密着させることができる。
また、吸着駒102の上昇とほぼ同時に吸着コレット105を下降させ、吸着コレット105の底面を剥離の対象となるチップ1の上面に接触させてチップ1を吸着すると共に、チップ1を下方に軽く押さえ付ける。このように、吸着駒102を使ってダイシングテープ4を下方に吸引する際、吸着コレット105を使ってチップ1を上方に吸引すると、ブロック110a〜110cの突き上げによるダイシングテープ4とチップ1の剥離を促進させることができる。
次に、図14に示すように、3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面に上向きの荷重を加え、チップ1とダイシングテープ4とを押し上げる。また、この際、チップ1の裏面を、ダイシングテープ4を介してブロック110a〜110cの上面(接触面)で支え、チップ1にかかる曲げ応力を軽減するとともに、ブロック110aの上面の外周(角部)を、チップ1の外周よりも内側に配置することにより、チップ1とダイシングテープ4の剥離起点となっている界面に剥離する応力を集中し、チップ1の周縁部をダイシングテープ4から効率的に剥離する。このとき、剥離の対象となるチップ1に隣接する他のチップ1の下方のダイシングテープ4を下方に吸引し、吸着駒102の上面周辺部に密着させておくことにより、チップ1の周縁部におけるダイシングテープ4の剥離を促進させることができる。図15は、このときの吸着駒102の上面近傍を示す拡大斜視図である(チップ1とダイシングテープ4の図示は省略)。
上記ブロック110a〜110cの突き上げ量(ストローク)は、例えば0.7mm程度であるが、チップ1のサイズに応じて増減することが望ましい。すなわち、チップ1のサイズが大きい場合は、チップ1とダイシングテープ4との接触面積が大きく、従って両者の粘着力も大きいので、突き上げ量を増やす必要がある。他方、チップ1のサイズが小さい場合は、チップ1とダイシングテープ4との接触面積が小さく、従って両者の粘着力も小さいので、突き上げ量を少なくしても容易に剥離する。なお、ダイシングテープ4に塗布されている感圧粘着剤は、製造元や品種によって粘着力に差がある。従って、チップ1のサイズが同じ場合でも、粘着力の大きい感圧粘着剤を使用している場合には、突き上げ量を増やす必要がある。
また、ブロック110a〜110cを上方に突き上げてチップ1の裏面に荷重を加える際は、チップ1の最外周部において、チップの外周と直交する方向への曲げ応力を、チップの外周と平行な方向への曲げ応力より小さくすることが望ましい。チップ1の最外周部は、前述したダイシングブレード6を使ってウエハ1Aをダイシングした際に生じた微細なクラックが残留している。そのため、ブロック110a〜110cを上方に突き上げた際にチップ1の最外周部に、チップ1の外周と直交する方向に沿った強い曲げ応力が加わると、クラックが成長してチップ1が割れる恐れがある。本実施の形態では、チップ1のサイズより一回り小さい上面を有するブロック110aを使って、チップ1の最外周部より僅かに内側に均等な荷重を加えるので、上記のような問題を回避しつつ、チップ1の周縁部全体をダイシングテープ4から均等に剥離することができる。
3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げるには、図16に示すように、プッシャ112を上方に押し上げることによって、プッシャ112に連結された内側のブロック110cを押し上げる。これにより、内側ブロック110cと中間のブロック110bとの間に介在する圧縮コイルばね111bのばね力によって中間のブロック110bが押し上げられ、さらに外側のブロック110aと中間のブロック110bとの間に介在する圧縮コイルばね111aのばね力によって外側のブロック110aが押し上げられるので、3個のブロック110a〜110cが同時に押し上げられる。そして、外側のブロック110aの一部(図の矢印で示す面)が吸着駒102の周辺部と接触することによって、ブロック110a〜110cの上昇が停止する。このとき、剥離の対象となるチップ1の大部分の領域は、3個のブロック110a〜110cの上面によって支えられており、ブロック110aの上面の外周(角部)よりも外側の領域において、チップ1とダイシングテープ4との界面での剥離が効率的に進行する。
3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げる際は、ばね力が弱い圧縮コイルばね111aが収縮しないような弱い力でプッシャ112がブロック110cを押し上げる。このようにすると、外側のブロック110aの一部が吸着駒102の周辺部と接触した後に、中間のブロック110bと内側のブロック110cがさらに上方に突き上ることはない。
また、圧縮コイルばね111aは、少なくともダイシングテープ4の張力に抗してブロック110aを持ち上げることができる程度のばね力を備えている必要がある。圧縮コイルばね111aのばね力がダイシングテープ4の張力よりも小さい場合は、プッシャ112を押し上げても外側のブロック110aが持ち上がらないので、外側のブロック110aの上面によってチップ1を支えることができなくなる。この場合は、チップ1とダイシングテープ4との剥離起点に十分な応力を集中させることができないので、剥離速度の低下を招いたり、チップ1に過大な曲げ応力が加わってチップ1が割れてしまうといった問題を引き起こす可能性がある。
次に、図17に示すように、中間のブロック110bと内側のブロック110cとを同時に上方に突き上げてダイシングテープ4を押し上げる。これにより、チップ1を支えるブロック110bの上面の外周(角部)の位置が、ブロック110aによって支えられていた状態に比較して、より内側に移るため、チップ1とダイシングテープ4との剥離がブロック110bの上面の外周より外側の領域からチップ1の中心方向へと進行する。図18は、このときの吸着駒102の上面近傍を示す拡大斜視図である(チップ1とダイシングテープ4の図示は省略)。
2個のブロック110b、110cを同時に上方に突き上げるには、図19に示すように、プッシャ112を押し上げることによって、プッシャ112に連結されたブロック110cをさらに押し上げる。このとき、圧縮コイルばね111bのばね力によって中間のブロック110bが押し上げられるので、2個のブロック110b、110cが同時に押し上げられる。そして、中間のブロック110bの一部(図の矢印で示す面)が外側のブロック110aと接触した時点でブロック110b、110cの上昇が停止する。また、プッシャ112がブロック110cを押し上げる力は、ばね力が弱い圧縮コイルばね111aは収縮するが、ばね力が強い圧縮コイルばね111bは収縮しない大きさとする。これにより、中間のブロック110bの一部が外側のブロック110aと接触した後、内側のブロック110cがさらに上方に突き上ることはない。
2個のブロック110b、110cを上方に突き上げる際には、チップ1とダイシングテープ4との剥離を促進させるために、ブロック110a〜110cの隙間(S)の内部を減圧することによって、チップ1と接触しているダイシングテープ4を下方に吸引する。また、溝104の内部を減圧し、吸着駒102の上面周辺部に接するダイシングテープ4を吸着駒102の上面に密着させる(図17)。
次に、図20に示すように、内側のブロック110cをさらに上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面を押し上げ、ブロック110cの上面でチップ1の裏面を支える。図21は、このときの吸着駒102の上面近傍を示す拡大斜視図である(チップ1とダイシングテープ4の図示は省略)。内側のブロック110cを上方に突き上げるには、図22に示すように、圧縮コイルばね111bが収縮するような強い力でブロック110cを押し上げる。これにより、ダイシングテープ4と接触しているブロック110cの上面の外周(角部)よりも外側の領域において、チップ1とダイシングテープ4との剥離が進行する。
続いて、図23に示すように、ブロック110cを下方に引き下げると共に、吸着コレット105を上方に引き上げることにより、チップ1をダイシングテープ4から剥がす作業が完了する。
上記ブロック110cの上面は、ブロック110cを上方に突き上げた際、吸着コレット105の吸引力だけでチップ1がダイシングテープ4から剥がれる程度に面積を小さくしておく必要がある。ブロック110cの上面の面積が大きいと、チップ1とダイシングテープ4との接触面積が大きくなり、両者の粘着力も大きくなるので、吸着コレット105がチップ1を吸引する力だけではチップ1をダイシングテープ4から剥がせない。
一方、ブロック110cの上面の面積を小さくした場合は、ブロック110cがダイシングテープ4の裏面を押し上げる際、チップ1の狭い領域(中央部分)に強い荷重が集中的に加わるので、極端な場合にはチップ1が割れる恐れがある。そこで、ブロック110cを突き上げる際は、突き上げ速度を遅くしたり、ブロック110cの上面がダイシングテープ4と接触している時間を短くしたり、ブロック110cの突き上げ量(ストローク)を少なく(例えば0.2mm〜0.4mm程度)したりすることによって、チップ1の狭い領域に強い荷重が加わらないようにすることが望ましい。
また、吸着コレット105の吸引力を大きくする一つの方法として、吸着コレット105の引き上げ速度を遅くすることが有効である。チップ1の一部がダイシングテープ4に密着した状態で吸着コレット105を急速に引き上げると、吸着コレット105の底面とチップ1の上面とに隙間が生じ、吸着コレット105の内部の真空度が低下するので、チップ1を吸引する力が低下してしまう。他方、吸着コレット105の引き上げ速度を遅くした場合は、チップ1をダイシングテープ4から剥がすのに要する時間が長くなる。そこで吸着コレット105の引き上げ速度を可変にし、引き上げ開始時には引き上げ速度を遅くして吸引力を充分確保し、チップ1とダイシングテープ4との接触面積がある程度まで小さくなったら引き上げ速度を速くして剥離時間の遅延を防ぐようにするとよい。また、吸着コレット105の底面の面積をブロック110cの上面の面積より大きくすることも、吸着コレット105の吸引力を大きくする有効な方法である。
このように、吸着コレット105の吸引力を大きくすることにより、チップ1とダイシングテープ4との接触面積が比較的大きい場合であっても、吸着コレット105の吸引力だけでチップ1をダイシングテープ4から剥がすことが可能となるので、剥離時間を短縮することができると共に、ブロック110cの上面の面積を小さくした場合に生じる上記の問題を回避することができる。
また、チップ1が吸着コレット105によって下方に押さえ付けられた状態でブロック110cを下方に引き下げると、吸着コレット105も下方に移動するために、チップ1がブロック110cに当たって割れる恐れがある。従って、ブロック110cを下方に引き下げる際は、その直前に吸着コレット105を引き上げるか、少なくとも吸着コレット105が下方に移動しないように、その位置を固定しておくことが望ましい。
このようにして、ダイシングテープ4から剥離されたチップ1は、吸着コレット105に吸着、保持されて次工程(ペレット付け工程)に搬送される。そして、チップ1を次工程に搬送した吸着コレット105がチップ剥離装置100に戻ってくると、前記図12〜図23に示した手順に従って、次のチップ1がダイシングテープ4から剥がされる。以後、同様の手順に従ってチップ1が1個ずつダイシングテープ4から剥がされる。
図24に示すように、ペレット付け工程に搬送されたチップ1は、接着剤10などを介して配線基板11上に実装され、Auワイヤ12を介して配線基板11の電極13と電気的に接続される。
次に、図25に示すように、配線基板11上に実装されたチップ1の上に接着剤10などを介して第2のチップ14が積層され、Auワイヤ15を介して配線基板11の電極16と電気的に接続される。第2のチップ14は、チップ1と異なる集積回路が形成されたシリコンチップであり、前述した方法でダイシングテープ4から剥がされた後、ペレット付け工程に搬送されてチップ1の上に積層される。
その後、配線基板11をモールド工程に搬送し、図26に示すように、チップ1、14をモールド樹脂17で封止することによって、積層パッケージ18が完成する。
なお、本実施の形態では、剥離の対象となるチップ1が外側のブロック110aよりも一回り大きい場合について説明したが、例えば図27(a)に示すように、剥離の対象となるチップ1が外側のブロック110aより小さく、中間のブロック110bより大きい場合には、図27(b)に示すように、まず中間のブロック110bを突き上げてチップ1の周縁部をダイシングテープ4から剥がし、次に、図27(c)に示すように、内側のブロック110cを突き上げてチップ1の中央部をダイシングテープ4から剥がすこともできる。この場合は、例えば吸着駒102と外側のブロック110aとの間にスペーサを挟んでおき、プッシャ112を押し上げても外側のブロック110aが持ち上がらないようにしておく。
なお、本実施の形態では、3個のブロック(110a〜110c)を使ってチップを剥離する方法を説明したが、ブロックの数は3個に限定されるものではなく、剥離の対象となるチップ1のサイズが大きい場合には、4個以上のブロックを使ってもよい。また、剥離の対象となるチップ1のサイズが非常に小さい場合には、2個のブロックを使ってもよい。
(実施の形態2)
前記実施の形態1では、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げることによって、チップ1とダイシングテープ4とを剥離する方法を採用している。
これに対し、本実施の形態では、図28に示すように、まず最初に、3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げることによって、チップ1の周縁部全体をダイシングテープ4から均等に剥がした後、図29に示すように、外側のブロック110aを下げることによって、チップ1とダイシングテープ4との剥離をチップ1の中心方向へ進行させる。そして最後に、図30に示すように、中間のブロック110bを下げ、チップ1とダイシングテープ4との剥離をチップ1の中心方向へさらに進行させることによって、チップ1をダイシングテープ4から完全に剥がす。
上記した方法は、前記実施の形態1に較べてブロック110a〜110cの突き上げ量(ストローク)が少なく済む反面、中間のブロック110bと内側のブロック110cとがダイシングテープ4に及ぼす張力が小さくなる。従って、例えばチップ1のサイズが大きい場合や、ダイシングテープ4に塗布されている感圧粘着剤の粘着力が強い場合など、ダイシングテープ4を吸着駒102によって下方に吸引する力や、チップ1を吸着コレット105によって上方に吸引する力に較べて、チップ1とダイシングテープ4との粘着力が相対的に大きい場合には、チップ1の剥離が困難になる。
また、上記した方法は、3個のブロック110a〜110cを上下動させる駆動機構が複数系統必要となるので、吸着駒102の構造が複雑になる。
(実施の形態3)
前記実施の形態1では、剥離の対象となるチップ1が正方形である場合について説明したが、縦と横の長さが異なる長方形のチップ1を剥離する場合には、例えば図31に示すように、大きさが異なる3個の長方形のブロック210a〜210cを使用する。これにより、チップ1にかかる曲げ応力を軽減しながら、チップ1とダイシングテープ4との剥離起点に応力を集中させ、効率的に剥離を進行させることができる。このとき、最も径の大きい外側のブロック210aは、剥離の対象となるチップ1よりも一回り径の小さいものを使用し、チップ1の最外周部に強い荷重がかからないようにすることが望ましい。
長方形のブロック210a〜210cを使用してチップ1を剥離する場合は、まず図32(a)に示すように、3個のブロック210a〜210cを同時に上方に突き上げ、次に図32(b)に示すように、中間のブロック210bと内側のブロック210cをさらに上方に突き上げ、最後に図32(c)に示すように、内側のブロック210cをさらに上方に突き上げればよい。あるいは、前記実施の形態2のように、3個のブロック210a〜210cを同時に上方に突き上げた後、外側のブロック210aを下げ、次に中間のブロック210bを下げる方法を採用してもよい。
図33は、5つの長方形のブロックを平行に並べてブロック310a〜310cを構成した例であり、中央の1つのブロックが内側のブロック310cを構成し、その両側の2つのブロックが中間のブロック310bを構成し、最も外側の2つのブロックが外側のブロック310aを構成している。
このブロック310a〜310cを使用してチップ1を剥離する場合は、まず図34(a)に示すように、5個のブロック310a〜310cを同時に上方に突き上げ、次に図34(b)に示すように、中間の2個のブロック310bと内側の1個のブロック310cをさらに上方に突き上げ、最後に図34(c)に示すように、内側の1個のブロック310cをさらに上方に突き上げる。あるいは、前記実施の形態2のように、ブロック310a〜310cを同時に上方に突き上げた後、外側のブロック310aを下げ、次に中間のブロック310bを下げてもよい。
この例では、ブロック310a〜310cの長辺の長さが同じであるために、チップ1の全体に均等な荷重を加えることができず、特に内側のブロック310cがチップ1の短辺側周縁部に大きな荷重を及ぼす畏れがあるために、チップ1のサイズが大きい場合や、ダイシングテープ4に塗布されている感圧粘着剤の粘着力が強い場合は、チップ1が割れ易くなるので注意を要する。また、内側のブロック310cの面積が図31に示した例に較べて大きくなるので、例えばブロック310cの上面外周(角部)にフィレットを形成するなどして面積を小さくすることにより、チップ1をダイシングテープ4から剥がし易くすることが望ましい。
内側のブロック310cの面積を小さくする方法としては、例えば図35に示すように、ブロック310cの中央部に切り欠き溝311を設けたり、例えば図36に示すように、ブロック310cの中央部の幅を両端部の幅よりも狭くしたりする方法もある。
図37は、外側のブロック410aの内側に3つの矩形のブロックを並べた例である。3つの矩形のブロックは、長方形のチップ1の長辺方向に沿って並べられており、真ん中の1個が内側のブロック410c、その両側の2個が中間のブロック410bをそれぞれ構成している。
このブロック410a〜410cを使用してチップ1を剥離する場合は、まず図38(a)に示すように、4個のブロック410a〜410cを同時に上方に突き上げ、次に図38(b)に示すように、中間の2個のブロック410bと内側の1個のブロック410cをさらに上方に突き上げ、最後に図38(c)に示すように、内側の1個のブロック410cをさらに上方に突き上げる。あるいは、前記実施の形態2のように、4個のブロック410a〜410cを同時に上方に突き上げた後、外側のブロック410aを下げ、次に中間の2個のブロック410bを下げる方法を採用してもよい。
この例では、図38(a)に示す工程と図38(b)に示す工程でチップ1の大部分が剥離され、図38(c)に示す工程でチップ1の割れを防ぐ最小面積の領域が剥離される。中間のブロック410bと内側のブロック410cは、上面の面積を同じにしておくと、ブロック410b、ブロック410cの加工が容易になる。
(実施の形態4)
図39は、本実施の形態で使用する吸着駒502の断面図、図40は、この吸着駒502の上面近傍の拡大斜視図である。
吸着駒502の中心部には、ブロック510aが配置されており、ブロック510aの内側には、このブロック510aよりも径の小さい振動ブロック510bが配置されている。
吸着駒502の上面の周辺部には、複数の吸引口503と、同心円状に形成された複数の溝504とが設けられている。前記実施の形態1の吸着駒102と同様、吸引口503および溝504のそれぞれの内部は、吸着駒502を上昇させてその上面をダイシングテープ4の裏面に接触させる際、図示しない吸引機構によって減圧される。これによって、ダイシングテープ4の裏面が下方に吸引され、吸着駒502の上面と密着する。
外側のブロック510aは、前記実施の形態1の吸着駒102に組み込まれた3個のブロック110a〜110cのうち、最も径の大きい外側のブロック110aとほぼ同様の構造、機能を有している。ブロック510aの寸法は、剥離の対象となるチップ1の寸法より少し(例えば約0.5mm〜3mm程度)小さいことが望ましいが、チップ1の寸法より3mm以上小さいもの、あるいは逆にチップ1の寸法より大きいものであってもよい。また、ブロック510aの上面の形状は、チップ1が正方形である場合には正方形とし、チップ1が長方形である場合には、長方形とすることが望ましい。
図41は、上記ブロック510aの内側に配置された振動ブロック510bの外形を示す側面図である。振動ブロック510bは、円柱状の振動子512とその一端部に固定された共鳴部513とで構成されている。共鳴部513は、その内部に組み込まれた圧電素子514から発生する縦振動を共鳴させてその振幅を増幅する部分であり、振動子512は、共鳴部513で増幅された縦振動に共振して振動する部分である。振動子512は、その先端部がダイシングテープ4の下面に接触することにより、ダイシングテープ4に対して縦方向(ダイシングテープ4の下面に垂直な方向)の振動を印加する。
上記振動子512の好ましい発振周波数は1kHz〜100kHzの範囲、振幅は1μm〜50μmの範囲である。周波数が1kHz未満でもチップ1の剥離は可能であるが、剥離に長時間を要するので実用的でない。同様に、振幅が1μm未満でも剥離は可能であるが、剥離に長時間を要する。一方、周波数が100kHzを超えると、振動エネルギーによるダイシングテープ4の発熱量が増えるなどの副作用が顕在化する。また、振幅が50μmを超えると、特にチップ1が極めて薄い場合には、割れが発生したり、集積回路がダメージを受けたりする。本実施の形態では、振動子512の発振周波数を60kHz、振幅を20μmに設定する。
このように、本実施の形態の吸着駒502には、2個のブロック(ブロック510a、振動ブロック510b)が組み込まれている。そして、ブロック510aの内側に配置された振動ブロック510bがダイシングテープ4に対して縦方向の振動を印加するように構成されている。
ブロック510aと振動ブロック510bを上方に突き上げる機構は、前記実施の形態1で説明した機構と基本的に同じである。すなわち、ブロック510aと振動ブロック510bとを同時に上方に突き上げるには、図42に示すように、振動ブロック510bに連結された駆動機構(図示せず)を使って振動ブロック510bを上方に押し上げる。これにより、振動ブロック510bに固定されたストッパ515とブロック510aとの間に介在する圧縮コイルばね511のばね力によって、ブロック510aも押し上げられる。そして、ブロック510aの一部(図の矢印で示す箇所)が吸着駒502の周辺部と接触することによって、ブロック510aと振動ブロック510bの上昇が停止される。
続いて、図43に示すように、圧縮コイルばね511が収縮するような強い力で振動ブロック510bをさらに押し上げると、振動ブロック510bの上面がブロック510aの上面よりも上方に突き上げられる。そして、ストッパ515の上端部(図の矢印で示す箇所)が吸着駒502の周辺部と接触することによって、振動ブロック510bの上昇が停止される。
次に、上記吸着駒502を使用してチップ1をダイシングテープ4から剥離する方法を図44〜図48を用いて説明する。ここで、剥離の対象となるチップ1は、前記実施の形態1で用いたものと同じ正方形のチップ1である。また、ダイシングテープ4は、前記実施の形態1で用いたものと同じUV硬化型粘着テープである。ブロック510aは、前記実施の形態1のブロック110aと同じく、剥離の対象となるチップ1よりも一回り(例えば約0.5mm〜3mm程度)径の小さいものを使用する。
まず、図44に示すように、剥離の対象となる1個のチップ1(同図の中央部に位置するチップ1)の真下に吸着駒502の中心部(ブロック510aおよび振動ブロック510b)を移動させると共に、このチップ1の上方に吸着コレット105を移動させる。このとき、ブロック510aと振動ブロック510bは、それらの上面の高さが等しくなるように調整しておく。また、この時点では、振動ブロック510bを振動させない。
次に、図45に示すように、吸着駒502を上昇させてその上面をダイシングテープ4の裏面に接触させると共に、吸引口503、溝504および隙間(S)の内部を減圧する。これにより、剥離の対象となるチップ1と接触しているダイシングテープ4がブロック510aと振動ブロック510bのそれぞれの上面に密着する。
次に、図46に示すように、ブロック510aと振動ブロック510bとを同時に上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面に上向きの荷重を加え、チップ1とダイシングテープ4とを押し上げる。また、これと同時に、振動ブロック510bを振動させることによって、ダイシングテープ4に対して縦方向の振動を印加する。
上記のように、ダイシングテープ4の下面に振動ブロック510bを接触させて縦方向の振動を印加すると、チップ1とダイシングテープ4との剥離起点となるチップ1の外周部にこの振動が伝わる。その結果、ブロック510aの上面の外周(角部)より外側の領域において、チップ1とダイシングテープ4との剥離が急速に進行する。
なお、図46に示す工程において、ブロック510aと振動ブロック510bとを同時に上方に突き上げる動作中に、振動ブロック510bによって振動を印可する事も可能である。ブロック510aと振動ブロック510bの上面の高さが等しい状態で、振動ブロック510bを縦方向に振動させると、振動ブロック510bの上面は、ブロック510aの上面に対して、最大で振動の振幅の1/2(10μm)だけ高くなる。そこで、あらかじめ、振動ブロック510bの上面をブロック510aの上面に対して振幅の1/2以上高くした状態で、ブロック510aと振動ブロック510bを上昇させると、振動ブロック510bを縦方向に振動させた時に、振動エネルギーがダイシングテープ4により有効に伝わる。また、あらかじめ、振動ブロック510bの上面をブロック510aの上面に対して0〜振幅の1/2の範囲で高くしておくことにより、ダイシングテープ4に伝わる振動エネルギーの量を微調整することができる。
次に、図47に示すように、振動ブロック510bを振動させながらさらに上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面を押し上げる。これにより、チップ1とダイシングテープ4との剥離がさらに進行し、チップ1とダイシングテープ4との接触領域がチップ1の中心部の狭い領域だけとなるので、チップ1は、吸着コレット105の吸引力だけでダイシングテープ4から剥がれるようになる。
次に、図48に示すように、振動ブロック510bの振動を停止して下方に引き下げると共に、チップ1を吸引した吸着コレット105を上方に引き上げることにより、チップ1をダイシングテープ4から剥がす作業が完了する。
このように、チップ1をダイシングテープ4をから剥がす際、チップ1とダイシングテープ4との接着界面に対して垂直方向の振動を加えることにより、剥離を促進させることができるので、前記実施の形態1のようなブロック110a〜110cの突き上げだけでチップ1をダイシングテープ4をから剥がす方法に較べて、チップ1の剥離作業を迅速に行うことが可能となる。
また、前記実施の形態1のように、3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面に上向きの荷重を加える場合、チップ1とダイシングテープ4との剥離量は、最大でもチップ1の最外周部から内側に向かって0.7mm程度が限界である(UV硬化型粘着テープの場合)。これに対し、本実施の形態のように、ブロック510aと振動ブロック510bを同時に上方に突き上げてダイシングテープ4の裏面に上向きの荷重を加える際に、ダイシングテープ4に対して縦方向の振動を印加する場合は、チップ1とダイシングテープ4との剥離量が、チップ1の最外周部から内側に向かって最大2mm〜3mm程度にまで増加する。
従って、本実施の形態によれば、前記実施の形態1のようなブロック110a〜110cの突き上げだけでチップ1をダイシングテープ4をから剥がす方法に較べて、ブロックの数を減らすことができるので、吸着駒の部品点数を削減することができる。
また、本実施の形態によれば、一回の突き上げ工程で得られるチップ1とダイシングテープ4との剥離量が大きいことから、チップ1のサイズや形状が変わった場合でも、ブロック510aと振動ブロック510bの交換頻度を減らすことができる。すなわち、チップ1のサイズや形状が変わった時にブロックを交換する手間が省けるので、吸着駒の汎用性が向上する。
また、本実施の形態のように、チップ1とダイシングテープ4との接着界面に振動を加えてチップ1の剥離を加速する方式によれば、前記実施の形態1に較べて外側のブロックの突き上げ量(ストローク)を少なくすることができる。これにより、外側のブロックを突き上げた際に、剥離の対象となるチップ1に隣接したチップ1の下部のダイシングテープ4が持ち上げられ、このチップ1が割れてしまう不具合を抑制することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を前記実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
前記実施の形態1〜4では、ダイシングテープがUV硬化型粘着テープである場合について説明したが、実施の形態1〜3で説明した突き上げ方式は、ダイシングテープが非UV硬化型粘着テープである場合にも適用することができる。
また、前記図24に示すように、ダイシングテープから剥がしたチップ1は、接着剤10を介して配線基板11上に実装されるが、あらかじめチップ1の裏面にダイ・アタッチ・フィルム(Die Attach Film)と呼ばれる粘着剤付きテープを貼り付けておき、このダイ・アタッチ・フィルムを加熱してチップ1を配線基板11に接着する方法もある。
この場合は、ウエハの裏面にダイ・アタッチ・フィルムを貼り付け、このダイ・アタッチ・フィルムにダイシングテープを貼り付けた状態でダイシングを行った後、ダイ・アタッチ・フィルム付きチップをダイシングテープから剥離する作業を行う。前記実施の形態1〜3で説明した突き上げ方式は、このようなダイ・アタッチ・フィルム付きチップをダイシングテープから剥離する場合にも適用することができる。
一方、ダイシングテープが非UV硬化型粘着テープの場合は、ブロックの突き上げによってテープから剥離したチップに振動が加わると、チップとテープが再付着してしまうので、振動による剥離速度の向上効果は余り期待できない。従って、前記実施の形態4で説明した突き上げ/振動併用方式の吸着駒を使って、非UV硬化型粘着テープからチップを剥がす場合は、振動ブロック(510b)に振動を印加せず、2個のブロック(ブロック510a、振動ブロック510b)の突き上げだけでチップを剥がせばよい。
また、ダイ・アタッチ・フィルム付きチップのように、弾性率の低い粘着フィルムがチップの裏面に貼り付けられている場合、これに振動を加えると、振動エネルギーの一部が熱エネルギーに変換されて粘着フィルムの温度が上昇する結果、粘着フィルムがさらに低弾性化、高粘着化し、フィルムとダイシングテープとの剥離が困難になる。
そこで、前記実施の形態4で説明した突き上げ/振動併用方式の吸着駒を使って、ダイシングテープからダイ・アタッチ・フィルム付きチップを剥がす場合は、まずブロックの突き上げだけ(またはブロックの突き上げと弱い振動の併用)でフィルムとダイシングテープとを剥離し、フィルムとダイシングテープの接触面積が小さくなった時点で強い振動を印加して剥離を加速すればよい。特に、剥離の対象となるチップのサイズが小さく、フィルムとダイシングテープとの接触面積が小さい場合は、振動エネルギーが熱エネルギーに変換されて粘着剤の温度が上昇する前に剥離が完了するので、前記実施の形態4の突き上げ/振動併用方式を用いた方が、突き上げ単独方式よりも短時間で剥離を行うことができる。
前記実施の形態においては、厚さが数十μmの薄いチップに適用した場合について説明したが、100μm以上の厚いチップに対して本発明を適用してもよい。
チップ1として、例えばフラッシュメモリのように、紫外線の照射によって問題を起こす可能性のあるものを採用した場合には、特に、非UV硬化型粘着テープを使用し、剥離工程に先立って紫外線照射工程を行わないようにすることが望ましい。また、フラッシュメモリを採用した半導体装置は、フラッシュメモリの大容量化のために、チップを積層して搭載する場合があるが、そのような場合に要求されるチップ1の薄型化を実現するためにも、本発明を適用して、剥離工程においてチップ1にかかる曲げ応力を緩和することの必然性は高い。
本発明は、半導体製造工程のうち、粘着テープに貼り付けた半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割した後、それぞれの半導体チップを粘着テープから剥離する工程に適用して有効な技術である。
本発明の一実施の形態である半導体装置の製造に用いる半導体チップの斜視図である。 半導体ウエハの研削工程を示す側面図である。 半導体ウエハにダイシングテープを貼り付ける工程を示す側面図である。 半導体ウエハのダイシング工程を示す側面図である。 半導体ウエハおよびダイシングテープをウエハリングに固定し、その上方に押さえ板を配置すると共に、下方にエキスパンドリングを配置した状態を示す平面図である。 半導体ウエハおよびダイシングテープをウエハリングに固定し、その上方に押さえ板を配置すると共に、下方にエキスパンドリングを配置した状態を示す断面図である。 ダイシングテープをウエハリングを押さえ板とエキスパンドリングで挟むことによってダイシングテープの張力を与えた状態を示す断面図である。 ダイシングテープを貼り付けた半導体チップの剥離方法を説明するチップ剥離装置の要部断面図である。 チップ剥離装置の吸着駒を示す断面図である。 吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップのペレット付け工程を示す配線基板の断面図である。 半導体チップの積層およびワイヤボンディング工程を示す配線基板の断面図である。 半導体チップの樹脂封止工程を示す配線基板の断面図である。 (a)〜(c)は、半導体チップの剥離方法の他の例を説明する吸着駒の上面近傍の断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法の他の例を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法の他の例を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 (a)〜(c)は、図31に示す吸着駒を用いた半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の斜視図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 (a)〜(c)は、図33に示す吸着駒を用いた半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の斜視図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 (a)〜(c)は、図37に示す吸着駒を用いた半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の斜視図である。 本発明の他の実施の形態である吸着駒の断面図である。 図39に示す吸着駒の上面近傍の拡大斜視図である。 図39に示す吸着駒に取り付けられた振動ブロックの外形を示す側面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。 半導体チップの剥離方法を説明する吸着駒の上面近傍の拡大断面図である。
符号の説明
1 半導体チップ
1A 半導体ウエハ
1A’ チップ形成領域
2 ボンディングパッド
3 バックグラインドテープ
4 ダイシングテープ(感圧テープ)
5 ウエハリング
6 ダイシングブレード
7 押さえ板
8 エキスパンドリング
10 接着剤
11 配線基板
12 Auワイヤ
13 電極
14 半導体チップ
15 Auワイヤ
16 電極
17 モールド樹脂
18 積層パッケージ
100 チップ剥離装置
101 ステージ
102 吸着駒
103 吸引口
104 溝
105 吸着コレット
106 吸着口
110a〜110c ブロック
111a、111b 圧縮コイルばね
112 プッシャ
210a〜210c ブロック
310a〜310c ブロック
311 切り欠き溝
410a〜410c ブロック
502 吸着駒
503 吸引口
504 溝
510a ブロック
510b 振動ブロック
511 圧縮コイルばね
512 振動子
513 共鳴部
514 圧電素子
515 ストッパ
S 隙間

Claims (25)

  1. 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
    前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
    前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
    前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
    前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  3. 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記第1および第2の上面の面積が前記半導体チップの面積より小さいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  5. 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  6. 前記粘着テープに荷重を加える工程において、前記剥離の対象となる半導体チップに隣接する他の半導体チップの裏面上の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記第1の上面および第2の上面は平坦であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  8. 前記半導体チップは、縦と横の長さが異なる長方形であり、前記第1の突き上げブロックの前記上面は、縦と横の長さが異なる長方形であることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
  9. 前記第1の上面の曲率半径および前記第2の上面の曲率半径は、それぞれの上面の角部の曲率半径に比較して大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  10. 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ時間は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ時間よりも短いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  11. 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ速度は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ速度よりも遅いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  12. 前記複数の突き上げブロックを用いて前記粘着テープに荷重を加える際、前記半導体チップを吸着、保持する前記吸着コレットを前記半導体チップの上面に押し付けることによって、前記半導体チップに下向きの荷重を加えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  13. 前記第2の上面を突き上げる工程の後、前記半導体チップを吸着、保持している前記吸着コレットを上方に引き上げ、次いで前記第2の突き上げブロックを下方に下げることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
  14. 前記第2の上面の一部に切り欠き溝が設けられていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
  15. 前記第2の上面の形状が長方形であり、前記上面の中央部の幅が他部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
  16. 前記半導体チップの上面と前記吸着コレットとが接触する部分の面積を、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面の面積より大きくすることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  17. 前記第2工程の後、前記半導体チップを前記吸着コレットの吸引力で上方に引き上げる第3工程と、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面を下方に下げる第4工程とをさらに有し、
    前記第3工程を前記第4工程に先立って行うことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  18. 前記第3工程において、前記半導体チップを上方に引き上げる速度を可変にすることを特徴とする請求項17記載の半導体装置の製造方法。
  19. 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
    前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重と振動とを加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
    第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、
    前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部と、発振手段とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
    前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
    前記第1工程の後、または前記第1工程と同時に、前記第2の突き上げブロックを振動させることによって、前記粘着テープに振動を加える第2工程と、
    前記第2工程の後、前記第2の突き上げブロックを振動させながら、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第3工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  20. 前記振動は、前記粘着テープの面に対して垂直方向の縦振動であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
  21. 前記振動の周波数は1kHz〜100kHzの範囲であり、振幅は1μm〜50μmの範囲であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
  22. 前記第1工程において、前記第2の上面の高さは、前記第1の上面の高さよりも、前記縦振動の振幅の1/2以上高いことを特徴とする請求項20記載の半導体装置の製造方法。
  23. 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
  24. 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
  25. 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。

JP2004200101A 2003-09-17 2004-07-07 半導体装置の製造方法 Expired - Fee Related JP4574251B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004200101A JP4574251B2 (ja) 2003-09-17 2004-07-07 半導体装置の製造方法
TW093126528A TW200512847A (en) 2003-09-17 2004-09-02 Method of manufacturing semiconductor device
KR1020040074158A KR101244482B1 (ko) 2003-09-17 2004-09-16 반도체 장치의 제조 방법
US10/942,889 US7115482B2 (en) 2003-09-17 2004-09-17 Method of manufacturing semiconductor device
CN2008101357379A CN101320678B (zh) 2003-09-17 2004-09-17 制造半导体器件的方法
CNB2004100797049A CN100495650C (zh) 2003-09-17 2004-09-17 制造半导体器件的方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003324838 2003-09-17
JP2004200101A JP4574251B2 (ja) 2003-09-17 2004-07-07 半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005117019A true JP2005117019A (ja) 2005-04-28
JP4574251B2 JP4574251B2 (ja) 2010-11-04

Family

ID=34277750

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004200101A Expired - Fee Related JP4574251B2 (ja) 2003-09-17 2004-07-07 半導体装置の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7115482B2 (ja)
JP (1) JP4574251B2 (ja)
KR (1) KR101244482B1 (ja)
CN (2) CN101320678B (ja)
TW (1) TW200512847A (ja)

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007042996A (ja) * 2005-08-05 2007-02-15 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
WO2007026497A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Shibaura Mechatronics Corporation 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2007109680A (ja) * 2005-10-11 2007-04-26 Shinkawa Ltd ダイピックアップ装置
JP2007109936A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法
JP2007115934A (ja) * 2005-10-21 2007-05-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品突き上げ装置及び電子部品の供給方法
JP2007158103A (ja) * 2005-12-06 2007-06-21 Shibuya Kogyo Co Ltd チップ突き上げ装置
JP2007201259A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装装置
JP2008004936A (ja) * 2006-06-19 2008-01-10 Samsung Electronics Co Ltd 一対のイジェクタを具備する半導体チップの脱着装置及びこれを利用した半導体チップの脱着方法
JP2008141068A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Shibaura Mechatronics Corp 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2009004403A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
US7629231B2 (en) 2006-05-23 2009-12-08 Renesas Technology Corp. Fabrication method of semiconductor device
JP2009289785A (ja) * 2008-05-27 2009-12-10 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP2010114441A (ja) * 2008-11-05 2010-05-20 Esec Ag ダイエジェクタ
JP2010135544A (ja) * 2008-12-04 2010-06-17 Canon Machinery Inc 剥離装置及び剥離方法
JP2010212509A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Shibaura Mechatronics Corp 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
US7888141B2 (en) 2007-06-19 2011-02-15 Renesas Electronics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
JP2012039153A (ja) * 2011-11-09 2012-02-23 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置の製造方法
US20130071956A1 (en) * 2011-09-19 2013-03-21 Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. Die Bonder and Bonding Method
JP2013214739A (ja) * 2012-03-30 2013-10-17 Vesi Switzerland Ag 金属箔から半導体チップを剥離する方法
JP2013219403A (ja) * 2013-08-02 2013-10-24 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP2015198251A (ja) * 2014-04-01 2015-11-09 プロテック カンパニー リミテッドProtec Co., Ltd. チップデタッチング装置およびチップデタッチング方法
WO2016151911A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 リンテック株式会社 半導体加工用シートおよび半導体装置の製造方法
JP2018120938A (ja) * 2017-01-25 2018-08-02 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
KR20200105753A (ko) 2019-03-01 2020-09-09 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
JP2020161534A (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP2021016004A (ja) * 2020-11-18 2021-02-12 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP2021077686A (ja) * 2019-11-06 2021-05-20 株式会社ディスコ ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置
KR20210108306A (ko) 2020-02-25 2021-09-02 파스포드 테크놀로지 주식회사 다이 본딩 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 및 박리 장치
WO2022123645A1 (ja) * 2020-12-08 2022-06-16 株式会社新川 半導体ダイのピックアップ装置
JP7333807B2 (ja) 2020-11-04 2023-08-25 サムス カンパニー リミテッド ボンディング設備におけるダイ移送のための装置及び方法
JP7549095B2 (ja) 2022-12-26 2024-09-10 梭特科技股▲分▼有限公司 押出手段と気圧制御手段を組み合わせるダイの剥離方法

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4270212B2 (ja) * 2005-03-29 2009-05-27 セイコーエプソン株式会社 基板間隔調整装置、基板間隔調整方法、および液晶表示装置の製造方法
TWI339358B (en) * 2005-07-04 2011-03-21 Hitachi Ltd Rfid tag and manufacturing method thereof
JP2007142128A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Renesas Technology Corp 半導体装置およびその製造方法
CN1975995B (zh) * 2005-11-30 2010-09-29 嘉盛马来西亚公司 用于将单切单元传输到收集器中的设备和方法
JP4777761B2 (ja) * 2005-12-02 2011-09-21 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
US20120087774A1 (en) * 2006-01-27 2012-04-12 Camtek Ltd Diced Wafer Adaptor and a Method for Transferring a Diced Wafer
US7557036B2 (en) * 2006-03-30 2009-07-07 Intel Corporation Method, system, and apparatus for filling vias
US7412892B1 (en) 2007-06-06 2008-08-19 Measurement Specialties, Inc. Method of making pressure transducer and apparatus
US7757742B2 (en) * 2007-07-31 2010-07-20 Asm Assembly Automation Ltd Vibration-induced die detachment system
WO2009109447A2 (de) * 2008-02-29 2009-09-11 Oerlikon Assembly Equipment Ag, Steinhausen Chip-auswerfer
CH699851A1 (de) * 2008-11-05 2010-05-14 Esec Ag Chip-Auswerfer und Verfahren zum Ablösen und Entnehmen eines Halbleiterchips von einer Folie.
WO2010054957A1 (de) * 2008-11-12 2010-05-20 Esec Ag Verfahren zum ablösen und entnehmen eines halbleiterchips von einer folie
JP2011129740A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハ分割装置およびレーザー加工機
CN101740451B (zh) * 2009-12-23 2011-12-07 广东志成华科光电设备有限公司 芯片分拣设备的顶针机构
JP2011216529A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体装置の製造方法
US8409925B2 (en) * 2011-06-09 2013-04-02 Hung-Jen LEE Chip package structure and manufacturing method thereof
JP2013065757A (ja) * 2011-09-20 2013-04-11 Toshiba Corp 半導体チップのピックアップ方法及び半導体チップのピックアップ装置
JP6086763B2 (ja) * 2013-03-11 2017-03-01 ファスフォードテクノロジ株式会社 コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ
CN103730333B (zh) * 2013-12-23 2016-04-20 华中科技大学 一种多顶针芯片剥离装置
JP6301203B2 (ja) * 2014-06-02 2018-03-28 株式会社ディスコ チップの製造方法
CN104163276A (zh) * 2014-09-04 2014-11-26 无锡市张泾宇钢机械厂 不干胶贴标机的分段式标签分离装置
CN104210719A (zh) * 2014-09-04 2014-12-17 无锡市张泾宇钢机械厂 不干胶贴标机的标签分离装置
US10702670B2 (en) * 2014-09-24 2020-07-07 B. Braun Melsungen Ag Utilization of packaging paper as stabilization device
KR101732074B1 (ko) 2015-09-24 2017-05-02 신진정공 주식회사 투명관체의 유격구조가 형성된 유체 공급관
JP6797569B2 (ja) * 2016-06-13 2020-12-09 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
CN108666257B (zh) * 2017-03-31 2021-03-09 日月光半导体制造股份有限公司 元件剥离装置及元件剥离方法
JP6967411B2 (ja) * 2017-09-19 2021-11-17 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置、半導体装置の製造方法およびコレット
JP7112205B2 (ja) * 2018-02-13 2022-08-03 株式会社ディスコ 分割装置
KR102165569B1 (ko) * 2018-10-15 2020-10-14 세메스 주식회사 다이 이젝팅 장치
CH715447B1 (de) * 2018-10-15 2022-01-14 Besi Switzerland Ag Chip-Auswerfer.
KR102220339B1 (ko) * 2019-05-29 2021-02-25 세메스 주식회사 다이 이젝팅 장치
KR102284150B1 (ko) * 2019-08-06 2021-07-30 세메스 주식회사 다이 본딩 방법 및 다이 본딩 장치
KR102220344B1 (ko) * 2019-09-06 2021-02-25 세메스 주식회사 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치
KR102221707B1 (ko) * 2019-09-20 2021-03-02 세메스 주식회사 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치
KR102244580B1 (ko) * 2019-11-08 2021-04-26 세메스 주식회사 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치
US11615979B2 (en) * 2019-12-18 2023-03-28 Disco Corporation Method of processing wafer
KR102304258B1 (ko) * 2020-03-06 2021-09-23 세메스 주식회사 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치
KR102177863B1 (ko) * 2020-08-07 2020-11-11 변영기 칩 필름 단계적 박리장치
KR20220119395A (ko) * 2021-02-17 2022-08-29 가부시키가이샤 신가와 반도체 다이의 픽업 장치 및 픽업 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63255937A (ja) * 1987-04-14 1988-10-24 Sumitomo Electric Ind Ltd チツプ実装装置
JPH04196342A (ja) * 1990-11-28 1992-07-16 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体ウエハダイシング用フィルム
JPH05109869A (ja) * 1991-10-18 1993-04-30 Sony Corp ダイボンデイング装置
JPH11297793A (ja) * 1998-04-06 1999-10-29 Mitsubishi Electric Corp チップ突き上げ装置及びそれを用いたダイボンディング装置
JP2003133391A (ja) * 2001-10-23 2003-05-09 Fujitsu Ltd 半導体チップの剥離方法及び装置
JP2004039865A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Fujitsu Ltd 半導体チップ剥離装置およびその方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3613838B2 (ja) * 1995-05-18 2005-01-26 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
JP3955659B2 (ja) * 1997-06-12 2007-08-08 リンテック株式会社 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置
JP2000353710A (ja) 1999-06-14 2000-12-19 Toshiba Corp ペレットピックアップ装置および半導体装置の製造方法
JP2002050670A (ja) * 2000-08-04 2002-02-15 Toshiba Corp ピックアップ装置及びピックアップ方法
JP4021614B2 (ja) * 2000-12-11 2007-12-12 株式会社東芝 半導体素子のピックアップ用治具、半導体素子のピックアップ装置、半導体素子のピックアップ方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
JP3870803B2 (ja) * 2002-01-09 2007-01-24 株式会社村田製作所 チップ部品供給装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63255937A (ja) * 1987-04-14 1988-10-24 Sumitomo Electric Ind Ltd チツプ実装装置
JPH04196342A (ja) * 1990-11-28 1992-07-16 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体ウエハダイシング用フィルム
JPH05109869A (ja) * 1991-10-18 1993-04-30 Sony Corp ダイボンデイング装置
JPH11297793A (ja) * 1998-04-06 1999-10-29 Mitsubishi Electric Corp チップ突き上げ装置及びそれを用いたダイボンディング装置
JP2003133391A (ja) * 2001-10-23 2003-05-09 Fujitsu Ltd 半導体チップの剥離方法及び装置
JP2004039865A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Fujitsu Ltd 半導体チップ剥離装置およびその方法

Cited By (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007042996A (ja) * 2005-08-05 2007-02-15 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
JP4664150B2 (ja) * 2005-08-05 2011-04-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
WO2007026497A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Shibaura Mechatronics Corporation 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
JP5201990B2 (ja) * 2005-08-31 2013-06-05 芝浦メカトロニクス株式会社 半導体チップのピックアップ装置
KR100990418B1 (ko) 2005-08-31 2010-10-29 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 반도체 칩의 픽업 장치 및 픽업 방법
JP2007109680A (ja) * 2005-10-11 2007-04-26 Shinkawa Ltd ダイピックアップ装置
JP4616748B2 (ja) * 2005-10-11 2011-01-19 株式会社新川 ダイピックアップ装置
JP2007109936A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法
KR101218662B1 (ko) 2005-10-14 2013-01-18 파나소닉 주식회사 칩 픽업 장치, 칩 픽업 방법, 칩 박리 장치 및 칩 박리방법
JP2007115934A (ja) * 2005-10-21 2007-05-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品突き上げ装置及び電子部品の供給方法
JP2007158103A (ja) * 2005-12-06 2007-06-21 Shibuya Kogyo Co Ltd チップ突き上げ装置
JP2007201259A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装装置
US8703583B2 (en) 2006-05-23 2014-04-22 Renesas Electronics Corporation Fabrication method of semiconductor device
US7629231B2 (en) 2006-05-23 2009-12-08 Renesas Technology Corp. Fabrication method of semiconductor device
JP2008004936A (ja) * 2006-06-19 2008-01-10 Samsung Electronics Co Ltd 一対のイジェクタを具備する半導体チップの脱着装置及びこれを利用した半導体チップの脱着方法
JP2008141068A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Shibaura Mechatronics Corp 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2009004403A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
US7888141B2 (en) 2007-06-19 2011-02-15 Renesas Electronics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
US8003495B2 (en) 2007-06-19 2011-08-23 Renesas Electronics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
US8492173B2 (en) 2007-06-19 2013-07-23 Renesas Electonics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
US8222050B2 (en) 2007-06-19 2012-07-17 Renesas Electronics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
US8372665B2 (en) 2007-06-19 2013-02-12 Renesas Electronics Corporation Manufacturing method for semiconductor integrated device
JP2009289785A (ja) * 2008-05-27 2009-12-10 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP2010114441A (ja) * 2008-11-05 2010-05-20 Esec Ag ダイエジェクタ
JP2010135544A (ja) * 2008-12-04 2010-06-17 Canon Machinery Inc 剥離装置及び剥離方法
JP2010212509A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Shibaura Mechatronics Corp 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
US20130071956A1 (en) * 2011-09-19 2013-03-21 Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. Die Bonder and Bonding Method
US8727202B2 (en) * 2011-09-19 2014-05-20 Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. Die bonder and bonding method
JP2012039153A (ja) * 2011-11-09 2012-02-23 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP2013214739A (ja) * 2012-03-30 2013-10-17 Vesi Switzerland Ag 金属箔から半導体チップを剥離する方法
JP2013219403A (ja) * 2013-08-02 2013-10-24 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP2015198251A (ja) * 2014-04-01 2015-11-09 プロテック カンパニー リミテッドProtec Co., Ltd. チップデタッチング装置およびチップデタッチング方法
WO2016151911A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 リンテック株式会社 半導体加工用シートおよび半導体装置の製造方法
JP2018120938A (ja) * 2017-01-25 2018-08-02 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
KR20200105753A (ko) 2019-03-01 2020-09-09 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20230042000A (ko) 2019-03-25 2023-03-27 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
CN111739818A (zh) * 2019-03-25 2020-10-02 捷进科技有限公司 半导体制造装置以及半导体器件的制造方法
KR20200115135A (ko) 2019-03-25 2020-10-07 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20240083136A (ko) 2019-03-25 2024-06-11 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
TWI747162B (zh) * 2019-03-25 2021-11-21 日商捷進科技有限公司 半導體製造裝置及半導體裝置之製造方法
KR20210153584A (ko) 2019-03-25 2021-12-17 파스포드 테크놀로지 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
CN111739818B (zh) * 2019-03-25 2024-05-31 捷进科技有限公司 半导体制造装置以及半导体器件的制造方法
US11569118B2 (en) 2019-03-25 2023-01-31 Fasford Technology Co., Ltd. Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method for semiconductor device
JP2020161534A (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP7274902B2 (ja) 2019-03-25 2023-05-17 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP2021077686A (ja) * 2019-11-06 2021-05-20 株式会社ディスコ ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置
JP7486264B2 (ja) 2019-11-06 2024-05-17 株式会社ディスコ ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置
KR20210108306A (ko) 2020-02-25 2021-09-02 파스포드 테크놀로지 주식회사 다이 본딩 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 및 박리 장치
JP7333807B2 (ja) 2020-11-04 2023-08-25 サムス カンパニー リミテッド ボンディング設備におけるダイ移送のための装置及び方法
JP7039675B2 (ja) 2020-11-18 2022-03-22 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP2021016004A (ja) * 2020-11-18 2021-02-12 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
WO2022123645A1 (ja) * 2020-12-08 2022-06-16 株式会社新川 半導体ダイのピックアップ装置
JP7542875B2 (ja) 2020-12-08 2024-09-02 株式会社新川 半導体ダイのピックアップ装置
JP7549095B2 (ja) 2022-12-26 2024-09-10 梭特科技股▲分▼有限公司 押出手段と気圧制御手段を組み合わせるダイの剥離方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI358775B (ja) 2012-02-21
CN101320678B (zh) 2010-04-21
JP4574251B2 (ja) 2010-11-04
US7115482B2 (en) 2006-10-03
CN100495650C (zh) 2009-06-03
CN101320678A (zh) 2008-12-10
CN1599035A (zh) 2005-03-23
US20050059205A1 (en) 2005-03-17
KR101244482B1 (ko) 2013-03-18
TW200512847A (en) 2005-04-01
KR20050028802A (ko) 2005-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4574251B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4664150B2 (ja) 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
KR100638760B1 (ko) 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
JP4864816B2 (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
KR101405768B1 (ko) 반도체장치의 제조방법
JP2004304066A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4624813B2 (ja) 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
WO1996036992A1 (en) Semiconductor device and its manufacture
JP2019125785A (ja) ウェハの処理方法
JP4238669B2 (ja) エキスパンド方法及びエキスパンド装置
JP2004186352A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2005045023A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
US8580070B2 (en) Method of applying an adhesive layer on thincut semiconductor chips of a semiconductor wafer
JP4945339B2 (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JP2009117867A (ja) 半導体装置の製造方法
JP5431533B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP5337226B2 (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JP5647308B2 (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JP2004304067A (ja) 半導体製造装置
JP4335591B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2005057052A (ja) 半導体基板の加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070703

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100326

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100406

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20100528

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100607

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100803

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100818

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4574251

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees